CN115216746A - 镀膜装置和磁场强度均匀性在线检测及调控方法 - Google Patents

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CN115216746A CN202210875560.6A CN202210875560A CN115216746A CN 115216746 A CN115216746 A CN 115216746A CN 202210875560 A CN202210875560 A CN 202210875560A CN 115216746 A CN115216746 A CN 115216746A
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梁忠
周泓崑
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Abstract

本发明涉及一种镀膜装置和磁场强度均匀性在线检测及调控方法,所述镀膜装置包括:旋转靶组件,所述旋转靶组件包括旋转靶材以及用于产生磁场的磁性件,所述磁性件设于所述旋转靶材内;检测组件,包括多个磁场强度感应件,多个所述磁场强度感应件沿所述旋转靶材的轴线方向间隔分布;显示组件,所述显示组件与多个所述磁场强度感应件均连接,以显示多个所述磁场强度感应件的检测结果。相对于人工检测磁场强度,通过如上述的多个磁场强度感应件相互配合,上述镀膜装置能够快速且准确地在线检测镀膜装置内的磁场强度。磁场强度均匀性在线检测及调控方法能够对上述镀膜装置内磁场强度进行在线检测及调控。

Description

镀膜装置和磁场强度均匀性在线检测及调控方法
技术领域
本发明涉及真空磁控溅射镀膜技术领域,特别是涉及镀膜装置和磁场强度均匀性在线检测及调控方法。
背景技术
真空磁控溅射镀膜是一种公共建筑行业中用于针对LOW-E玻璃进行镀膜的核心生产技术。磁控溅射镀膜技术是指将用于形成膜的涂层材料做为靶阴极,利用氩离子轰击靶材,产生阴极溅射,将靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。
镀膜的均匀性是保证产品颜色和节能效果的关键,而在磁控溅射镀膜技术中,磁场强度的均匀性又是影响镀膜均匀性的关键因素。
然而,传统技术中对磁场强度的检测及判断还是通过人工方式实现的,这样极大的影响镀膜的效率且提高了人工成本。
发明内容
基于此,有必要针对镀膜效率以及成本问题,提供一种镀膜装置和磁场强度均匀性在线检测及调控方法。
一种镀膜装置,所述镀膜装置包括:
旋转靶组件,所述旋转靶组件包括旋转靶材以及用于产生磁场的磁性件,所述磁性件设于所述旋转靶材内;
检测组件,包括多个磁场强度感应件,多个所述磁场强度感应件沿所述旋转靶材的轴线方向间隔分布。
在其中一个实施例中,所述镀膜装置还包括显示组件,所述显示组件与多个所述磁场强度感应件均连接,以显示多个所述磁场强度感应件的检测结果。
在其中一个实施例中,所述镀膜装置还包括阴极盖板以及设于所述阴极盖板上的驱动件,所述旋转靶组件还包括旋转靶筒,所述驱动件与所述旋转靶筒的两端连接以带动所述旋转靶筒及所述旋转靶材转动,所述旋转靶材与所述旋转靶筒同轴套接以随所述旋转靶筒转动。
在其中一个实施例中,所述镀膜装置还包括均为中空设置的支撑梁及连接件,多个所述磁场强度感应件设于所述支撑梁上,所述支撑梁通过所述连接件与所述阴极盖板连接以相对所述阴极盖板固定,所述阴极盖板上设有用于与所述显示组件电连接的插口,多个所述磁场强度感应件的导线穿过所述支撑梁及所述连接件至所述阴极盖板内部以与所述插口电连接。
在其中一个实施例中,所述旋转靶组件的数量为两个,两个所述旋转靶组件平行分布,多个所述磁场强度感应件沿所述旋转靶组件的轴线方向设于两个所述旋转靶组件之间。
在其中一个实施例中,任一所述磁场强度感应件至两个所述旋转靶组件的距离相等;及/或
定义同时与两个所述旋转靶组件相切的平面为切平面,任一所述磁场强度感应件的最低点或最高点位于所述切平面上。
在其中一个实施例中,所述旋转靶组件的数量为多个,所述检测组件包括多组所述磁场强度感应件,多组所述磁场强度感应件与多个所述旋转靶组件一一对应,且一组所述磁场强度感应件沿其所对应的所述旋转靶组件的轴线方向间隔分布。
在其中一个实施例中,任意相邻两所述磁场强度感应件之间的距离相等。
一种应用于镀膜装置的磁场强度均匀性在线检测及调控方法,所述磁场强度均匀性在线检测及调控方法包括:
提供旋转靶组件、检测组件和显示组件,所述旋转靶组件包括同轴套接的旋转靶材合旋转靶筒、以及设于所述旋转靶材内的磁性件,所述检测组件包括沿所述旋转靶材轴线间隔分布的多个磁场强度感应件;
通过多个所述磁场强度感应件分别在线检测在所述旋转靶材轴线方向上各处的磁场强度;
将多个所述磁场强度感应件的检测结果传输给显示组件;
所述显示组件接收并显示多个所述磁场强度感应件所检测的磁场强度以此判断镀膜装置磁场强度的均匀性。
在其中一个实施例中,所述在线检测及调控方法还包括:
当所述显示组件显示的所述磁场强度感应件所检测的磁场强度不同时,调整所述镀膜装置的工艺参数,使得多个所述磁场强度感应件所检测的磁场强度相同。
上述镀膜装置中的检测组件包括多个磁场强度感应件。可以理解的是,多个磁场强度感应件分别能够检测各自所对应位置的磁场强度。由于多个磁场强度感应件沿旋转靶材的轴线方向间隔分布,故通过多个磁场强度感应件能够感应沿旋转靶材轴线上各个位置的磁场强度,以此判断沿旋转靶材轴线的方向磁场强度的均匀性,即判断沿旋转靶材轴线的方向磁场强度是否相同。相对于人工检测磁场强度,通过如上述的多个磁场强度感应件相互配合,上述镀膜装置能够快速且准确地检测镀膜装置内的磁场强度。
附图说明
图1为一实施例提供的镀膜装置的轴侧示意图;
图2为图1所示镀膜装置一端端面的侧视图;
图3为图1中A处的局部放大图;
图4为沿图2中B-B线的剖视图;
图5为旋转靶组件与磁场强度感应件的位置示意图。
附图标记:10、镀膜装置;100、旋转靶组件;110、旋转靶材;120、磁性件;130、旋转靶筒;200、检测组件;210、磁场强度感应件;211、导线;300、阴极盖板;310、插口;400、驱动件;500、支撑梁;510、入线孔;600、连接件。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴线方向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
参阅图1至图3,本发明一实施例提供了的镀膜装置10包括旋转靶组件100、检测组件200以及显示组件(图未示,下同)。
旋转靶组件100包括旋转靶材110以及用于产生磁场的磁性件120,磁性件120设于旋转靶材110内。可以理解的是,磁性件120用于在镀膜装置10内产生磁场,利用磁场对旋转靶材110阴极溅射所产生的带电粒子进行约束,提供等离子体密度以增加溅射率。磁场强度的均匀性是影响镀膜均匀性的关键因素。
检测组件200包括多个磁场强度感应件210,多个磁场强度感应件210沿旋转靶材110的轴线方向间隔分布。
上述镀膜装置10中的检测组件200包括多个磁场强度感应件210。可以理解的是,多个磁场强度感应件210分别能够检测各自所对应位置的磁场强度。由于多个磁场强度感应件210沿旋转靶材110的轴线方向间隔分布,故通过多个磁场强度感应件210能够感应沿旋转靶材110轴线上各个位置的磁场强度,以此判断沿旋转靶材110轴线的方向磁场强度的均匀性,即判断沿旋转靶材110轴线的方向磁场强度是否相同。相对于人工检测磁场强度,通过如上述的多个磁场强度感应件210的相互配合,上述镀膜装置10能够快速且准确地检测镀膜装置10内磁场强度的均匀性。
在一个实施例中,进一步地,镀膜装置10还包括显示组件,显示组件与多个磁场强度感应件210均连接,以显示多个磁场强度感应件210的检测结果,即显示沿靶材110轴线方向上各处的磁场强度。显示组件能够显示多个磁场强度感应件210的检测结果,也即显示组件能够显示旋转靶材110轴线方向上各个点位的磁场强度。如此设置,能够快速找出某一处或多处磁场强度不均的点位。相对于通过人工逐次检测各个点位,这样能够提高检测的效率。并且,应当理解的是,磁场强度感应件210对磁场强度的检测时持续性的,磁场强度感应件210能够对其所对应的点位进行实施检测监控并通过显示组件输出。也就是说,通过多个磁场强度感应件210结合显示组件,能够在线检测旋转靶材110轴线方向磁场强度的均匀性。实时的检测能够为调整旋转靶材110磁场强度提供参考依据,实现磁场强度的反馈调节。此外,实现在线检测旋转靶材110轴线方向磁场强度的均匀性磁场强度整体的大数据分析系统以及工艺优化提供技术参考。
更进一步地,上述镀膜装置10中,通过检测组件200配合显示组件的在线检测方案结构简单,并不会使镀膜装置10整体结构复杂化。并且,通过多个磁场强度感应件210检测的方式成本较低。同时,相对于人工检测还能够节省一定人工成本。
应当理解的是,保证沿旋转靶材110轴线方向上磁场强度的均匀性,就能够提高待镀膜工件上镀膜的均匀性。
在一个实施例中,磁场强度感应件210具体例如可以为霍尔传感器,通过多个霍尔传感器能够实现在线检测旋转靶材110轴线方向上各个点位的磁场强度。当然,磁场强度感应件210还根据需求可以设置为其他能够实时检测磁场强度的检测元器件,在此不做进一步限定。
在一个实施例中,磁场强度感应件210的数量可以根据旋转靶材110整体的长度以及在线检测的精度要求综合考量设置。可以理解的是,对于相同长度的旋转靶材110,单位距离内的磁场强度感应件210的数量越多,则检测精度越高,反映磁场强度均匀性程度更好。对于常规长度的旋转靶材110,磁场强度感应件210的数量可以为3-20个,当然还可以设置磁场强度感应件210的数量大于20个。由于待镀膜工件的尺寸以及其他因素的影响,实际镀膜过程中旋转靶材110的长度也有所不同,故可以根据旋转靶材110的长度以及精度需求而针对性的设置磁场强度感应件210的数量,在此不做限定。上述旋转靶材110的长度指的是旋转靶材110在其轴线方向上的尺寸。
请参阅图1、图2及图4,在一个实施例中,镀膜装置10还包括阴极盖板300以及设于阴极盖板300上的驱动件400。旋转靶组件100还包括旋转靶筒130,驱动件400与旋转靶筒130的两端连接以带动旋转靶筒130及旋转靶材110转动。旋转靶材110与旋转靶筒130同轴套接以随旋转靶筒130转动。换言之,旋转靶筒130套设于旋转靶材110上并与旋转靶材110连接,驱动件400通过驱动旋转靶筒130以带动旋转靶材110转动。上述旋转靶材110与旋转靶筒130同轴套接指的是,旋转靶筒130不仅套设于旋转靶材110上,两者的轴线还相互重合。
应当理解的是,位于旋转靶材110内的磁性件120不随旋转靶筒130转动。结合图3,旋转靶材110内磁性件120的磁极可以沿旋转靶材110的径向分布。镀膜装置10内的磁场强度不因旋转靶材110的转动而随之发生变化。两个磁性件120的磁极可以平行设置,两个磁性件可以均设置为N极朝下、S极朝上。
请参阅图1,在一个实施例中,旋转靶材110的数量为多个,即旋转靶组件100包括多个旋转靶材110。
请参阅图1至图3,在一个实施例中,旋转靶组件100的数量具体可以为两个,两个旋转靶组件100平行分布。多个磁场强度感应件210沿旋转靶组件100的轴线方向设于两个旋转靶组件100之间。可以理解的是,多个旋转靶组件100均包括旋转靶材110以及设于旋转靶材110内部的磁性件120。
两个磁性件120分别设于两个旋转靶组件100内部,故位于两个旋转靶组件100之间的位置是两磁性件120所产生的磁感应线的交错处,此处磁感应强度较强。将多个磁场强度感应件210沿旋转靶组件100的轴线方向设于两个旋转靶组件100之间,一方面能够提供磁场强度感应件210检测磁场强度的准确性;另一方面,还能够同时检测两个旋转靶组件100轴向方向上磁场强度的均匀性。不仅提高了检测的准确性,还提高了检测效率。
需要说明的是,两旋转靶组件100平行分布指的是两旋转靶组件100各自所包括的旋转靶材110平行分布,也即两旋转靶材110的轴线平行。此时,多个磁场强度感应件210的分布方向与两旋转靶材110的轴线也平行。
请参阅图3,进一步地,可以设置任一磁场强度感应件210至两个旋转靶组件100的距离相等,即任一磁场强度感应件210至两个旋转靶材110的距离相同,任一磁场强度感应件210位于两旋转靶材110的中间平面上。可以理解的是,两旋转靶材110的中间平面为两磁性件120所产生磁场的集中叠加处,此处磁感应强度腔。从而使任一磁场强度感应件210至两个旋转靶材110的距离相同能够进一步保证磁场强度感应件210检测结果的准确性。上述中间平面参见图3中标号K。
请继续参阅图3,在一个实施例中,定义同时与两个旋转靶组件100相切的平面为切平面,任一磁场强度感应件210的最低点或最高点位于切平面上。可以理解的是,磁场强度感应件210的设置位置是保证在线检测结果准确性的基础。本实施例中通过以磁场强度感应件210的最低点或最高点作为磁场强度感应件210上的参考点,以两个旋转靶组件100的切平面为旋转靶组件100的参考基准,如此便于使各个磁场强度感应件210均设于预期位置。具体地,由于两旋转靶组件100为平行设置,故两个旋转靶组件100将存在两个切平面。当以位于上方的切平面为参考基准时,可以以磁场强度感应件210的最高点为磁场强度感应件210的参考点;当以位于下方的切平面为参考基准时,可以以磁场强度感应件210的最低点为磁场强度感应件210的参考点。本实施例所述的高与低指图3中的上方与下方。上述两个切平面分别参见图3中M1及M2。
请参阅图1及图4,在一个实施例中,可以设置任意相邻两磁场强度感应件210之间的距离相等。换言之,多个磁场强度感应件210沿旋转靶材110的轴线方向间隔均匀的分布。如此,能够更加全面的反映沿旋转靶材110自身轴线方向上磁场强度的均匀性。
在一个实施例中,当旋转靶组件100的数量为多个但不等于两个时,检测组件200包括多组磁场强度感应件210,多组磁场强度感应件210与多个旋转靶组件100一一对应,且一组磁场强度感应件210沿其所对应的旋转靶组件100的轴线方向间隔分布。可以理解的是,一组磁场强度感应件210包括有多个磁场强度感应件210。
换句话说,当旋转靶组件100的数量为多个但不等于两个时,可以使一组磁场强度感应件210对应检测一个旋转靶组件100,以便于准确反映所对应检测的旋转靶组件100的均匀性。
举例而言,当旋转靶组件100数量为三个,检测组件200可以包括三组磁场强度感应件210。三组磁场强度感应件210分别对应检测三个旋转靶组件100。当旋转靶组件100数量为四个时也是同理,故不再赘述。
应当理解的是,当旋转靶组件100数量为一个时,可以仅设置一组检测组件200对应检测一个旋转靶组件100。
请参阅4及图5,在一个实施例中,镀膜装置10还包括均为中空设置的支撑梁500及连接件600。多个磁场强度感应件210设于支撑梁500上,支撑梁500通过连接件600与阴极盖板300连接以相对阴极盖板300固定。阴极盖板300上设有用于与显示组件电连接的插口310,多个磁场强度感应件210的导线211穿过支撑梁500及连接件600至阴极盖板300内部以与插口310电连接。也就是说,支撑梁500与连接件600不仅能够用于支撑连接检测组件200,还能够用于对多个磁场强度感应件210的线材进行整线,使镀膜装置10结构更加紧凑。
具体地,支撑梁500可以为中空的棱管或圆管,支撑梁500内部设有第一连通孔(图未示,下同),支撑梁500侧壁上开设有多个与第一连通孔连通的入线孔510。支撑梁500及其内部的第一连通孔均沿旋转靶组件100的轴线方向分布。多个磁场强度感应件210的导线211能够通过入线孔510伸入第一连通孔内,并通过出线孔(图未示,下同)伸出第一连通孔并进入连接件600内。
连接件600也可以为中空的圆管或棱管,连接件600内设于第二连通孔(图未示,下同),连接件600及其内部的第二连通孔沿支撑梁500指向阴极盖板300的方向延伸分布。多个磁场强度感应件210的导线211依次通过入线孔510、第一连通孔、出线孔及第二连通孔伸入阴极盖板300内与插口310电连接,以将检测结果传输给显示组件。
为保证支撑梁500与阴极盖板300连接的稳定性,可以设置连接件600的数量为多个,多个连接件600沿支撑梁500的长度方向间隔分布。多个磁场强度感应件210的导线211可选择穿设就近的连接件600以深入阴极盖板300内。
需要说明的是,支撑梁500的长度由旋转靶材110的长度确定,连接件600的数量由支撑梁500的长度确定。换言之,可以根据旋转靶材110的长度选择支撑梁500的长度以及连接件600的数量。
磁场强度感应件210的导线211具体可以包括电源线及信号线等。
本发明还提供了一种应用于镀膜装置10的磁场强度均匀性在线检测及调控方法。磁场强度均匀性在线检测及调控方法包括:
提供旋转靶组件100、检测组件200和显示组件,旋转靶组件100包括同轴套接的旋转靶材110合旋转靶筒130、以及设于旋转靶材110内的磁性件120,检测组件200包括沿旋转靶材110轴线间隔分布的多个磁场强度感应件210。
通过多个磁场强度感应件210分别在线检测在旋转靶材110轴线方向上各处的磁场强度。
将多个磁场强度感应件210的检测结果传输给显示组件。
显示组件接收并显示多个磁场强度感应件210所检测的磁场强度以此判断镀膜装置10磁场强度的均匀性。
当然,在某些实施例中,镀膜装置10还可以包括处理器(图未示,下同),通过设计算法以比较各个点位的磁场强度感应件210所输入的磁场强度检测结果中与其他点位磁场强度检测结果存在差异的点位,提高检测效率。
在一个实施例中,当显示组件显示的磁场强度感应件210所检测的磁场强度不同时,调整镀膜装置10的工艺参数,使得多个磁场强度感应件210所检测的磁场强度相同。具体例如可以通过调整镀膜装置10内工艺气体的流量、电源功率的工艺参数以使镀膜装置10内磁场强度均匀。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置包括:
旋转靶组件,所述旋转靶组件包括旋转靶材以及用于产生磁场的磁性件,所述磁性件设于所述旋转靶材内;
检测组件,包括多个磁场强度感应件,多个所述磁场强度感应件沿所述旋转靶材的轴线方向间隔分布。
2.根据权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置还包括显示组件,所述显示组件与多个所述磁场强度感应件均连接,以显示多个所述磁场强度感应件的检测结果。
3.根据权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置还包括阴极盖板以及设于所述阴极盖板上的驱动件,所述旋转靶组件还包括旋转靶筒,所述驱动件与所述旋转靶筒的两端连接以带动所述旋转靶筒及所述旋转靶材转动,所述旋转靶材与所述旋转靶筒同轴套接以随所述旋转靶筒转动。
4.根据权利要求3所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置还包括均为中空设置的支撑梁及连接件,多个所述磁场强度感应件设于所述支撑梁上,所述支撑梁通过所述连接件与所述阴极盖板连接以相对所述阴极盖板固定,所述阴极盖板上设有用于与所述显示组件电连接的插口,多个所述磁场强度感应件的导线穿过所述支撑梁及所述连接件至所述阴极盖板内部以与所述插口电连接。
5.根据权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,所述旋转靶组件的数量为两个,两个所述旋转靶组件平行分布,多个所述磁场强度感应件沿所述旋转靶组件的轴线方向设于两个所述旋转靶组件之间。
6.根据权利要求5所述的镀膜装置,其特征在于,任一所述磁场强度感应件至两个所述旋转靶组件的距离相等;及/或
定义同时与两个所述旋转靶组件相切的平面为切平面,任一所述磁场强度感应件的最低点或最高点位于所述切平面上。
7.根据权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,所述旋转靶组件的数量为多个,所述检测组件包括多组所述磁场强度感应件,多组所述磁场强度感应件与多个所述旋转靶组件一一对应,且一组所述磁场强度感应件沿其所对应的所述旋转靶组件的轴线方向间隔分布。
8.根据权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,任意相邻两所述磁场强度感应件之间的距离相等。
9.一种应用于镀膜装置的磁场强度均匀性在线检测及调控方法,其特征在于,所述磁场强度均匀性在线检测及调控方法包括:
提供旋转靶组件、检测组件和显示组件,所述旋转靶组件包括同轴套接的旋转靶材合旋转靶筒、以及设于所述旋转靶材内的磁性件,所述检测组件包括沿所述旋转靶材轴线间隔分布的多个磁场强度感应件;
通过多个所述磁场强度感应件分别在线检测在所述旋转靶材轴线方向上各处的磁场强度;
将多个所述磁场强度感应件的检测结果传输给显示组件;
所述显示组件接收并显示多个所述磁场强度感应件所检测的磁场强度以此判断镀膜装置磁场强度的均匀性。
10.根据权利要求9所述的磁场强度均匀性在线检测及调控方法,其特征在于,所述在线检测及调控方法还包括:
当所述显示组件显示的所述磁场强度感应件所检测的磁场强度不同时,调整所述镀膜装置的工艺参数,使得多个所述磁场强度感应件所检测的磁场强度相同。
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