CN115151513A - 光学玻璃制造装置用构件 - Google Patents

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Abstract

光学玻璃制造装置用构件在高温环境下暴露于含有卤族元素的气体中，其具备：第一构件(4)，其直接或间接地支承所述光学玻璃(10)；以及第二构件(5)，其支承第一构件(4)。

Description

光学玻璃制造装置用构件
技术领域
本发明的实施方式涉及光学玻璃制造装置用构件。
背景技术
制造光学玻璃的光学玻璃制造装置中使用的构件(以下也称为光学玻璃制造装置用构件。)在制造该光学玻璃的工序中，有时在高温环境下暴露于腐蚀性气体中(例如，参照专利文献1)。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特公平7-29807号公报
发明内容
发明要解决的课题
但是，在现有技术中，每当支承光学玻璃的支承构件腐蚀时，必须更换该支承构件整体，因此存在光学玻璃的制造成本增大的问题。
实施方式的一个方案是鉴于上述问题的完成的，其目的在于，提供一种能够降低光学玻璃的制造成本的光学玻璃制造装置用构件。
用于解决课题的方案
实施方式的一个方案的光学玻璃制造装置用构件在高温环境下暴露于含有卤族元素的气体中，其中，所述光学玻璃制造装置用构件具备：第一构件，其直接或间接地支承光学玻璃；以及第二构件，其支承所述第一构件。
附图说明
图1是用于说明第一实施方式的光学玻璃制造装置的结构的图。
图2是用于说明第一实施方式的光学玻璃制造装置的结构的图。
图3是用于说明第一实施方式的第一构件的结构的图。
图4是用于说明第一实施方式的第二构件的结构的图。
图5是用于说明第一实施方式的第一构件支承于第二构件的支承方法的图。
图6是用于说明第一实施方式的第一构件支承于第二构件的支承结构的图。
图7是用于说明第一实施方式的变形例1的第一构件的结构的图。
图8是用于说明第一实施方式的变形例1的第二构件的结构的图。
图9是用于说明第一实施方式的变形例1的第一构件支承于第二构件的支承方法的图。
图10是用于说明第一实施方式的变形例1的第一构件支承于第二构件的支承结构的图。
图11是用于说明第一实施方式的变形例2的第一构件的结构的图。
图12是用于说明第二实施方式的光学玻璃制造装置的结构的图。
图13是用于说明第二实施方式的光学玻璃制造装置的结构的图。
图14是用于说明第二实施方式的第一构件的结构的图。
图15是用于说明第二实施方式的第二构件的结构的图。
图16是用于说明第二实施方式的罩构件相对于第二构件的设置方法的图。
图17是用于说明第二实施方式的第一构件支承于第二构件的支承方法的图。
图18是用于说明第二实施方式的支承构件的结构的图。
图19是用于说明第二实施方式的变形例1的第一构件的结构的图。
图20是用于说明第二实施方式的变形例1的第二构件的结构的图。
图21是用于说明第二实施方式的变形例1的第一构件支承于第二构件的支承方法的图。
图22是用于说明第二实施方式的变形例1的支承构件的结构的图。
图23是用于说明第二实施方式的变形例2的第一构件的结构的图。
图24是用于说明第二实施方式的变形例2的第二构件的结构的图。
图25是用于说明第二实施方式的变形例2的第一构件支承于第二构件的支承方法的图。
图26是用于说明第二实施方式的变形例2的支承构件的结构的图。
图27是用于说明第二实施方式的变形例2的支承构件内的迷宫结构的图。
图28是用于说明第二实施方式的变形例3的第一构件的结构的图。
图29是用于说明第二实施方式的变形例3的罩构件相对于第二构件的设置方法的图。
图30是用于说明第二实施方式的变形例3的支承构件的结构的图。
图31是用于说明第二实施方式的变形例4的第一构件支承于第二构件的支承方法的图。
图32是用于说明第二实施方式的变形例5的第一构件支承于第二构件的支承方法的图。
图33是示出支承构件的外周侧的研磨面的SEM观察照片的图。
图34是示出支承构件的中央部的研磨面的SEM观察照片的图。
图35是示出支承构件的内周侧的研磨面的SEM观察照片的图。
图36是示出支承构件的外周侧的断裂面的SEM观察照片的图。
图37是示出支承构件的中央部的断裂面的SEM观察照片的图。
图38是示出支承构件的内周侧的断裂面的SEM观察照片的图。
具体实施方式
以下，参照附图对本申请公开的光学玻璃制造装置用构件的各实施方式进行说明。需要说明的是，本发明并不被以下所示的各实施方式限定。
<第一实施方式>
制造光学玻璃的光学玻璃制造装置中使用的构件(以下也称为光学玻璃制造装置用构件。)在制造该光学玻璃的工序中，有时在高温环境下暴露于腐蚀性气体中。
例如，在制造光学玻璃的工序中，有时在例如1100℃以上的高温环境下暴露于含有卤族元素(例如F(氟)、Cl(氯)、Br(溴))的气体中。
在这样的严苛的环境中，由于由腐蚀性气体引起的腐蚀反应被促进，因此支承光学玻璃的支承构件有时会腐蚀。而且，在现有技术中，在支承构件发生了腐蚀时，必须更换该支承构件整体，因此该更换所需的费用增大，从而存在光学玻璃的制造成本增大的问题。
因此，期待实现能够克服上述的问题点以降低光学玻璃的制造成本的技术。
首先，参照图1及图2对第一实施方式的光学玻璃制造装置1的结构进行说明。图1及图2是用于说明第一实施方式的光学玻璃制造装置1的结构的图。
需要说明的是，图1示出光学玻璃10的制造工序中的初期阶段，图2示出光学玻璃10的制造工序中的后期阶段。
如图1所示，第一实施方式的光学玻璃制造装置1具备高温炉2、支承构件3和原料供给部7，在高温炉2的内部设置有支承构件3及原料供给部7。支承构件3是光学玻璃制造装置用构件的一例。
高温炉2能够在内部形成光学玻璃10的制造工序所需的高温环境(例如，温度为1100℃～1600℃)。
支承构件3具备第一构件4和第二构件5，对作为光学玻璃10的初始材料的玻璃棒11进行支承。例如，在第一构件4形成能够插穿玻璃棒11的插穿部4a。并且，第一构件4利用该插穿部4a以将玻璃棒11悬挂的方式对其进行支承。
即，在第一实施方式中，第一构件4间接地支承处理中的光学玻璃10。需要说明的是，第一构件4支承玻璃棒11的支承方法并不限于上述的方法。另外，在第一实施方式中，也可以利用第一构件4直接支承处理中的光学玻璃10。例如，也可以利用第一构件4直接支承光学玻璃10的坯料。
另外，在支承构件3中，第二构件5以将第一构件4悬挂的方式对其进行支承。并且，支承构件3构成为能够使所支承的玻璃棒11旋转。需要说明的是，关于第一构件4支承于第二构件5的支承结构的详细情况，将在后文叙述。
原料供给部7构成为能够向玻璃棒11供给光学玻璃10的原料(例如SiClO4、H2、O2等)。另外，原料供给部7构成为能够向玻璃棒11供给含有卤族元素的气体(例如，F2气体、Cl2气体、GeCl4气体、Br2气体等)作为光学玻璃10中的添加元素的原料。另外，原料供给部7构成为能够在高温炉2的内部移动。
并且，如图1所示，将高温炉2的内部维持在规定的温度，并且从原料供给部7向玻璃棒11供给光学玻璃10的原料，由此在作为初始材料的玻璃棒11的表面形成光学玻璃10。
进而，通过使用支承构件3使玻璃棒11旋转，并且使原料供给部7适当移动，从而如图2所示那样，能够使光学玻璃10在玻璃棒11的周围生长。
第一实施方式的光学玻璃10例如是微透镜、光掩模、选择吸收透过玻璃、光纤等。
另外，在光学玻璃10的制造工序中，通过使高温炉2的内部为1100℃～1600℃的高温环境，并且从原料供给部7供给含有卤族元素的气体，从而能够控制光学玻璃10的各种特性(例如折射率等)。
在以上说明的第一实施方式中，支承构件3具备：第一构件4，其直接或间接地支承光学玻璃10；以及第二构件5，其支承该第一构件4。由此，在光学玻璃10的处理中支承构件3被腐蚀性气体腐蚀了的情况下，通过仅更换由于接近该光学玻璃10而腐蚀反应进展了的第一构件4，能够继续光学玻璃10的处理。
即，在第一实施方式中，即使在支承构件3发生了腐蚀的情况下，仅更换其一部分(第一构件4)就能够继续光学玻璃10的处理，因此能够降低更换支承构件3所需的费用。因此，根据第一实施方式，能够降低光学玻璃10的制造成本。
需要说明的是，在本发明中，“腐蚀”是指与含有卤族元素的气体反应而构件的重量减少、同时构件的气孔率变大的现象。
另外，在第一实施方式中，支承构件3的第一构件4可以由以氮化硅(Si3N4)为主要成分的致密质陶瓷构成。由此，例如在1100℃以上的高温环境下，能够提高对含有卤族元素的气体的耐腐蚀性。
因此，根据第一实施方式，能够减少第一构件4的更换频率，因此能够进一步降低光学玻璃10的制造成本。
另外，在第一实施方式中，支承构件3的第二构件5可以由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成。由此，例如在1100℃以上的高温环境下，能够提高对含有卤族元素的气体的耐腐蚀性。
因此，根据第一实施方式，能够减少第二构件5的更换频率，因此能够进一步降低光学玻璃10的制造成本。需要说明的是，在第一实施方式中，第二构件5与第一构件4相比远离光学玻璃10而配置，因此不一定需要由氮化硅构成，例如也可以由金属等构成。
另外，在第一实施方式中，在第一构件4及第二构件5中的至少一方由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的气孔率可以比内部的气孔率小。
通过由这样的致密质陶瓷构成支承构件3，在直接暴露于含有卤族元素的腐蚀性气体的表层中，能够使该腐蚀性气体不容易从气孔侵入到内部。需要说明的是，表层也可以是在深度方向上距表面2mm以内的区域。另外，内部也可以是在深度方向上距表面2mm以上的区域。
因此，根据第一实施方式，能够抑制致密质陶瓷的内部被腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
另外，在第一实施方式中，通过使致密质陶瓷的内部的气孔率比表层大，能够利用内部的气孔阻止裂纹从表层进展，因此能够提高支承构件3的耐热冲击性。
另外，在第一实施方式中，通过使致密质陶瓷的内部的气孔率比表层大，能够降低内部的热传导率，因此能够抑制热量从玻璃棒11经由支承构件3散逸。
因此，根据第一实施方式，能够使形成于玻璃棒11的光学玻璃10的温度稳定，因此能够稳定地制造光学玻璃10。
需要说明的是，在第一实施方式中，在第一构件4及第二构件5中的至少一方由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的气孔率可以为1(面积％)～3(面积％)。
这样，通过由表层的气孔率小的致密质陶瓷构成支承构件3，能够使含有卤族元素的腐蚀性气体更不容易从气孔侵入到内部。
因此，根据第一实施方式，能够进一步抑制致密质陶瓷的内部被腐蚀性气体腐蚀，因此能够进一步提高支承构件3的耐腐蚀性。
另外，在第一实施方式中，在第一构件4及第二构件5中的至少一方由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的内部的气孔率可以为4(面积％)～9(面积％)。
这样，通过由内部的气孔率较大的致密质陶瓷构成支承构件3，能够进一步提高支承构件3的耐热冲击性，并且能够更稳定地制造光学玻璃10。
另外，在第一实施方式中，在第一构件4及第二构件5中的至少一方由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的平均晶粒直径可以比内部的平均晶粒直径大。
通过由这样的致密质陶瓷构成支承构件3，能够缩短表层的晶界的总长度，因此能够使含有卤族元素的腐蚀性气体不容易从晶界侵入到内部。
因此，根据第一实施方式，能够抑制致密质陶瓷的内部被腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
另外，在第一实施方式中，在第一构件4及第二构件5中的至少一方由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的氧含量可以比内部的氧含量少。
通过由这样的致密质陶瓷构成支承构件3，能够抑制含有容易与氧反应的卤族元素(例如氯)的气体与存在于表层的氧的反应。
因此，根据第一实施方式，能够抑制致密质陶瓷的表层被容易与氧反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
需要说明的是，在第一实施方式中，在第一构件4及第二构件5中的至少一方由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的氧含量可以为7.0(质量％)以下，致密质陶瓷的表层的氧含量更优选为6.5(质量％)以下。
由此，能够进一步抑制致密质陶瓷的表层被容易与氧反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够进一步提高支承构件3的耐腐蚀性。另外，在第一实施方式中，致密质陶瓷的内部的氧含量可以为7.1(质量％)以上。
另外，在第一实施方式中，在第一构件4及第二构件5中的至少一方由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的铝含量可以比内部的铝含量少。
通过由这样的致密质陶瓷构成支承构件3，能够抑制含有容易与铝反应的卤族元素(例如氯)的气体与存在于表层的铝的反应。
因此，根据第一实施方式，能够抑制致密质陶瓷的表层被容易与铝反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
需要说明的是，在构成支承构件3的致密质陶瓷中，使用氧化铝(Al2O3)作为烧结主要成分即氮化硅时的烧结助剂，因此在致密质陶瓷的表层及内部存在氧及铝原子。
<支承结构的详细>
接着，参照图3～图6对第一实施方式的第二构件5支承第一构件4的支承结构的详细情况进行说明。图3是用于说明第一实施方式的第一构件4的结构的图，且是第一构件4的上端部(即，被第二构件5支承的部位)的放大图。
如图3所示，第一构件4具有主体部41和扩径部42。主体部41是柱状的部位，例如呈圆柱状。扩径部42是设置于主体部41的上端部、且外径比主体部41大的部位。
另外，在扩径部42的与主体部41连接的部位具有锥形状的抵接部42a。该抵接部42a是在第一构件4被第二构件5支承时与第二构件5抵接的部位。
图4是用于说明第一实施方式的第二构件5的结构的图，且是第二构件5的下端部(即，支承第一构件4的部位)的放大图。如图4所示，第二构件5具有主体部51、空腔部52、开口部53和卡止部54。
主体部51是柱状的部位，例如呈圆柱状。空腔部52是在主体部51的内部以沿与该主体部51的长度方向相同的方向延伸的方式形成的圆柱状的空腔。需要说明的是，空腔部52的内径比第一构件4的主体部41的外径及扩径部42的外径大。
开口部53是呈圆柱状贯通空腔部52与主体部51的底面51a之间的部位。需要说明的是，开口部53的内径比空腔部52的内径小。另外，开口部53的内径比第一构件4的主体部41的外径大，且比扩径部42的外径小。
卡止部54是与开口部53的上端相邻的锥形状的部位。该卡止部54是在由第二构件5支承第一构件4时与第一构件4的抵接部42a抵接的部位。
图5是用于说明第一实施方式的第一构件4支承于第二构件5的支承方法的图。如图5所示，在将第一构件4支承于第二构件5的情况下，第一构件4的整体朝下插入第二构件5的空腔部52。
需要说明的是，此时，在使第一构件4的扩径部42朝上、并且使第二构件5的开口部53朝下的状态下，第一构件4被插入第二构件5的空腔部52。并且，第一构件4的主体部41插穿第二构件5的开口部53。
在此，在第一实施方式中，由于扩径部42的外径比开口部53的内径大，因此如图6所示，第一构件4的整体不会突出到第二构件5的外部，第一构件4被第二构件5支承。图6是用于说明第一实施方式的第一构件4支承于第二构件5的支承结构的图。
另外，在第一实施方式中，通过第一构件4的抵接部42a抵接于第二构件5的卡止部54而第一构件4被第二构件5支承，另一方面，它们的卡合部位未被粘接剂等固定。由此，第一构件4能够相对于第二构件5摆动。
由此，即使在第二构件5倾斜固定的情况下，也能够将第一构件4支承为大致垂直。因此，根据第一实施方式，被第一构件4支承的玻璃棒11也能够支承为大致垂直，因此能够使光学玻璃10在玻璃棒11的周围稳定地生长。
另外，在第一实施方式中，第一构件4的抵接部42a及第二构件5的卡止部54中的至少一方可以是锥形状或球面形状。由此，能够使第一构件4相对于第二构件5更容易地摆动。
因此，根据第一实施方式，即使在第二构件5倾斜固定的情况下，也能够更容易地将第一构件4及玻璃棒11支承为大致垂直，因此能够使光学玻璃10在玻璃棒11的周围更稳定地生长。
<第一实施方式的各种变形例>
接着，参照图7～图11对第一实施方式的各种变形例进行说明。图7是用于说明第一实施方式的变形例1的第一构件4的结构的图，且是第一构件4的上端部(即，被第二构件5支承的部位)的放大图。
如图7所示，第一实施方式的变形例1的第一构件4具有主体部41、扩径部42和一对切除部43。主体部41是柱状的部位，例如呈圆柱状。扩径部42是设置于主体部41的上端部、且具有外径比主体部41大的部分的部位。
另外，在扩径部42的与主体部41连接的部位具有锥形状的抵接部42a。该抵接部42a是在第一构件4被第二构件5支承时与第二构件5抵接的部位。
切除部43是从第一构件4的扩径部42到主体部41的上部被平坦地切除的部位。一对切除部43相互大致平行地被切除。
图8是用于说明第一实施方式的变形例1的第二构件5的结构的图，且是第二构件5的下端部(即，支承第一构件4的部位)的放大图。如图8所示，第一实施方式的变形例1的第二构件5具有主体部51、空腔部52、开口部53、卡止部54和狭缝55。
主体部51是柱状的部位，例如呈圆柱状。空腔部52是在主体部51的内部以沿与该主体部51的长度方向相同的方向延伸的方式形成的圆柱状的空腔。需要说明的是，空腔部52的内径比第一构件4的主体部41及扩径部42的长径(即，未被切除部43切除的部位的外径)大。
开口部53是呈圆柱状贯通空腔部52与主体部51的底面51a之间的部位。需要说明的是，开口部53的内径比空腔部52的内径小。另外，开口部53的内径比第一构件4的主体部41的长径大，且比扩径部42的长径小。
卡止部54是与开口部53的上端相邻的锥形状的部位。该卡止部54是在由第二构件5支承第一构件4时与第一构件4的抵接部42a抵接的部位。
狭缝55以与空腔部52及开口部53相连的方式形成于主体部51的侧面51b。该狭缝55以沿与主体部51的长度方向相同的方向延伸的方式形成。
需要说明的是，狭缝55的宽度比第一构件4的主体部41及扩径部42的短径(即，被切除部43切除的部位的外径)大，且比主体部41及扩径部42的长径小。
图9是用于说明第一实施方式的变形例1的第一构件4支承于第二构件5的支承方法的图。如图9所示，在将第一构件4支承于第二构件5的情况下，在第一构件4的上端部被切除部43切除的部位横向插入第二构件5的狭缝55。
需要说明的是，此时，在使第一构件4的扩径部42朝上、并且使第二构件5的开口部53朝下的状态下，第一构件4的上端部插入第二构件5的狭缝55。并且，第一构件4的扩径部42插入第二构件5的空腔部52。
在此，在第一实施方式的变形例1中，如图10所示，通过使插入空腔部52的扩径部42旋转，能够防止第一构件4的扩径部42突出到第二构件5的外部，因此第一构件4被第二构件5支承。图10是用于说明第一实施方式的变形例1的第一构件4支承于第二构件5的支承结构的图。
另外，在第一实施方式的变形例1中，通过第一构件4的抵接部42a抵接于第二构件5的卡止部54而第一构件4被第二构件5支承，另一方面，它们的卡合部位未被粘接剂等固定。由此，第一构件4能够相对于第二构件5摆动。
由此，即使在第二构件5倾斜固定的情况下，也能够将第一构件4支承为大致垂直。因此，根据第一实施方式的变形例1，被第一构件4支承的玻璃棒11也能够支承为大致垂直，因此能够使光学玻璃10在玻璃棒11的周围稳定地生长。
另外，在第一实施方式的变形例1中，第一构件4的抵接部42a及第二构件5的卡止部54中的至少一方可以是锥形状或球面形状。由此，能够使第一构件4相对于第二构件5更容易地摆动。
因此，根据第一实施方式的变形例1，即使在第二构件5倾斜固定的情况下，也能够更容易地将第一构件4及玻璃棒11支承为大致垂直，因此能够使光学玻璃10在玻璃棒11的周围更稳定地生长。
图11是用于说明第一实施方式的变形例2的第一构件4的结构的图。如图11所示，在第一实施方式的变形例2中，在第一构件4的主体部41的内部配置有作为空腔的中空部41a。由此，能够使作为悬挂侧的第一构件4轻量化，因此能够减轻对连接第一构件4与第二构件5的连接部施加的负载。
有时在第一构件4与第二构件5的连接部产生由摩擦引起的偏磨损，当第一构件4卡挂于由该偏磨损形成的凹部时，第一构件4变得难以相对于第二构件5摆动。由此，有时难以进行玻璃棒11的垂直支承。
但是，在第一实施方式的变形例2中，在第一构件4配置有中空部41a，因此能够减轻对连接第一构件4与第二构件5的连接部施加的负载，因此能够抑制第一构件4难以相对于第二构件5摆动的情况。
<第二实施方式>
制造光学玻璃的光学玻璃制造装置中使用的构件(以下也称为光学玻璃制造装置用构件。)在制造该光学玻璃的工序中，有时在高温环境下暴露于腐蚀性气体中。
例如，在制造光学玻璃的工序中，有时在例如1100℃以上的高温环境下暴露于含有卤族元素(例如F(氟)、Cl(氯)、Br(溴))的气体中。
在这种严苛的环境中，由于由腐蚀性气体引起的腐蚀反应被促进，因此支承光学玻璃的支承构件有时会腐蚀。而且，在现有技术中，在支承构件发生了腐蚀时，必须更换该支承构件整体，因此该更换所需的费用增大，从而存在光学玻璃的制造成本增大的问题。
因此，期待实现能够克服上述的问题点以降低光学玻璃的制造成本的技术。
首先，参照图12及图13对第二实施方式的光学玻璃制造装置1的结构进行说明。图12及图13是用于说明第二实施方式的光学玻璃制造装置1的结构的图。
需要说明的是，图12示出光学玻璃10的制造工序中的初期阶段，图13示出光学玻璃10的制造工序中的后期阶段。
如图12所示，第二实施方式的光学玻璃制造装置1具备高温炉2、支承构件3和原料供给部7，在高温炉2的内部设置有支承构件3及原料供给部7。支承构件3是光学玻璃制造装置用构件的一例。
高温炉2能够内部形成光学玻璃10的制造工序所需的高温环境(例如，温度为1100℃～1600℃)。
支承构件3具备第一构件4、第二构件5和罩构件6，对作为光学玻璃10的初始材料的玻璃棒11进行支承。例如，在第一构件4形成能够插穿玻璃棒11的插穿部4a。并且，第一构件4利用该插穿部4a以将玻璃棒11悬挂的方式对其进行支承。
即，在第二实施方式中，第一构件4间接地支承处理中的光学玻璃10。需要说明的是，第一构件4支承玻璃棒11的支承方法不限于上述的方法。另外，在第二实施方式中，也可以利用第一构件4直接支承处理中的光学玻璃10。例如，也可以利用第一构件4直接支承光学玻璃10的坯料。
另外，在支承构件3中，第二构件5以将第一构件4悬挂的方式对其进行支承。并且，罩构件6将连接第一构件4与第二构件5的连接部覆盖。并且，支承构件3构成为能够使所支承的玻璃棒11旋转。需要说明的是，关于第一构件4、第二构件5及罩构件6的详细情况将在后文叙述。
原料供给部7构成为能够向玻璃棒11供给光学玻璃10的原料(例如SiClO4、H2、O2等)。另外，原料供给部7构成为能够向玻璃棒11供给含有卤族元素的气体(例如，F2气体、Cl2气体、GeCl4气体、Br2气体等)作为光学玻璃10中的添加元素的原料。另外，原料供给部7构成为能够在高温炉2的内部移动。
并且，如图12所示，将高温炉2的内部维持在规定的温度，并且从原料供给部7向玻璃棒11供给光学玻璃10的原料，由此在作为初始材料的玻璃棒11的表面形成光学玻璃10。
进而，通过使用支承构件3使玻璃棒11旋转，并且使原料供给部7适当移动，从而如图13所示那样，能够使光学玻璃10在玻璃棒11的周围生长。
第二实施方式的光学玻璃10例如是微透镜、光掩模、选择吸收透过玻璃、光纤等。
另外，在光学玻璃10的制造工序中，通过使高温炉2的内部为1100℃～1600℃的高温环境，并且从原料供给部7供给含有卤族元素的气体，从而能够控制光学玻璃10的各种特性(例如折射率等)。
在以上说明的第二实施方式中，支承构件3具备：第一构件4，其直接或间接地支承光学玻璃10；第二构件5，其支承该第一构件4；以及罩构件6，其将连接第一构件4与第二构件5的连接部覆盖。
由此，当在光学玻璃10的处理中支承构件3被腐蚀性气体腐蚀了的情况下，通过仅更换接近该光学玻璃10且由于比表面积大而腐蚀反应进展了的罩构件6，能够继续光学玻璃10的处理。
即，在第二实施方式中，即使在支承构件3发生了腐蚀的情况下，仅更换其一部分(罩构件6)就能够继续光学玻璃10的处理，因此能够降低更换支承构件3所需的费用。因此，根据第二实施方式，能够降低光学玻璃10的制造成本。
需要说明的是，在本发明中，“腐蚀”是指与含有卤族元素的气体反应而构件的重量减少、同时构件的气孔率变大的现象。
另外，在第二实施方式中，在制造光学玻璃10时，能够利用罩构件6对因受到来自外部的应力而容易腐蚀的连接第一构件4与第二构件5的连接部进行保护。因此，根据第二实施方式，能够抑制该连接部的劣化。
另外，在第二实施方式中，支承构件3的罩构件6可以由以氮化硅(Si3N4)为主要成分的致密质陶瓷构成。由此，例如在1100℃以上的高温环境下，能够提高对含有卤族元素的气体的耐腐蚀性。
因此，根据第二实施方式，能够减少罩构件6的更换频率，因此能够进一步降低光学玻璃10的制造成本。
另外，在第二实施方式中，支承构件3的第一构件4可以由以氮化硅(Si3N4)为主要成分的致密质陶瓷构成。由此，例如在1100℃以上的高温环境下，能够提高对含有卤族元素的气体的耐腐蚀性。
因此，根据第二实施方式，能够减少第一构件4的更换频率，因此能够进一步降低光学玻璃10的制造成本。需要说明的是，在第二实施方式中，第一构件4的比表面积比罩构件6小，因此不一定需要由氮化硅构成，例如也可以由金属等构成。
另外，在第二实施方式中，支承构件3的第二构件5可以由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成。由此，例如在1100℃以上的高温环境下，能够提高对含有卤族元素的气体的耐腐蚀性。
因此，根据第二实施方式，能够减少第二构件5的更换频率，因此能够进一步降低光学玻璃10的制造成本。需要说明的是，在第二实施方式中，第二构件5与罩构件6相比远离光学玻璃10而配置，因此不一定需要由氮化硅构成，例如也可以由金属等构成。
另外，在第二实施方式中，在罩构件6、第一构件4及第二构件5中的至少一个由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的气孔率可以比内部的气孔率小。
通过由这样的致密质陶瓷构成支承构件3，在直接暴露于含有卤族元素的腐蚀性气体的表层中，能够使该腐蚀性气体不容易从气孔侵入到内部。需要说明的是，表层也可以是在深度方向上距表面2mm以内的区域。另外，内部也可以是在深度方向上距表面2mm以上的区域。
因此，根据第二实施方式，能够抑制致密质陶瓷的内部被腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
另外，在第二实施方式中，通过使致密质陶瓷的内部的气孔率比表层大，能够利用内部的气孔阻止裂纹从表层进展，因此能够提高支承构件3的耐热冲击性。
另外，在第二实施方式中，通过使致密质陶瓷的内部的气孔率比表层大，能够降低内部的热传导率，因此能够抑制热量从玻璃棒11经由支承构件3散逸。
因此，根据第二实施方式，能够使形成于玻璃棒11的光学玻璃10的温度稳定，因此能够稳定地制造光学玻璃10。
需要说明的是，在第二实施方式中，在罩构件6、第一构件4及第二构件5中的至少一个由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的气孔率可以为1(面积％)～3(面积％)。
这样，通过由表层的气孔率小的致密质陶瓷构成支承构件3，能够使含有卤族元素的腐蚀性气体更不容易从气孔侵入到内部。
因此，根据第二实施方式，能够进一步抑制致密质陶瓷的内部被腐蚀性气体腐蚀，因此能够进一步提高支承构件3的耐腐蚀性。
另外，在第二实施方式中，在罩构件6、第一构件4及第二构件5中的至少一个由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的内部的气孔率可以为4(面积％)～9(面积％)。
这样，通过由内部的气孔率较大的致密质陶瓷构成支承构件3，能够进一步提高支承构件3的耐热冲击性，并且能够更稳定地制造光学玻璃10。
另外，在第二实施方式中，在罩构件6、第一构件4及第二构件5中的至少一个由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的平均晶粒直径可以比内部的平均晶粒直径大。
通过由这样的致密质陶瓷构成支承构件3，能够缩短表层的晶界的总长度，因此能够使含有卤族元素的腐蚀性气体不容易从晶界侵入到内部。
因此，根据第二实施方式，能够抑制致密质陶瓷的内部被腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
另外，在第二实施方式中，在罩构件6、第一构件4及第二构件5中的至少一个由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的氧含量可以比内部的氧含量少。
通过由这样的致密质陶瓷构成支承构件3，能够抑制含有容易与氧反应的卤族元素(例如氯)的气体与存在于表层的氧的反应。
因此，根据第二实施方式，能够抑制致密质陶瓷的表层被容易与氧反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
需要说明的是，在第二实施方式中，在罩构件6、第一构件4及第二构件5中的至少一个由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的氧含量可以为7.0(质量％)以下，致密质陶瓷的表层的氧含量更优选为6.5(质量％)以下。
由此，能够进一步抑制致密质陶瓷的表层被容易与氧反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够进一步提高支承构件3的耐腐蚀性。另外，在第二实施方式中，致密质陶瓷的内部的氧含量可以为7.1(质量％)以上。
另外，在第二实施方式中，在罩构件6、第一构件4及第二构件5中的至少一个由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成的情况下，该致密质陶瓷的表层的铝含量可以比内部的铝含量少。
通过由这样的致密质陶瓷构成支承构件3，能够抑制含有容易与铝反应的卤族元素(例如氯)的气体与存在于表层的铝的反应。
因此，根据第二实施方式，能够抑制致密质陶瓷的表层被容易与铝反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
需要说明的是，在构成支承构件3的致密质陶瓷中，使用氧化铝(Al2O3)作为烧结主要成分即氮化硅时的烧结助剂，因此在致密质陶瓷的表层及内部存在氧及铝原子。
<支承构件的结构>
接着，参照图14～图18对第二实施方式的支承构件3的详细结构进行说明。图14是用于说明第二实施方式的第一构件4的结构的图，且是第一构件4的上端部(即，被第二构件5支承的部位)的放大图。
如图14所示，第一构件4具有主体部141、窄径部142、台阶部143和支承部144。主体部141是柱状的部位，例如呈圆柱状。窄径部142是设置于主体部141的上端部、且外径比主体部141小的部位。
台阶部143形成于窄径部142的侧面，具有朝向侧方高度不同的台阶。支承部144是位于主体部141与窄径部142之间的圆环状的平面。该支承部144是在由第一构件4支承罩构件6时与罩构件6的底面163(参照图16)抵接的部位。
图15是用于说明第二实施方式的第二构件5的结构的图，且是第二构件5的下端部(即，支承第一构件4的部位)的放大图。如图15所示，第二构件5具有主体部151、窄径部152和台阶部153。
主体部151是柱状的部位，例如呈圆柱状。窄径部152是设置于主体部151的下端部、且外径比主体部151小的部位。另外，窄径部152的外径与第一构件4的窄径部142的外径大致相等。
台阶部153形成于窄径部152的侧面，具有朝向侧方高度不同的台阶。另外，台阶部153具有与第一构件4的台阶部143的台阶形状嵌合的形状。
图16是用于说明第二实施方式的罩构件6相对于第二构件5的设置方法的图。如图16所示，罩构件6呈大致圆筒状，具有主体部161、空腔部162和底面163。
主体部161是柱状的部位，例如呈圆柱状。空腔部162是在主体部161的内部以沿与该主体部161的长度方向相同的方向延伸的方式形成的圆柱状的空腔。
需要说明的是，空腔部162的内径比第一构件4的窄径部142的外径及第二构件5的窄径部152的外径大。另外，空腔部162的内径比第一构件4的主体部141的外径小。
并且，在相对于第二构件5设置罩构件6的情况下，罩构件6朝上插入第二构件5的窄径部152。在此，在第二实施方式中，窄径部152中的比台阶部153靠基端侧的部位比罩构件6长。
由此，在如图17所示那样罩构件6朝上插入第二构件5的窄径部152时，能够使第二构件5的台阶部153从罩构件6露出。图17是用于说明第二实施方式的第一构件4支承于第二构件5的支承方法的图。
接着，在将第一构件4支承于第二构件5的情况下，第一构件4的台阶部143横向嵌合于第二构件5的台阶部153。在此，在第二实施方式中，构成为在第一构件4的台阶部143嵌合于第二构件5的台阶部153的情况下，第一构件4的窄径部142与第二构件5的窄径部152成为外径均等的圆柱。
由此，如图18所示，能够将罩构件6插入第一构件4的窄径部142。并且，在第二实施方式中，由于罩构件6比第一构件4的窄径部142长，因此在罩构件6的底面163被第一构件4的支承部144支承时，能够利用罩构件6将连接第一构件4与第二构件5的连接部(在此为台阶部143、153及其周边)覆盖。
由此，在制造光学玻璃10(参照图1)时，能够利用罩构件6对因受到来自外部的应力而容易腐蚀的连接部(台阶部143、153)进行保护。因此，根据第二实施方式，能够抑制该连接部的劣化。
另外，在第二实施方式中，在光学玻璃10的处理中支承构件3被腐蚀性气体腐蚀了的情况下，通过仅更换接近该光学玻璃10且由于比表面积大而腐蚀反应进展了的罩构件6，能够继续光学玻璃10的处理。
即，在第二实施方式中，即使在支承构件3发生了腐蚀的情况下，仅更换其一部分(罩构件6)就能够继续光学玻璃10的处理，因此能够降低更换支承构件3所需的费用。因此，根据第二实施方式，能够降低光学玻璃10的制造成本。
<第二实施方式的各种变形例>
接着，参照图19～图32对第二实施方式的各种变形例进行说明。需要说明的是，在以下所示的各种变形例中，对与第二实施方式相同的部位标注相同的附图标记，有时省略重复的说明。
图19是用于说明第二实施方式的变形例1的第一构件4的结构的图，且是第一构件4的上端部(即，被第二构件5支承的部位)的放大图。如图19所示，第二实施方式的变形例1的第一构件4具有主体部141、窄径部142、支承部144和外螺纹部145。
主体部141是柱状的部位，例如呈圆柱状。窄径部142是设置于主体部141的上端部、且外径比主体部141小的部位。支承部144是设置于主体部141的侧面的规定部位的圆环状的突起。
该支承部144是在由第一构件4支承罩构件6时与罩构件6的底面163(参照图21)抵接的部位。外螺纹部145是形成于窄径部142的侧面的螺旋状的槽，作为外螺纹发挥功能。
图20是用于说明第二实施方式的变形例1的第二构件5的结构的图，且是第二构件5的下端部(即，支承第一构件4的部位)的放大图。如图20所示，第二实施方式的变形例1的第二构件5具有主体部151、空腔部154和内螺纹部155。
主体部151是柱状的部位，例如呈圆柱状。另外，主体部151的外径与第一构件4的主体部141的外径大致相等。空腔部154是在主体部151的内部以沿与该主体部151的长度方向相同的方向延伸的方式形成的圆柱状的空腔。
内螺纹部155是形成于空腔部154的前端侧的内侧面的螺旋状的槽，作为能够螺纹固定第一构件4的外螺纹部145的内螺纹发挥功能。
图21是用于说明第二实施方式的变形例1的第一构件4支承于第二构件5的支承方法的图。如图21所示，在将第一构件4支承于第二构件5的情况下，第一构件4的外螺纹部145被螺纹固定于第二构件5的内螺纹部155。
另外，如图21所示，第二实施方式的变形例1的罩构件6为大致圆筒状，具有主体部161、空腔部162和底面163。
主体部161是柱状的部位，例如呈圆柱状。空腔部162是在主体部161的内部以沿与该主体部161的长度方向相同的方向延伸的方式形成的圆柱状的空腔。
需要说明的是，空腔部162的内径比第一构件4的主体部141的外径及第二构件5的主体部151的外径稍大。另外，空腔部162的内径比第一构件4的支承部144的外径小。
并且，在相对于第一构件4及第二构件5设置罩构件6的情况下，罩构件6朝下插入第二构件5的主体部151。在此，在第二实施方式的变形例1中，从第一构件4的支承部144到第二构件5的前端部的长度比罩构件6短。
由此，在第二实施方式的变形例1中，如图22所示，在罩构件6的底面163被第一构件4的支承部144支承时，能够利用罩构件6将连接第一构件4与第二构件5的连接部(在此，第二构件5的前端部及其周边)覆盖。图22是用于说明第二实施方式的变形例1的支承构件3的结构的图。
由此，在制造光学玻璃10(参照图1)时，能够利用罩构件6对因受到来自外部的应力而容易腐蚀的连接部(第二构件5的前端部)进行保护。因此，根据第二实施方式的变形例1，能够抑制该连接部的劣化。
另外，在第二实施方式的变形例1中，在光学玻璃10的处理中支承构件3被腐蚀性气体腐蚀了的情况下，通过仅更换接近该光学玻璃10且由于比表面积大而腐蚀反应进展了的罩构件6，能够继续光学玻璃10的处理。
即，在第二实施方式的变形例1中，即使在支承构件3发生了腐蚀的情况下，仅更换其一部分(罩构件6)就能够继续光学玻璃10的处理，因此能够降低更换支承构件3所需的费用。因此，根据第二实施方式的变形例1，能够降低光学玻璃10的制造成本。
图23是用于说明第二实施方式的变形例2的第一构件4的结构的图，且是第一构件4的上端部(即，被第二构件5支承的部位)的放大图。如图23所示，第二实施方式的变形例2的第一构件4具有主体部141、窄径部142和外螺纹部145。
即，第二实施方式的变形例2的第一构件4除了未设置支承部144以外，与第二实施方式的变形例1的第一构件4相同，因此省略详细的说明。
图24是用于说明第二实施方式的变形例2的第二构件5的结构的图，且是第二构件5的下端部(即，支承第一构件4的部位)的放大图。如图24所示，第二实施方式的变形例1的第二构件5具有主体部151、空腔部154、内螺纹部155和支承部156。
需要说明的是，第二实施方式的变形例2的主体部151、空腔部154及内螺纹部155与第二实施方式的变形例1的第二构件5的各部分相同，因此省略详细的说明。
支承部156是设置于主体部151的侧面的规定部位的圆环状的突起。该支承部156是在由第二构件5支承罩构件6时与罩构件6的突出部164(参照图25)抵接的部位。
图25是用于说明第二实施方式的变形例2的第一构件4支承于第二构件5的支承方法的图。如图25所示，在将第一构件4支承于第二构件5的情况下，第一构件4的外螺纹部145被螺纹固定于第二构件5的内螺纹部155。
另外，如图25所示，第二实施方式的变形例2的罩构件6呈大致圆筒状，具有主体部161、空腔部162、底面163和突出部164。
主体部161是柱状的部位，例如呈圆柱状。空腔部162是在主体部161的内部以沿与该主体部161的长度方向相同的方向延伸的方式形成的圆柱状的空腔。
突出部164是设置于主体部161的上端部的内侧面的圆环状的突起。即，在突出部164的附近形成有内径比空腔部162小的圆柱状的空腔。
需要说明的是，在突出部164的附近形成的空腔的内径比第二构件5的主体部151的外径稍大。另外，该空腔的内径比第二构件5的支承部156的外径小。
而且，在相对于第一构件4及第二构件5设置罩构件6的情况下，罩构件6朝下插入第二构件5的主体部151。在此，在第二实施方式的变形例2中，从第二构件5的支承部156到第二构件5的前端部的长度比罩构件6短。
由此，在第二实施方式的变形例2中，如图26所示，在罩构件6的突出部164被第二构件5的支承部156支承时，能够利用罩构件6将连接第一构件4与第二构件5的连接部(在此，第二构件5的前端部及其周边)覆盖。图26是用于说明第二实施方式的变形例2的支承构件3的结构的图。
由此，在制造光学玻璃10(参照图12)时，能够利用罩构件6对因受到来自外部的应力而容易腐蚀的连接部(第二构件5的前端部)进行保护。因此，根据第二实施方式的变形例2，能够抑制该连接部的劣化。
另外，在第二实施方式的变形例2中，在光学玻璃10的处理中支承构件3被腐蚀性气体腐蚀了的情况下，通过仅更换接近该光学玻璃10且由于比表面积大而腐蚀反应进展了的罩构件6，能够继续光学玻璃10的处理。
即，在第二实施方式的变形例2中，即使在支承构件3发生了腐蚀的情况下，仅更换其一部分(罩构件6)就能够继续光学玻璃10的处理，因此能够降低更换支承构件3所需的费用。因此，根据第二实施方式的变形例2，能够降低光学玻璃10的制造成本。
图27是用于说明第二实施方式的变形例2的支承构件3内的迷宫结构的图，且是示出第二构件5的支承部156附近的剖视图。如图27所示，在变形例2中，可以在第二构件5的支承部156附近设置迷宫结构。
例如，在主体部151的侧面151a上，在比第二构件5的支承部156靠上方的部位设置有沿周向形成的凸部151a1。另外，在与该凸部151a1相对的罩构件6的突出部164的内侧面164a形成有与凸部151a1对应的凹部164a1。
而且，在第二构件5及罩构件6中彼此相向的各自的对置面(侧面151a及内侧面164a)上，由第二构件5的凸部151a1和罩构件6的凹部164a1形成迷宫结构。
由此，能够抑制腐蚀性气体从形成于第二构件5与罩构件6之间的间隙侵入第一构件4与第二构件5的连接部。因此，根据第二实施方式的变形例2，能够进一步抑制该连接部的劣化。
需要说明的是，形成于第二构件5与罩构件6之间的迷宫结构不限于图27的例子，只要是使腐蚀性气体的侵入路径变得复杂的结构，则可以是任何结构。
图28是用于说明第二实施方式的变形例3的第一构件4的结构的图，且是第一构件4的上端部(即，被第二构件5支承的部位)的放大图。如图28所示，第一构件4具有主体部141、窄径部142、台阶部143、支承部144和外螺纹部146。
需要说明的是，第二实施方式的变形例3的主体部141、窄径部142、台阶部143及支承部144与第二实施方式的第一构件4的各部分相同，因此省略详细的说明。外螺纹部146是形成于窄径部142的侧面的螺旋状的槽，作为外螺纹发挥功能。
图29是用于说明第二实施方式的变形例3的罩构件6相对于第二构件5的设置方法的图。如图29所示，第二实施方式的变形例3的第二构件5具有主体部151、窄径部152和台阶部153。需要说明的是，第二实施方式的变形例3的第一构件4与第二实施方式的第二构件5相同，因此省略详细的说明。
另外，第二实施方式的变形例3的罩构件6呈大致圆筒状，具有主体部161、空腔部162、底面163和内螺纹部165。需要说明的是，第二实施方式的变形例3的主体部161、空腔部162及底面163与第二实施方式的罩构件6的各部分相同，因此省略详细的说明。
内螺纹部165是形成于空腔部162的下端侧的内侧面的螺旋状的槽，作为能够螺纹固定第一构件4的外螺纹部146的内螺纹发挥功能。
并且，在相对于第二构件5设置罩构件6的情况下，罩构件6朝上插入第二构件5的窄径部152。在此，在第二实施方式的变形例3中，窄径部152中的比台阶部153靠基端侧的部位比罩构件6长。
由此，如第二实施方式的图17所示那样，在罩构件6朝上插入第二构件5的窄径部152时，能够使第二构件5的台阶部153从罩构件6露出。
接着，如第二实施方式的图17所示那样，在将第一构件4支承于第二构件5的情况下，第一构件4的台阶部143横向嵌合于第二构件5的台阶部153。
由此，如图30所示，能够将罩构件6插入第一构件4的窄径部142。图30是用于说明第二实施方式的变形例3的支承构件3的结构的图。
并且，在第二实施方式的变形例3中，由于罩构件6比第一构件4的窄径部142长，因此在罩构件6的底面163被第一构件4的支承部144支承时，能够利用罩构件6将连接第一构件4与第二构件5的连接部(在此为台阶部143、153及其周边)覆盖。
这样，通过利用罩构件6将连接第一构件4与第二构件5的连接部(台阶部143、153)覆盖，在制造光学玻璃10(参照图12)时，能够利用罩构件6保护因受到来自外部的应力而容易腐蚀的连接部。
另外，在第二实施方式的变形例3中，在将罩构件6支承于第一构件4的情况下，罩构件6的内螺纹部165被螺纹固定于第一构件4的外螺纹部146。
由此，能够抑制将连接第一构件4与第二构件5的连接部覆盖的罩构件6因干扰等而偏移。因此，根据第二实施方式的变形例3，能够进一步抑制该连接部的劣化。
另外，在第二实施方式的变形例3中，在光学玻璃10的处理中支承构件3被腐蚀性气体腐蚀了的情况下，通过仅更换接近该光学玻璃10且由于比表面积大而腐蚀反应进展了的罩构件6，能够继续光学玻璃10的处理。
即，在第二实施方式的变形例3中，即使在支承构件3发生了腐蚀的情况下，仅更换其一部分(罩构件6)就能够继续光学玻璃10的处理，因此能够降低更换支承构件3所需的费用。因此，根据第二实施方式的变形例3，能够降低光学玻璃10的制造成本。
在以上说明的第二实施方式及各种变形例中，作为第一构件4支承于第二构件5的支承方法，示出使用了台阶部、螺纹固定的例子，但第一构件4支承于第二构件5的支承方法并不限于该例子。
图31是用于说明第二实施方式的变形例4的第一构件4支承于第二构件5的支承方法的图。如图31所示，在第二实施方式的变形例4中，在第一构件4的窄径部142的上端部设置有钩爪部147，并且在第二构件5的窄径部152的下端部设置有钩爪部157。
并且，在第二实施方式的变形例4中，通过将第一构件4的钩爪部147卡挂于第二构件5的钩爪部157，能够将第一构件4支承于第二构件5。然后，通过使用上述的第二实施方式及各种变形例的方法，利用罩构件6将连接第一构件4与第二构件5的连接部(在此为钩爪部147、157及其周边)覆盖即可。
图32是用于说明第二实施方式的变形例5的第一构件4支承于第二构件5的支承方法的图。如图32所示，在第二实施方式的变形例5中，在第一构件4的窄径部142的上端部设置有钩爪部147，并且在第二构件5的窄径部152的下端部设置有圆弧部158。
并且，在第二实施方式的变形例5中，通过将第一构件4的钩爪部147卡挂于第二构件5的圆弧部158，能够将第一构件4支承于第二构件5。然后，通过使用上述的第二实施方式及各种变形例的方法，利用罩构件6将连接第一构件4与第二构件5的连接部(在此为钩爪部147、圆弧部158及其周边)覆盖即可。
[实施例]
以下，对本发明的实施例进行具体说明。需要说明的是，在以下说明的实施例中，虽然示出了以氮化硅为主要成分的支承构件3，但本发明并不限定于以下的实施例。
首先，准备平均粒径为3μm的金属硅的粉末、平均粒径为1μm且β化率为10％(即α化率为90％)的氮化硅的粉末、平均粒径为1μm的氧化铝的粉末、以及平均粒径为1μm的氧化钇(Y2O3)的粉末。然后将准备的各粉末以规定的比例混合，得到混合粉末。
接着，将得到的混合粉末与水及由氮化硅质烧结体构成的粉碎用介质一起放入滚筒磨机中，混合粉碎至规定的粒径。然后，在混合粉碎后的混合粉末中以规定的比例添加作为有机粘结剂的聚乙烯醇(PVA)并混合，由此得到浆料。
接着，将得到的浆料通过具有规定粒度的筛网的筛子后，使用喷雾干燥造粒装置进行造粒，得到颗粒。然后，通过成形压力为60MPa～100MPa的CIP(冷等静压)成形而将得到的颗粒成形为规定的形状，得到成型体。
接着，将得到的成型体载置于碳化硅制的小钵中，在氮气气氛中在500℃下保持5小时，由此进行脱脂。接着，进一步提高温度，在实质上由氮气构成的150kPa的氮气分压中，在1050℃下保持20小时、在1250℃下保持10小时以进行氮化。
然后，使氮气的压力为常压，进一步升温，在1700℃～1800℃下保持2小时以上进行烧成。最后，通过以规定的降温速度进行冷却，得到以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷的支承构件3(第一构件4及第二构件5)。
需要说明的是，在第一构件4形成有插穿部4a，在第二构件5上形成有空腔部52，因此在构成支承构件3的任一构件存在筒状的部位。
然后，对于得到的筒状的支承构件3，利用SEM(Scanning Electron Microscope)观察外周侧(支承构件3的表层的一例)、中央部(支承构件3的内部的一例)及内周侧(支承构件3的表层的一例)的研磨面。
图33～图35是分别示出支承构件3的外周侧、中央部及内周侧的研磨面的SEM观察照片的图。需要说明的是，在图33～图35所示的SEM观察照片中，深色的部位是气孔。
接着，使用得到的SEM观察照片，对各观察部位的每单位面积的气孔数、气孔率、气孔的平均直径和气孔的最大直径进行评价。具体而言，首先，使用得到的SEM观察照片，将被检测为深色的气孔的轮廓镶边为黑色。
接着，使用进行了镶边的图像或照片，应用图像分析软件“A image-kun”(注册商标，旭化成工程(株)制，需要说明的是，以下记为图像分析软件“A image-kun”时，表示旭化成工程(株)制的图像分析软件。)的粒子分析这样的方法进行图像分析，由此能够求出每单位面积的气孔数、气孔的平均直径和气孔的最大直径。
同样地，通过应用图像分析软件“A image-kun”的粒子分析这样的方法进行图像分析，由此能够求出多个气孔的合计面积，将多个气孔的合计面积相对于单位面积的比例作为“气孔率”求出。
另外，对于得到的筒状的支承构件3，用SEM观察外周侧、中央部及内周侧的断裂面。图36～图38是分别示出支承构件3的外周侧、中央部及内周侧的断裂面的SEM观察照片的图。
另外，对于得到的筒状的支承构件3，评价了外周侧、中央部及内周侧的氧含量及铝含量。需要说明的是，氧含量通过使用氧分析装置(堀场制作所制EMGA-650FA)的红外线吸收法来进行评价。另外，铝含量使用ICP(Inductively Coupled Plasma)发光分光分析装置或荧光X射线分析装置来进行评价。
在此，对于支承构件3的各观察部位，将每单位面积的气孔数、气孔率、气孔的平均直径、气孔的最大直径、氧含量和铝含量的评价结果示于表1。
[表1]
(表1)
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如表1及图33～图35所示，可知在各实施方式的支承构件3中，表层(即，外周侧及内周侧)的气孔率比内部(即，中央部)的气孔率小。由此，在直接暴露于含有卤族元素的腐蚀性气体的表层中，能够使该腐蚀性气体不容易从气孔侵入到内部。
因此，根据各实施方式，能够抑制支承构件3的内部被腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
需要说明的是，作为使支承构件3的表层的气孔率比内部的气孔率小的方法，在较高的成形压力(60MPa～100MPa)下进行CIP成形、在常压的氮气气氛下实施烧成处理等是有效的。
另外，如图36～图38所示，可知在各实施方式的支承构件3中，表层(即，外周侧及内周侧)的平均晶粒直径比内部(即，中央部)的平均晶粒直径大。由此，能够缩短表层的晶界的总长度，因此能够使含有卤族元素的腐蚀性气体不容易从晶界侵入到内部。
因此，根据各实施方式，能够抑制支承构件3的内部被腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
需要说明的是，作为使支承构件3的表层的平均晶粒直径比内部的平均晶粒直径大的方法，在1700℃～1800℃下实施2小时以上的烧成处理等是有效的。
另外，如表1所示，可知在各实施方式的支承构件3中，表层(即，外周侧及内周侧)的氧含量比内部(即，中央部)的氧含量少。由此，能够抑制含有容易与氧反应的卤族元素(例如氯)的气体与存在于表层的氧的反应。
因此，根据各实施方式，能够抑制支承构件3的表层被容易与氧反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
需要说明的是，作为使支承构件3的表层的氧含量比内部的氧含量少的方法，在含有碳的烧成用容器内实施烧成处理等是有效的。
另外，如表1所示，可知在各实施方式的支承构件3中，表层(即，外周侧及内周侧)的氧含量为7.0(质量％)以下。由此，能够进一步抑制支承构件3的表层被容易与氧反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够进一步提高支承构件3的耐腐蚀性。
另外，如表1所示，可知在各实施方式的支承构件3中，表层(即，外周侧及内周侧)的铝含量比内部(即，中央部)的铝含量少。由此，能够抑制含有容易与铝反应的卤族元素(例如氯)的气体与存在于表层的铝的反应。
因此，根据各实施方式，能够抑制支承构件3的表层被容易与铝反应的腐蚀性气体腐蚀，因此能够提高支承构件3的耐腐蚀性。
需要说明的是，作为使支承构件3的表层的铝含量比内部的铝含量少的方法，将氧化铝及氧化钇用作烧结助剂等是有效的。
以上，对本发明的各实施方式进行了说明，但本发明并不限定于上述的各实施方式，能够在不脱离其主旨的范围内进行各种变更。
本领域技术人员能够容易地导出进一步的效果、其他方案。因此，本发明的更广范围的方案并不限定于如以上那样表示且表述的特定的详细内容及代表性的实施方式。因此，能够在不脱离由所附的技术方案及其均等物定义的总括性的发明概念的精神或范围的情况下进行各种变更。
附图标记说明：
1...光学玻璃制造装置；
2...高温炉；
3...支承构件(光学玻璃制造装置用构件的一例)；
4...第一构件；
4a...插穿部；
5...第二构件；
6...罩构件；
7...原料供给部；
10...光学玻璃；
11...玻璃棒；
41...主体部；
42...扩径部；
42a...抵接部；
51...主体部；
52...空腔部；
53...开口部；
54...卡止部
55...狭缝；
143...台阶部；
144...支承部；
145、146...外螺纹部；
153...台阶部；
155...内螺纹部；
156...支承部；
164...突出部；
165...内螺纹部。

Claims (18)

1.一种光学玻璃制造装置用构件，其是在高温环境下暴露于含有卤族元素的气体中的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述光学玻璃制造装置用构件具备：
第一构件，其直接或间接地支承光学玻璃；以及
第二构件，其支承所述第一构件。
2.根据权利要求1所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第一构件以能够相对于所述第二构件摆动的方式支承于所述第二构件。
3.根据权利要求1或2所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第二构件具有：空腔部，其形成于所述第二构件的内部；以及开口部，其贯通所述空腔部与所述第二构件的底面之间，且内径比所述空腔部小，
所述第一构件具有扩径部，所述扩径部的外径比所述空腔部的内径小，且所述扩径部的外径比所述开口部的内径大，
所述扩径部被与所述开口部的上端相邻的卡止部卡止。
4.根据权利要求3所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述扩径部中的与所述卡止部抵接的抵接部具有锥形状或球面形状。
5.根据权利要求3或4所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述卡止部具有锥形状或球面形状。
6.根据权利要求3至5中任一项所述光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第二构件在侧面具有与所述空腔部及所述开口部相连且能够插穿所述扩径部的狭缝。
7.根据权利要求1所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述光学玻璃制造装置用构件还具备罩构件，所述罩构件将连接所述第一构件与所述第二构件的连接部覆盖。
8.根据权利要求7所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第一构件及所述第二构件中的至少一方具有支承所述罩构件的支承部。
9.根据权利要求8所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第二构件具有所述支承部。
10.根据权利要求7至9中任一项所述光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第二构件及所述罩构件在彼此相向的各自的对置面具有迷宫结构。
11.根据权利要求7至10中任一项所述光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第一构件被螺纹固定于所述第二构件。
12.根据权利要求7至11中任一项所述光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述罩构件被螺纹固定于所述第一构件。
13.根据权利要求7至12中任一项所述光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述罩构件由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成。
14.根据权利要求13所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述罩构件的表层的气孔率比内部的气孔率小。
15.根据权利要求1至14中任一项所述光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第一构件由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成。
16.根据权利要求15所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第一构件的表层的气孔率比内部的气孔率小。
17.根据权利要求15或16所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第二构件由以氮化硅为主要成分的致密质陶瓷构成。
18.根据权利要求17所述的光学玻璃制造装置用构件，其中，
所述第二构件的表层的气孔率比内部的气孔率小。
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