CN115248533A - 运动台系统及光刻设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种运动台系统和一种光刻设备。所述运动台系统包括运动台和与运动台连接的位移测量装置，所述位移测量装置包括至少两个光栅和与各个光栅配合使用的读头；各个光栅具有入光面，至少两个所述光栅的入光面是非平行面，各个光栅沿着运动台的表面伸长，所述位移测量装置通过计算运动台在各个光栅的长度方向上的位移量以及在各个光栅的法线方向上的位移量，进而计算获得运动台在三个以上自由度的位置变化。该运动台系统利用至少两个光栅和对应的读头测量运动台在三个以上自由度的位置变化，有助于提高运动台系统的位置测量能力和模态。所述光刻设备包括上述运动台系统。

Description

运动台系统及光刻设备

技术领域

本发明涉及位移测量技术领域，特别涉及一种运动台系统及光刻设备。

背景技术

随着集成电路朝大规模、高集成度的方向飞跃发展，对光刻机套刻精度的要求也越来越高，为了提高套刻精度，相应地需要提高在获取工件台、掩模台在各个自由度上的位置信息时的测量精度。

传统光刻系统中，获取工件台、掩模台在各个自由度位置信息采用干涉仪测量系统，干涉仪测量系统有较高的测量精度，可达纳米量级，然而，目前干涉仪测量系统的测量精度几乎达到极限，同时测量精度受周围环境影响较大，测量重复精度不高(即便环境很好，重复测量的差值也会超过1nm)，导致采用传统干涉仪测量系统很难满足进一步提高套刻精度的要求。

相比于干涉仪测量系统，光栅尺测量系统的光程较小，且光程与测量范围无关，光栅尺测量系统具有对环境影响不敏感、测量稳定性高、结构简单及易于小型化的特点，使其在纳米级测量领域占据重要的一席之地。在新一代光刻系统中，光栅测量系统已开始逐渐取代干涉仪测量系统。

图1为现有的一种掩模台位移测量装置。掩模台位移测量装置用于测量掩模台的位移，如图1所示，掩模台包括掩模台夹盘800'(Chuck)，掩模台夹盘800'用于夹持用于形成光刻图形的掩模版并带动掩模版运动，所述掩模台夹盘800'具有两个相对的侧壁。该掩模台位移测量装置中，两个二维光栅(如图1所示的第一二维光栅201'、第二二维光栅202')的侧面分别粘接在掩模台夹盘800'的两个相对的侧壁，第一二维光栅201'和第二二维光栅202'均具有用来设置二维排列的衍射单元的二维平面(称为入光面)，且第一二维光栅201'和第二二维光栅202'的入光面与掩模版的掩模面801基本处在同一平面(高度相同)，且第一二维光栅201'和第二二维光栅202'的入光面朝下(如图1中负Z方向)，在第一二维光栅201'和第二二维光栅202'的入光面的正下方分别设置有第一读头101'和第二读头102'，第一读头101'和第一二维光栅201'相互配合可用于测量掩模台夹盘800'沿X轴和Y轴(Y轴与X轴和Z轴垂直，图1未示出)的位移，利用第二读头102'和第二二维光栅202'相互配合可用于测量掩模台夹盘800'沿X轴和Y轴的位移。

但是，上述掩模台位移测量装置存在以下问题：(1)由于二维光栅加工难度相对较大，成本相对较高，上述掩模台位移测量装置的成本较高；(2)该掩模台位移测量装置采用的两个二维光栅和对应的读头的设置，可以测量的掩模台夹盘800'的自由度有限(最多可以测量X、Y、R_Z三个自由度，R_Z表示沿Z轴旋转的旋转自由度)，对掩模台夹盘800'的位置测量能力低；(3)由于第一二维光栅201'和第二二维光栅202'的侧面分别粘接在掩模台夹盘800'的两个相对的侧面，使得掩模台夹盘800'侧面延伸出去的尺寸较大，导致掩模台(此处主要指掩模台夹盘800')的模态较低。

发明内容

为了解决上述进行位移测量时存在的问题，本发明提供一种运动台系统。另外提供一种包括所述运动台系统的光刻设备。

本发明一方面提供一种运动台系统，所述运动台系统包括运动台和与所述运动台连接的位移测量装置，所述位移测量装置包括至少两个光栅和与各个所述光栅配合使用的读头；所述光栅至少具有呈现为一维排列的多个衍射单元以及与所述多个衍射单元共面的入光面；其中，各个所述光栅沿着所述运动台的表面伸长而构成一维维度，至少两个所述光栅的入光面是非平行面，所述位移测量装置通过计算所述运动台在各个所述光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述光栅的法线方向上的位移量，进而计算获得所述运动台在三个以上自由度的位置变化。

可选的，所述运动台位于第一正交坐标系，所述第一正交坐标系的坐标原点O为所述运动台的运动中心，所述第一正交坐标系包括相互正交的X轴、Y轴和Z轴，所述运动台具有分别沿所述X轴、Y轴和/或Z轴的平移自由度，以及具有分别在XZ平面内、YZ平面内和/或XY平面内的旋转自由度。

可选的，所述位移测量装置包括至少两个一维光栅。

可选的，所述位移测量装置包括第一一维光栅、第二一维光栅、第三一维光栅以及分别与所述第一一维光栅、所述第二一维光栅、所述第三一维光栅配合使用的第一读头、第二读头以及第三读头；所述第一一维光栅、所述第二一维光栅和所述第三一维光栅的长度方向均平行于所述Y轴，所述第一一维光栅与所述第二一维光栅的入光面彼此相背且均与所述X轴垂直，所述第三一维光栅的入光面与所述Z轴垂直。

所述位移测量装置利用所述第一读头和所述第一一维光栅获得所述第一一维光栅沿所述Y轴的第一位移量和沿所述X轴的第二位移量，利用所述第二读头和所述第二一维光栅获得所述第二一维光栅沿所述Y轴的第三位移量和沿所述X轴的第四位移量，利用所述第三读头和所述第三一维光栅获得所述第三一维光栅沿所述Y轴的第五位移量和沿所述Z轴的第六位移量；所述运动台沿所述X轴的位移量等于所述第二位移量或所述第四位移量，沿所述Y轴的位移量等于所述第一位移量、所述第三位移量或所述第五位移量，沿所述Z轴的位移量等于所述第六位移量。

可选的，所述运动台在所述XZ平面内的旋转量R_Y、在所述YZ平面内的旋转量R_X、在所述XY平面内的旋转量R_Z满足以下关系式：

R_Y＝d_Z6/L_X，其中，d_Z6为所述第六位移量，L_X为所述第三读头引导的入射激光在所述第三一维光栅的入光面形成的中心点与所述原点O在所述X轴方向上的距离；

R_X＝d_Y5/ΔZ，其中，d_Y5为所述第五位移量，ΔZ为所述第一读头引导的入射激光在所述第一一维光栅的入光面形成的中心点与所述第三读头引导的入射激光在所述第三一维光栅的入光面形成的中心点在所述Z轴向上的距离；

R_Z＝(d_Y1-d_Y3)/ΔX，其中，d_Y1为所述第一位移量，d_Y3为所述第三位移量，ΔX为所述第一一维光栅的入光面与所述第二一维光栅的入光面在所述X轴方向上的间距。

可选的，所述运动台具有相对设置且与所述X轴垂直的第一侧壁和第二侧壁，所述第一一维光栅贴附在所述第一侧壁上或者通过刻蚀所述第一侧壁形成，所述第二一维光栅贴附在所述第二侧壁上或者通过刻蚀所述第二侧壁形成；所述运动台还具有与所述第一侧壁和所述第二侧壁垂直的下表面，所述第三一维光栅贴附在所述下表面上或者通过刻蚀所述下表面形成。

可选的，所述位移测量装置包括第一一维光栅、第二一维光栅、与所述第一一维光栅配合使用的第一读头和第三读头以及与所述第二一维光栅配合使用的第二读头；所述位移测量装置位于第二正交坐标系，所述第二正交坐标系包括相互正交的X'轴、Y'轴和Z'轴以及原点O'，所述Y'轴沿所述第一一维光栅和所述第二一维光栅的长度方向设置，所述Z'轴垂直于所述第一一维光栅的入光面，所述X'轴与所述第二一维光栅的法线方向之间具有小于90度的夹角，所述第一读头和所述第三读头沿所述X'轴的方向具有大于零的第一预设间距；所述第一正交坐标系由所述第二正交坐标系投影转换得到。

可选的，所述第二一维光栅的入光面与所述X'轴垂直；所述位移测量装置利用所述第一读头和所述第一一维光栅获得所述第一一维光栅沿所述Y'轴的第一位移量和沿所述Z'轴的第二位移量，利用所述第二读头和所述第二一维光栅获得所述第二一维光栅沿所述Y'轴的第三位移量和沿所述X'轴的第四位移量，利用所述第三读头和所述第一一维光栅获得所述第一一维光栅沿所述Y'轴的第五位移量和沿所述Z'轴的第六位移量；所述运动台沿所述X'轴的位移量等于所述第四位移量，沿所述Y'轴的位移量等于所述第一位移量、所述第三位移量或所述第五位移量，沿所述Z'轴的位移量等于所述第二位移量或所述第六位移量。

可选的，所述运动台在X'Z'平面内的旋转量R'_Y、在Y'Z'平面内的旋转量R'_X、在X'Y'平面内的旋转量R'_Z满足以下关系式：

R'_Y＝(d_Z2-d_Z6)/ΔX'，其中，d_Z2为所述第二位移量，d_Z6为所述第六位移量，ΔX'为所述第一预设间距；

R'_X＝d_Y1/D_O'A，其中，d_Y1为所述第一位移量，d_Y5为所述第五位移量，D_O'A为所述第一读头引导的入射激光在所述第一一维光栅的入光面形成的中心点与所述原点O'之间的距离；

R'_Z＝d_Y3/D_O'B，其中，d_Y3为所述第三位移量，D_O'B为所述第二读头引导的入射激光在所述第二一维光栅的入光面形成的中心点与所述原点O'之间的距离。

可选的，所述运动台具有与所述第一一维光栅的入光面平行的第一侧壁以及与所述第二一维光栅的入光面平行的第二侧壁；所述第一一维光栅的长度方向与所述第一侧壁的长度方向相同，所述第一一维光栅贴附在所述第一侧壁上或者通过刻蚀所述第一侧壁形成；所述第二一维光栅的长度方向与所述第二侧壁的长度方向相同，所述第二一维光栅贴附在在所述第二侧壁上或者通过刻蚀所述第二侧壁形成。

可选的，所述第一侧壁和所述第二侧壁分别与所述运动台的下表面连接，并与所述运动台的下表面的夹角均为钝角，所述第一侧壁和所述第二侧壁在所述第一正交坐标系中关于Z轴对称。

本发明的运动台系统具有以下技术效果：(1)所述运动台系统的位移测量装置能够测量所述运动台在各个所述光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述光栅的法线方向上的位移量，进而计算获得所述运动台在三个以上自由度的位置变化，对所述运动台位置变化的测量较为全面，可以提高所述运动台系统对所述运动台位置变化的测量能力；(2)相较于现有技术中两个二维光栅从掩模台夹盘侧面延伸出去的技术方案，所述位移测量装置的各个所述光栅沿着所述运动台的表面伸长，有助于提高所述运动台系统的模态。

本发明的另一方面还提供一种光刻设备，所述光刻设备包括上述的运动台系统，其中，所述运动台为掩模台或工件台。

本发明光刻设备包括上述的运动台系统，由于所述光刻设备中的运动台系统的位移测量装置利用至少两个光栅和与各个所述光栅配合使用的读头，能够获得运动台在三个以上自由度的位置变化，有助于提高光刻设备对运动台位置变化的测量能力，可以提高光刻设备的性能。

附图说明

图1为现有的一种掩模台位移测量装置。

图2为本发明实施例一的位移测量装置的结构示意图。

图3a至图3f为本发明实施例一的位移测量装置中读头内反向回射元件的不同结构示意图。

图4为本发明实施例二的运动台系统的结构示意图。

图5为图4中的运动台系统在XZ平面的剖面示意图。

图6为本发明实施例二的运动台系统的系统布局图。

图7为本发明实施例三的运动台系统的结构示意图。

图8为图7中的运动台系统在XZ平面的剖面示意图。

图9为本发明实施例三的运动台系统的系统布局图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明提出的运动台系统及光刻设备作进一步详细说明。根据下面说明，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

需要说明的是，本说明书中实施例采用递进的方式描述，在后实施例的重点在于说明其与在前实施例的不同之处，各个部分之间的相同和相似之处互相参见即可；而且将各个实施例进行结合可以得到更为详细的技术方案。

实施例一

本实施例主要描述本发明的运动台系统采用的位移测量装置的一种具体结构，以及获得其中的光栅(例如一维光栅)在长度方向上的位移量和法线方向上的位移量的方法。图2为本发明一实施例的位移测量装置的结构示意图。如图2所示，所述位移测量装置包括一维光栅200和与所述一维光栅200配合使用的读头100，所述一维光栅具有呈现为一维排列的多个衍射单元以及与所述多个衍射单元共面的入光面，所述位移测量装置通过所述读头100向所述一维光栅200的入光面发射入射激光，得到对应的反馈激光并对所述反馈激光进行处理，获得所述一维光栅200沿所述一维光栅的长度方向上(例如图2中的Y轴向)和沿所述一维光栅的法线方向上(例如图2中的X轴向)的位移量，即利用一维光栅200和读头100实现了对所述一维光栅200的位移量的二维测量。

本实施例中，所述位移测量装置还可以包括激光光源、探测单元和处理单元；所述激光光源用于向所述读头100发射所述入射激光；所述读头100用于接收和引导所述入射激光，使所述入射激光照射到所述一维光栅200上，经过所述一维光栅200的衍射和/或反射，所述读头100输出所述反馈激光；所述探测单元用于检测所述反馈激光并输出所述反馈激光的干涉信号的相位信息；所述处理单元用于接收所述反馈激光的干涉信号的相位信息，并计算处理获得所述一维光栅200沿所述X轴向和在所述Y轴向的位移量。

如图2所示，所述激光光源(图中未示出)可以发出第一入射光束610和第二入射光束611(即入射激光包括第一入射光束610和第二入射光束611)。所述读头100接收和引导第一入射光束610和第二入射光束611平行的照射到所述一维光栅200上，经过所述一维光栅200的衍射和/或反射，所述读头100输出第一反馈激光612和第二反馈激光613。

所述读头100可以包括多个反向回射元件。所述反向回射元件可以改变入射激光束的方向，并输出方向与入射激光束的方向相反的出射激光束，且出射激光束相对于入射激光束偏移一定距离。图3a至图3f为本发明一实施例中读头内反向回射元件的不同结构示意图。所述反向回射元件可以为角锥棱镜(图3a)、直角棱镜(图3b)、猫眼反射器(图3c)、道威棱镜(图3d)、中空回射器(图3e)或光栅反射器(图3f)。

如图2所示，所述读头100输出第一反馈激光612的过程可以如下：所述第一入射光束610和第二入射光束611经所述读头100引导平行的照射到所述一维光栅200的入光面的不同位置，经所述一维光栅200衍射后产生一次衍射光束；所述第二反向回射元件111接收第一入射光束610的+m级一次衍射光束(例如+1级一次衍射光束)，并将其反向回射至一维光栅200，再经所述一维光栅200二次衍射后产生第一入射光束610的+m级二次衍射光束；所述第一反向回射元件110接收第二入射光束611的-n级一次衍射光束(例如-1级一次衍射光束)，并将其反向回射至一维光栅200，再经所述一维光栅200二次衍射后产生第二入射光束611的-n级二次衍射光束；通过将所述第一反向回射元件110和第二反向回射元件111设置在适当的位置，所述第一入射光束610的+m级二次衍射光束和所述第二入射光束611的-n级二次衍射光束至少部分重合且重合部分出射方向一致，形成第一反馈激光612，其中，m和n为衍射级别，例如为±1，±2或±3等。所述第一反馈激光612的干涉信号的相位变化量反映了所述一维光栅200沿所述Y轴向上的位移量。

所述读头100输出所述第二反馈激光613的过程可以如下：所述第一入射光束610和第二入射光束611经所述读头100引导平行的照射到所述一维光栅200的不同位置，经所述一维光栅200衍射后产生均产生一次衍射光束；所述第二反向回射元件111接收所述第一入射光束610的+n级一次衍射光束(例如+1级)，并将其反向回射至一维光栅200，经所述一维光栅200的一次反射进入所述第一反向回射元件110，经所述第一反向回射元件110反向回射至一维光栅200，再经一维光栅200的二次反射产生第一入射光束610的二次反射光束，所述第一入射光束610的二次反射光束照射到反射元件130上；所述第二入射光束611经所述一维光栅200衍射产生+m级一次衍射光束(例如+1级)，所述第二入射光束611的+m级一次衍射光束照射到反射元件130上；通过将所述第一反向回射元件110和第二反向回射元件111设置在适当的位置，所述第一入射光束610的二次反射光束和所述第二入射光束611的+m级一次衍射光束至少部分重合的照射到反射元件130上，且重合部分出射方向一致，经所述反射元件130反射形成第二反馈激光613，其中，m和n为衍射级别，例如为±1，±2或±3等。所述第二反馈激光613的干涉信号的相位变化量反应了所述一维光栅200沿所述X轴向上的位移量。

继续参考图2，所述读头100还可以包括至少一个光束角度控制器。具体的，所述读头100可以包括第一角度控制器700和第二角度控制器701，第一角度控制器700可以设置在第一入射光束610的入射光路上，用于调整第一入射光束610相对于所述一维光栅200的法线方向的入射角；第二角度控制器701可以设置在反向回射元件和所述一维光栅200的光路间，用于调整所述反射回射元件的入射光束或出射光束的角度。

本实施例中，所述探测单元可以包括多个采集器。如图2所示，所述探测单元包括第一采集器410和第二采集器411。作为示例，第一采集器410对第一反馈激光612进行干涉信号的相位采集，并将采集到的相位信息通过第一传输光纤430传输到处理单元500；第二采集器411对第二反馈激光613进行干涉信号的相位采集，并将采集到的相位信息通过第二传输光纤431传输到处理单元500。所述处理单元500可以分别计算出第一反馈激光612和第二反馈激光613的相位变化量，并分别根据设定的关系式计算出所述一维光栅200沿所述X轴向和所述Y轴向的位移量。

具体的，在m＝n的情况下，所述第一反馈激光612的干涉信号的相位变化量与所述一维光栅200沿所述Y轴向上的位移量满足关系式：

其中，

为所述第一反馈激光612的干涉信号的相位变化量，p为所述一维光栅200的相邻两个衍射单元在所述Y轴向上的间距，Δy为所述一维光栅200在所述Y轴向上的位移量，m为衍射级别。

在m＝n的情况下，所述第二反馈激光613的干涉信号的相位变化量与所述一维光栅200在所述X轴向上的位移量满足关系式：

其中，

为所述第二反馈激光612的干涉信号的相位变化量，λ为所述入射激光的波长，θ为所述入射激光(即第一入射光束610和第二入射光束211)接触所述一维光栅后发生的一次衍射的m级衍射角，Δx为所述一维光栅在所述X轴向上的位移量，m为衍射级别。

所述位移测量装置在进行位移测量时，读头100可以输出相对应的两束第二反馈激光，经所述探测单元和所述处理单元处理，可以获得第一一维光栅201在所述X轴向上的两个位移量，若是所述两个位移量的相等，则一维光栅200和所述读头100之间的测量光路受环境的影响较小，测量的准确度相对较高，所述读头100不需要补偿矫正；若是所述两个位移量不相等，则可以补偿环境对测量光路的影响，也可以对所述读头100进行补偿矫正。

另一实施例中，所述读头100可以采用高倍细分结构。所述位移测量装置中的读头100可以包括第一反向回射元件、第二反向回射元件、第三反向回射元件、第四反向回射元件、第一直角反射镜和第二直角反射镜。第一入射光束612和第二入射光束613(即入射激光)进入所述读头100后，经一维光栅200的一次衍射分别形成一次衍射光束，再在上述反向回射元件和直角反射镜的辅助下，经过两次以上的衍射和/或两次反射形成第一反馈激光和第二反馈激光。利用所述读头形成所述反馈激光时，入射激光进行衍射的次数相对较多，可以补偿一维光栅在所述X方向上运动带来的光斑偏离，有助于增大位移测量装置在所述X方向的测量范围。

本实施例中的位移测量装置至少具有以下优点：第一，低成本地实现了一维光栅200在所述X轴向和所述Y轴向的位移量的二维测量；第二，根据每个反馈激光的干涉信号的相位变化信息分别获得对应一维光栅200的位移信息，不需要进行算法解耦；第三，通过使相互分离的第一入射光束610和第二入射光束611平行地接触一维光栅200发生衍射，且对经衍射的第一入射光束610和第二入射光束611进行引导并组合形成对应的反馈激光(第一反馈激光612和第二反馈激光613)，并对所述反馈激光进行处理，获得所述一维光栅200在所述X轴向和所述Y轴向上的位移量，可以消除一维光栅200偏转(例如相对于一维光栅200法线方向的偏转)造成的相干光角度分离，即测量过程具备了宽角度适应能力，有助于减小一维光栅200偏转对干涉信息强度的影响，提高测量精度，此外还有助于提高位移测量装置的角度容差，减小位移测量装置的安装和姿态控制难度；第四，输入读头100的两个入射光束之间相互分离，在测量的过程中，光束不发生相互影响，只在最终干涉前才进行合光，相对于通过同一输入光束易造成频率混叠的测量系统来说，可以极大地减小甚至避免由于共光路结构导致的非线性误差。

实施例二

本实施例主要描述一种运动台系统，所述运动台系统包括运动台和与所述运动台连接的位移测量装置，所述位移测量装置包括至少两个光栅和与各个所述光栅配合使用的读头，所述光栅至少具有呈现为一维排列的多个衍射单元以及与所述多个衍射单元共面的入光面；各个所述光栅沿所述运动台的表面伸长而构成一维维度，至少两个所述光栅的入光面是非平行面，所述位移测量装置通过计算所述运动台在各个所述光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述光栅的法线方向上的位移量，进而计算获得所述运动台在三个以上自由度的位置变化。

本实施例的运动台系统中，所述运动台可以为线性运动台、光刻设备中用来放置基片(如晶圆)的工件台或光刻设备中用来放置掩膜版的掩模台。所述位移测量装置中，每组配合使用的一维光栅和读头可以采用如实施例一描述的原理及结构。

本实施例中，所述位移测量装置可以包括至少两个一维光栅。也就是说，本实施例的光栅可以为一维光栅，各个一维光栅可以沿所述运动台的表面伸长而构成一维维度。另一实施例中，所述光栅还可以为二维光栅，但是在使用时可以仅使用二维光栅中的一个维度。以下以光栅为一维光栅为例对运动台系统进行说明。

图4为本发明实施例二的运动台系统的结构示意图。图5为图4中的运动台系统在XZ平面的剖面示意图。图6为本发明实施例二的运动台系统的系统布局图。如图4、图5和图6所示，所述运动台可以位于第一正交坐标系，所述第一正交坐标系的坐标原点O为所述运动台的运动中心，所述第一正交坐标系可以包括相互正交的X轴、Y轴和Z轴，所述运动台具有分别沿所述X轴、Y轴和/或Z轴的平移自由度，以及具有分别在XZ平面内、YZ平面内和/或XY平面内的旋转自由度。

所述位移测量装置可以包括第一一维光栅201、第二一维光栅202、与所述第一一维光栅201配合使用的第一读头101和第三读头103以及与所述第二一维光栅202配合使用的第二读头102。

如图4和图6所示，所述运动台800可以具有与所述第一一维光栅201的入光面平行的第一侧壁800a以及与所述第二一维光栅202的入光面平行的第二侧壁800b。所述第一一维光栅201的长度方向与所述第一侧壁800a的长度方向可以相同，所述第一一维光栅201可以设置在所述第一侧壁800a上；所述第二一维光栅202的长度方向与所述第二侧壁800b的长度方向可以相同，所述第二一维光栅202可以设置在所述第二侧壁800b上。

为了使得所述运动台800的运动更为平稳，提高设备稳定性，所述第一侧壁800a和所述第二侧壁800b可以分别与所述运动台800的下表面800c连接，并与所述运动台的下表面800c的夹角均为钝角，所述第一侧壁800a和所述第二侧壁800b在所述第一正交坐标系中关于所述Z轴对称，例如所述第一侧壁800a和所述第二侧壁800b与所述下表面800c之间的夹角均可以为135度。

为了增加一维光栅的粘接牢固程度，减小一维光栅的变形量，减小运动台800侧面延伸出去的尺寸，提高所述运动台系统的稳定性、模态以及测量精度，所述第一一维光栅201和所述第二一维光栅202均具有背离入光面的背面；所述第一一维光栅201的背面可以粘接在所述第一侧壁800a上，和/或，所述第二一维光栅202的背面粘接在所述第二侧壁800b上。另一实施例中，所述第一一维光栅201可以通过刻蚀形成在所述第一侧壁800a上，和/或，所述第二一维光栅202可以通过刻蚀形成在所述第二侧壁800b上。

如图5所示，所述位移测量装置可以位于第二正交坐标系，所述第二正交坐标系可以包括相互正交的X'轴、Y'轴(图5中未示出，例如与图4中的Y轴平行)和Z'轴以及原点O'，所述Y'轴可以沿所述第一一维光栅201和所述第二一维光栅202的长度方向设置，所述Z'轴垂直于所述第一一维光栅201的入光面，所述X'轴与所述第二一维光栅202的法线方向之间具有小于90度的夹角(例如所述第二一维光栅202的入光面与所述X'轴垂直)，所述第一读头101和所述第三读头103沿所述X'轴的方向具有大于零的第一预设间距；所述第一正交坐标系可以由所述第二正交坐标系投影转换得到。

本实施例中，所述位移测量装置可以利用所述第一读头101和所述第一一维光栅201获得所述第一一维光栅201沿所述Y'轴的第一位移量d_Y1和沿所述Z'轴的第二位移量d_Z2，可以利用所述第二读头102和所述第二一维光栅202获得所述第二一维光栅202沿所述Y'轴的第三位移量d_Y3和沿所述X'轴的第四位移量d_X4，还可以利用所述第三读头103和所述第一一维光栅201获得所述第一一维光栅201沿所述Y'轴的第五位移量d_Y5和沿所述Z'轴的第六位移量d_Z6。

需要说明的是，本实施例中，各位移量是指一维光栅或运动台沿某一轴向的位置变化矢量。例如，所述第一位移量为第一一维光栅201沿Y'轴的位置变化矢量。

本实施例中位移测量装置利用一维光栅和与其配合使用的读头获得所述运动台800在各个所述一维光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述一维光栅的法线方向上的位移量的方法与实施例一中位移测量装置利用一维光栅200和读头101获得一维光栅200沿一维光栅200的长度方向上和沿一维光栅200的法线方向上的位移量的方法相似，具体可以参看实施例一中的说明。

作为示例，所述位移测量装置还可以包括激光光源、探测单元和处理单元；所述激光光源向所述第一读头101发射两束平行的入射激光，经所述第一读头101的引导，入射激光照射所述第一一维光栅201的入光面上，经过所述第一一维光栅201的衍射和/或反射，通过所述第一读头101输出至少两束反馈激光，所述探测单元和所述处理单元分别对所述两束反馈激光进行检测和处理后，获得所述第一一维光栅201沿所述Y'轴的第一位移量d_Y1和沿所述Z'轴的第二位移量d_Z2。所述位移测量装置利用所述第二读头102和所述第二一维光栅202获得所述第二一维光栅202的第三位移量d_Y3和第四位移量d_X4，以及利用所述第三读头103和所述第一一维光栅201获得所述第一一维光栅201的第五位移量d_Y5和沿所述Z'轴的第六位移量d_Z6的方法与获得第一一维光栅201的第一位移量量d_Y1和第二位移量量d_Z2的方法相似，在此不在赘述。其中，所述第一读头101引导的所述两束平行的入射激光在所述第一一维光栅101的入光面形成两个光斑，以两个光斑的中心点之间的中点作为所述第一读头101引导的入射激光在所述第一一维光栅101的入光面形成的中心点(可称为名义中心)；而且对于每组配合使用的一维光栅和读头，读头引导的入射激光(均包括两束平行的入射激光)在对应的一维光栅的入光面均形成一中心点。

本实施例中，所述位移测量装置可以分别利用所述第一位移量d_Y1、所述第二位移量d_Z2、所述第三位移量d_Y3、所述第四位移量d_X4、所述第五位移量d_Y5和所述第六位移量d_Z6中的至少一个计算出或作为所述运动台800沿所述X'轴、所述Y'轴和所述Z'轴的位移量，以及计算出所述运动台800在X'Z'平面内的旋转量R'_Y、在Y'Z'平面内的旋转量R'_X和在X'Y'平面内的旋转量R'_Z。所述旋转量R'_X、R'_Y、R'_Z可以分别为所述运动台800在所述Y'Z'、X'Z'、X'Y'平面内的旋转弧度。

具体的，所述运动台800沿所述X'轴的位移量可以等于所述第四位移量d_X4，沿所述Y'轴的位移量可以等于所述第一位移量d_Y1、所述第三位移量d_Y3或所述第五位移量d_Y5，沿所述Z'轴的位移量可以等于所述第二位移量d_Z2或所述第六位移量d_Z6。另一实施例中，为了减小测量误差，提高获得的运动台的位置变化的精度，可以采用第一位移量d_Y1、所述第三位移量d_Y3和所述第五位移量d_Y5的均值作为所述运动台800沿所述Y'轴的位移量，可以采用所述第二位移量d_Z2和所述第六位移量d_Z6的均值作为所述运动台800沿所述Z'轴的位移量。

所述X'Z'平面为所述X'轴和所述Z'轴限定出的二维平面，所述Y'Z'平面为所述Y'轴和所述Z'轴限定出的二维平面，所述X'Y'平面为所述X'轴和所述Y'轴限定出的二维平面。

所述运动台800在所述X'Z'平面内的旋转量R'y可以通过所述第二位移量d_Z6和所述第六位移量d_Z6计算获得，所述旋转量R'_Y可以满足以下关系式：R'_Y＝(d_Z2-d_Z6)/ΔX'，其中，d_Z2为所述第二位移量，d_Z6为所述第六位移量，ΔX'为所述第一预设间距(如图5中所示)。

所述运动台800在所述Y'Z'平面内的旋转量R'x可以通过所述第一位移量d_Y1计算获得，所述旋转量R'_X可以满足以下关系式：R'_X＝d_Y1/D_O'A，其中，d_Y1为所述第一位移量，d_O'A为所述第一读头101引导的入射激光在所述第一一维光栅201的入光面形成的中心点A与所述原点O'之间的距离。

另一实施例中，所述运动台800在所述Y'Z'平面内的旋转量R'x可以通过所述第五位移量d_Y5计算获得，所述旋转量R'_X可以满足以下关系式：R'_X＝d_Y5/D_O'A，其中，d_Y5为所述第五位移量，D_O'A为所述第三读头103引导的入射激光在所述第一一维光栅201的入光面形成的中心点与所述原点O'之间的距离。

所述运动台800在所述X'Y'平面内的旋转量R'z可以通过所述第三位移量计算获得，所述旋转量R'_Z可以满足以下关系式：R'_Z＝d_Y3/D_O'B，其中，d_Y3为所述第三位移量，D_O'B为所述第二读头102引导的入射激光在所述第二一维光栅202的入光面形成的中心点B与所述原点O'之间的距离。

本实施例中，所述运动台在所述第一坐标系的X轴、Y轴和Z轴的位移量可以分别由在所述第二坐标系的X'轴、Y'轴和Z'轴的位移量投影转换得到；所述运动台在所述第一坐标系XZ平面内的旋转量R_Y、在YZ平面内的旋转量R_X和在XY平面内旋转量R_Z可以分别由上述的R'_Y、R'_X和R'_Z投影转换得到。本领域技术人员可以采用公知的投影转换方法对两个坐标系的位置变化量进行转化。本实施例中，所述运动台800沿所述Y轴向的位移量可以大于沿所述X轴向和所述Z轴向的位移量。

本实施例中，所述位移测量装置包括两个一维光栅(即第一一维光栅201和第二一维光栅202)和三个读头(即第一读头101、第二读头102和第三读头103)。但不限于此，一实施例中，所述位移测量装置还可以包括第四读头，所述第四读头与所述第二一维光栅202配合使用，所述第二读头102和所述第四读头在所述第二一维光栅202的宽度方向上具有大于零的第二预设间距；所述位移测量装置利用所述第四读头和所述第二一维光栅202可以获得所述第二一维光栅202沿所述Y'轴向的第七位移量和所述X'轴向的第八位移量。增加第四读头可以使得所述位移测量装置获得更多的位置变化信息，所述第七位移量和第八位移量可以用于计算所述运动台800在所述第二正交坐标系内的位移量，例如有助于消除位移测量装置的测量误差，提高所述运动台的位置变化测量精度。

本实施例的运动台系统包括运动台800和与所述运动台800连接的位移测量装置，所述位移测量装置包括至少两个一维光栅(例如第一一维光栅201和第二一维光栅202)和与各个所述一维光栅配合使用的读头(例如第一读头101、第二读头102和第三读头103)；所述一维光栅具有呈现为一维排列的多个衍射单元以及与所述多个衍射单元共面的入光面；其中，各个所述一维光栅沿所述运动台的表面伸长而构成一维维度，至少两个所述一维光栅的入光面是非平行面，所述位移测量装置通过计算所述运动台在各个所述一维光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述一维光栅的法线方向上的位移量，进而计算获得所述运动台在三个以上自由度的位置变化。一方面，所述运动台系统使用至少两个一维光栅和与各个所述一维光栅配合使用的读头对所述运动台的三个以上的自由度的位置变化进行测量，相较于现有技术中使用二维光栅和对应的读头进行位移测量的技术方案，一维光栅的成本低于二维光栅，有助于降低所述运动台系统的成本；另一方面，所述运动台系统的位移测量装置能够测量所述运动台800在六个自由度上的位置变化，对所述运动台800位置变化的测量较为全面，可以提高所述运动台系统对所述运动台800位置变化的测量能力；此外，相较于现有技术中两个二维光栅从掩模台夹盘侧面延伸出去的技术方案(如图1所示)，本实施例中，所述位移测量装置的各个所述一维光栅沿着所述运动台的表面伸长，例如各个一维光栅的背面粘附(粘贴)在运动台800的侧壁上或通过刻蚀在侧壁上形成，可以减小运动台800侧面延伸出去的尺寸，有助于提高所述运动台系统的模态，提高运动台系统的稳定性。

实施例三

本实施例主要描述一种运动台系统，所述运动台系统与实施例二的主要不同之处在于，运动台系统的位移测量装置包括三个一维光栅和与各个所述一维光栅分别对应的三个读头，且各个一维光栅及相应的读头的位置设置也与实施例二不同。本实施例中，所述位移测量装置可直接在运动台所在的第一正交坐标系计算一维光栅的位移量，进而得到所述运动台的位置变化信息。

图7为本发明实施例三的运动台系统的结构示意图。图8为图7中的运动台系统在XZ平面的剖面示意图。图9为本发明实施例三的运动台系统的系统布局图。如图7至图9所示，所述运动台系统包括运动台800和与所述运动台800连接的位移测量装置。

所述运动台800可以位于第一正交坐标系，所述第一正交坐标系的坐标原点O为所述运动台800的运动中心，所述第一正交坐标系包括相互正交的X轴、Y轴和Z轴，所述运动台具有分别沿所述X轴、Y轴和/或Z轴的平移自由度，以及具有分别在XZ平面内、YZ平面内和/或XY平面内的旋转自由度。

本实施例中，所述位移测量装置可以包括第一一维光栅201、第二一维光栅202、第三一维光栅203、与所述第一一维光栅201配合使用的第一读头101、与所述第二一维光栅202配合使用的第二读头102以及所述第三一维光栅203配合使用的第三读头103；所述第一一维光栅201、所述第二一维光栅202和所述第三一维光栅203的长度方向均可以平行于所述Y轴，所述第一一维光栅201与所述第二一维光栅202的入光面可以彼此相背且均与所述X轴垂直，所述第三一维光栅203的入光面可以与所述Z轴垂直。

所述运动台800可以具有相对设置且与所述X轴垂直的第一侧壁800a和第二侧壁800b，所述第一一维光栅201可以设置在所述第一侧壁800a上，所述第二一维光栅202可以设置在所述第二侧壁800b上；所述运动台800还可以具有与所述第一侧壁800a和所述第二侧壁800b垂直的下表面800c，所述第三一维光栅203可以设置在所述下表面800c上。

所述第一一维光栅201、所述第二一维光栅202和所述第三一维光栅可以均具有背离入光面的背面；为了增加一维光栅的粘接牢固程度，减小一维光栅的变形量较小，减小运动台800侧面延伸出去的尺寸，提高所述运动台系统的稳定性及模态，所述第一一维光栅201的背面可以粘接在所述第一侧壁800a上，所述第二一维光栅202的背面可以粘接在所述第二侧壁800b上，和/或，所述第三一维光栅203的背面可以粘接在所述运动台的下表面800c上。另一实施例中，所述第一一维光栅201可以通过刻蚀形成在所述第一侧壁800a上，所述第二一维光栅202可以通过刻蚀形成在所述第二侧壁800b上，和/或，所述第三一维光栅可以通过刻蚀形成在所述运动台的下表面800c上。

所述位移测量装置可以利用所述第一读头101和所述第一一维光栅201获得所述第一一维光栅201沿所述Y轴的第一位移量和沿所述X轴的第二位移量，可以利用所述第二读头102和所述第二一维光栅202获得所述第二一维光栅202沿所述Y轴的第三位移量和沿所述X轴的第四位移量，以及可以利用所述第三读头103和所述第三一维光栅203获得所述第三一维光栅203沿所述Y轴的第五位移量和沿所述Z轴的第六位移量。

所述位移测量装置可以分别利用所述第一位移量、所述第二位移量、所述第三位移量、所述第四位移量、所述第五位移量和所述第六位移量中的至少一个计算出或作为所述运动台沿所述X轴、所述Y轴和所述Z轴的位移量，以及计算出所述运动台在XZ平面内的旋转量R_Y、在YZ平面内的旋转量R_X、和在XY平面内的旋转量R_Z。本实施例中的位移量均为一维光栅或运动台沿某一轴向的位移变化矢量。所述旋转量R_X、R_Y、R_Z可以分别为所述运动台800在所述YZ、XZ、XY平面内的旋转弧度。

具体的，所述运动台800沿所述X轴的位移量可以等于所述第二位移量、所述第四位移量或所述第二位移量和所述第四位移量的均值，沿所述Y轴的位移量可以等于所述第一位移量、所述第三位移量、所述第五位移量或是三者的均值，沿所述Z轴的位移量可以等于所述第六位移量。

所述运动台800在所述XZ平面内的旋转量R_Y可以通过所述第六位移量计算获得，所述旋转量R_Y可以满足以下关系式：R_Y＝d_Z6/L_X，其中，d_Z6为所述第六位移量，L_X为所述第三读头103引导的入射激光在所述第三一维光栅203的入光面形成的中心点与所述原点O在所述X轴方向上的距离(如图8所示)。

所述运动台800在所述YZ平面内的旋转量R_X可以通过所述第一位移量和第五位移量计算获得，所述旋转量R_X可以满足以下关系式：

R_X＝d_Y5/ΔZ，其中，d_Y5为所述第五位移量，ΔZ为所述第一读头101引导的入射激光在所述第一一维光栅201的入光面形成的中心点与所述第三读头103引导的入射激光在所述第三一维光栅203的入光面形成的中心点在所述Z轴向上的距离(如图8所示)。

所述运动台800在所述YZ平面内的旋转量R_Z可以通过所述第一位移量和所述第三位移量计算获得，所述旋转量R_Z可以满足以下关系式：

R_Z＝(d_Y1-d_Y3)/ΔX，其中，d_Y1为所述第一位移量，d_Y3为所述第三位移量，ΔX为所述第一一维光栅201的入光面与所述第二一维光栅202的入光面在所述X轴方向上的间距。

本实施例的运动台系统具有以下技术效果：(1)所述运动台系统使用三个一维光栅和与各个所述一维光栅配合使用的读头对所述运动台800的六个自由度上的位置变化进行测量，相较于现有技术中使用二维光栅和对应的读头进行位移测量的技术方案，一维光栅的成本低于二维光栅，有助于降低所述运动台系统的成本；(2)所述运动台系统的位移测量装置能够测量所述运动台800在各个所述一维光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述一维光栅的法线方向上的位移量，进而计算获得所述运动台800在六个自由度上的位置变化，对所述运动台位置变化的测量较为全面，可以提高所述运动台系统对所述运动台800位置变化的测量能力；(3)相较于现有技术中两个二维光栅从掩模台夹盘侧面延伸出去的技术方案，所述位移测量装置的各个所述一维光栅沿着所述运动台800的表面伸长，有助于提高所述运动台系统的模态。

实施例四

本实施例提供一种光刻设备，所述光刻设备可以包括上述的运动台系统，所述运动台为掩模台或工件台，所述运动台系统包括运动台和与所述运动台连接的位移测量装置，所述位移测量装置包括至少两个一维光栅和与各个所述一维光栅配合使用的读头；所述一维光栅具有呈现为一维排列的多个衍射单元以及与所述多个衍射单元共面的入光面，各个所述一维光栅沿着所述运动台的表面伸长，至少两个所述一维光栅的入光面是非平行面，所述位移测量装置通过计算所述运动台在各个所述一维光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述一维光栅的法线方向上的位移量，进而计算获得所述运动台在三个以上自由度的位移量。

由于一维光栅的成本低于二维光栅，所述光刻设备中的运动台系统的位移测量装置利用至少两个一维光栅和与各个所述一维光栅配合使用的读头，能够获得运动台在三个以上自由度的位置变化，有助于降低所述光刻设备的成本；而且所述运动台系统可以获得运动台在多个自由度上的位置变化，有助于提高光刻设备对运动台位置变化的测量能力，可以提高光刻设备的性能。

需要说明的是，本说明书采用递进的方式描述，在后描述部分重点说明的都是与在前描述部分的不同之处，各个部分之间相同和相似的地方互相参见即可。

上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明权利范围的任何限定，任何本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出可能的变动和修改，因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明技术方案的保护范围。

Claims (13)

1.一种运动台系统，其特征在于，包括运动台和与所述运动台连接的位移测量装置，所述位移测量装置包括至少两个光栅和与各个所述光栅配合使用的读头；所述光栅至少具有呈现为一维排列的多个衍射单元以及与所述多个衍射单元共面的入光面；其中，各个所述光栅沿着所述运动台的表面伸长而构成一维维度，至少两个所述光栅的入光面是非平行面，所述位移测量装置通过计算所述运动台在各个所述光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述光栅的法线方向上的位移量，进而计算获得所述运动台在三个以上自由度的位置变化。

2.如权利要求1所述的运动台系统，其特征在于，所述运动台位于第一正交坐标系，所述第一正交坐标系的坐标原点O为所述运动台的运动中心，所述第一正交坐标系包括相互正交的X轴、Y轴和Z轴，所述运动台具有分别沿所述X轴、Y轴和/或Z轴的平移自由度，以及具有分别在XZ平面内、YZ平面内和/或XY平面内的旋转自由度。

3.如权利要求2所述的运动台系统，其特征在于，所述位移测量装置包括至少两个一维光栅。

4.如权利要求3所述的运动台系统，其特征在于，所述位移测量装置包括第一一维光栅、第二一维光栅、第三一维光栅以及分别与所述第一一维光栅、所述第二一维光栅、所述第三一维光栅配合使用的第一读头、第二读头以及第三读头；所述第一一维光栅、所述第二一维光栅和所述第三一维光栅的长度方向均平行于所述Y轴，所述第一一维光栅与所述第二一维光栅的入光面彼此相背且均与所述X轴垂直，所述第三一维光栅的入光面与所述Z轴垂直。

5.如权利要求4所述的运动台系统，其特征在于，所述位移测量装置利用所述第一读头和所述第一一维光栅获得所述第一一维光栅沿所述Y轴的第一位移量和沿所述X轴的第二位移量，利用所述第二读头和所述第二一维光栅获得所述第二一维光栅沿所述Y轴的第三位移量和沿所述X轴的第四位移量，利用所述第三读头和所述第三一维光栅获得所述第三一维光栅沿所述Y轴的第五位移量和沿所述Z轴的第六位移量；所述运动台沿所述X轴的位移量等于所述第二位移量或所述第四位移量，沿所述Y轴的位移量等于所述第一位移量、所述第三位移量或所述第五位移量，沿所述Z轴的位移量等于所述第六位移量。

6.如权利要求5所述的运动台系统，其特征在于，所述运动台在所述XZ平面内的旋转量R_Y、在所述YZ平面内的旋转量R_X、在所述XY平面内的旋转量R_Z满足以下关系式：

R_Y＝d_Z6/L_X，其中，d_Z6为所述第六位移量，L_X为所述第三读头引导的入射激光在所述第三一维光栅的入光面形成的中心点与所述原点O在所述X轴方向上的距离；

R_X＝d_Y5/ΔZ，其中，d_Y5为所述第五位移量，ΔZ为所述第一读头引导的入射激光在所述第一一维光栅的入光面形成的中心点与所述第三读头引导的入射激光在所述第三一维光栅的入光面形成的中心点在所述Z轴向上的距离；

R_Z＝(d_Y1-d_Y3)/ΔX，其中，d_Y1为所述第一位移量，d_Y3为所述第三位移量，ΔX为所述第一一维光栅的入光面与所述第二一维光栅的入光面在所述X轴方向上的间距。

7.如权利要求4所述的运动台系统，其特征在于，所述运动台具有相对设置且与所述X轴垂直的第一侧壁和第二侧壁，所述第一一维光栅贴附在所述第一侧壁上或者通过刻蚀所述第一侧壁形成，所述第二一维光栅贴附在所述第二侧壁上或者通过刻蚀所述第二侧壁形成；所述运动台还具有与所述第一侧壁和所述第二侧壁垂直的下表面，所述第三一维光栅贴附在所述下表面上或者通过刻蚀所述下表面形成。

8.如权利要求3所述的运动台系统，其特征在于，所述位移测量装置包括第一一维光栅、第二一维光栅、与所述第一一维光栅配合使用的第一读头和第三读头以及与所述第二一维光栅配合使用的第二读头；所述位移测量装置位于第二正交坐标系，所述第二正交坐标系包括相互正交的X'轴、Y'轴和Z'轴以及原点O'，所述Y'轴沿所述第一一维光栅和所述第二一维光栅的长度方向设置，所述Z'轴垂直于所述第一一维光栅的入光面，所述X'轴与所述第二一维光栅的法线方向之间具有小于90度的夹角，所述第一读头和所述第三读头沿所述X'轴的方向具有大于零的第一预设间距；所述第一正交坐标系由所述第二正交坐标系投影转换得到。

9.如权利要求8所述的运动台系统，其特征在于，所述第二一维光栅的入光面与所述X'轴垂直；所述位移测量装置利用所述第一读头和所述第一一维光栅获得所述第一一维光栅沿所述Y'轴的第一位移量和沿所述Z'轴的第二位移量，利用所述第二读头和所述第二一维光栅获得所述第二一维光栅沿所述Y'轴的第三位移量和沿所述X'轴的第四位移量，利用所述第三读头和所述第一一维光栅获得所述第一一维光栅沿所述Y'轴的第五位移量和沿所述Z'轴的第六位移量；所述运动台沿所述X'轴的位移量等于所述第四位移量，沿所述Y'轴的位移量等于所述第一位移量、所述第三位移量或所述第五位移量，沿所述Z'轴的位移量等于所述第二位移量或所述第六位移量。

10.如权利要求9所述的运动台系统，其特征在于，所述运动台在X'Z'平面内的旋转量R'_Y、在Y'Z'平面内的旋转量R'_X、在X'Y'平面内的旋转量R'_Z满足以下关系式：

R'_Y＝(d_Z2-d_Z6)/ΔX'，其中，d_Z2为所述第二位移量，d_Z6为所述第六位移量，ΔX'为所述第一预设间距；

R'_X＝d_Y1/D_O'A，其中，d_Y1为所述第一位移量，d_Y5为所述第五位移量，D_O'A为所述第一读头引导的入射激光在所述第一一维光栅的入光面形成的中心点与所述原点O'之间的距离；

R'_Z＝d_Y3/D_O'B，其中，d_Y3为所述第三位移量，D_O'B为所述第二读头引导的入射激光在所述第二一维光栅的入光面形成的中心点与所述原点O'之间的距离。

11.如权利要求8所述的运动台系统，其特征在于，所述运动台具有与所述第一一维光栅的入光面平行的第一侧壁以及与所述第二一维光栅的入光面平行的第二侧壁；所述第一一维光栅的长度方向与所述第一侧壁的长度方向相同，所述第一一维光栅贴附在所述第一侧壁上或者通过刻蚀所述第一侧壁形成；所述第二一维光栅的长度方向与所述第二侧壁的长度方向相同，所述第二一维光栅贴附在在所述第二侧壁上或者通过刻蚀所述第二侧壁形成。

12.如权利要求11所述的运动台系统，其特征在于，所述第一侧壁和所述第二侧壁分别与所述运动台的下表面连接，并与所述运动台的下表面的夹角均为钝角，所述第一侧壁和所述第二侧壁在所述第一正交坐标系中关于所述Z轴对称。

13.一种光刻设备，其特征在于，所述光刻设备包括如权利要求1至12任意一项所述的运动台系统，其中，所述运动台为掩模台或者工件台。

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