CN115031925A - 一种光栅检测方法、装置、系统以及计算机可读存储介质 - Google Patents
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- CN115031925A CN115031925A CN202210953129.9A CN202210953129A CN115031925A CN 115031925 A CN115031925 A CN 115031925A CN 202210953129 A CN202210953129 A CN 202210953129A CN 115031925 A CN115031925 A CN 115031925A
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Abstract
本申请公开了一种光栅检测方法、装置、系统以及计算机可读存储介质;其中,所述光栅检测方法可应用于检测光栅的压印状态,该检测方法包括:获取光栅的衍射效率曲线;将所述光栅的衍射效率曲线与多组设定衍射效率曲线进行匹配;其中,每组所述设定衍射效率曲线具有对应的设计偏差量;将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设计偏差量作为所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量;根据所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量,确定所述光栅的压印状态是否合格。本申请提供的检测方案,可以快速判断光栅的压印状态是否符合要求,且在检测过程中不会对光栅造成损伤。
Description
技术领域
本申请涉及利用光栅的衍射效率对压印状态检测制备技术领域,更具体地,本申请涉及一种光栅检测方法、装置、系统以及计算机可读存储介质。
背景技术
AR(Augmented Reality,增强现实)显示是一种实时地计算摄影机影像的位置及角度并加上相应的图像、视频、3D模型的技术,这种技术的目标是在屏幕上把虚拟世界套在现实世界并进行互动。AR显示一般是从图像源发出入射光,经光波导片的反射和折射之后进入人眼观看,因此,光波导片的性能将直接影响AR设备的图像质量和体验效果。可知的,光波导片包括衬底和设于衬底上的光栅,光栅一般包括有耦入光栅、扩瞳光栅、耦出光栅等功能区域,以此能实现光传输成像。
目前,光波导片制备的方法主要是通过纳米压印的方式在光刻胶上形成光栅图案。光栅在形成后,有必要对光栅压印的状态进行检测,以确保光波导的良品率。通常采用的检测设备是原子力显微镜(AFM)或者扫描电子显微镜(SEM)。虽然,上述的检测设备均可实现微纳结构的检测,但对于实际生产而言,该两种检测设备均存在一些弊端。原子力显微镜的测试速度慢、耗时长,因此只能对产品进行抽检,无法满足生产测试的需求,且较难集成为在线测试。扫描电子显微镜需对产品进行切割,就会对产品造成损坏,无法满足出货的要求。此外,还有一种方法是基于神经网络的光栅测试,但其也存在测试速度缓慢,无法满足生产全检的需求,且还可能出现建模不成功的可能性。
发明内容
本申请的目的在于提供的一种光栅检测方法、装置、系统以及计算机可读存储介质,可以实现快速、无损检测光栅压印状态。
第一方面,本申请实施例提供了一种光栅检测方法,应用于检测光栅的压印状态,所述检测方法包括:
获取光栅的衍射效率曲线;
将所述光栅的衍射效率曲线与多组设定衍射效率曲线进行匹配;其中,每组所述设定衍射效率曲线具有对应的设计偏差量;
将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设计偏差量作为所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量;
根据所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量,确定所述光栅的压印状态是否合格。
可选地,所述检测方法还包括:
将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设定压印状态等级作为所述光栅的衍射效率曲线的压印状态等级;
根据所述目标设定压印状态等级和所述目标设定压印状态等级与所述目标设计偏差量的关联关系,确定所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量。
可选地,所述光栅检测方法还包括:
在所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量小于或者等于设定偏差阈值的情况下,确定所述光栅的压印状态为合格。
可选地,述光栅检测方法还包括:
在所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量大于设定偏差阈值的情况下,确定所述光栅的压印状态为不合格。
可选地,当所述光栅的衍射效率曲线落在所述目标组设定衍射效率曲线内时,确定所述目标组衍射效率曲线与所述光栅的衍射效率曲线为相匹配。
可选地,所述获取光栅的衍射效率曲线包括:
控制光源以不同的入射角度向光栅发射第一光线;
获取所述第一光线的能量;
所述第一光线经所述光栅衍射后出射第二光线,获取不同入射角度的第一光线对应的第二光线的能量;
根据不同入射角度的第一光线对应的第二光线的能量和第一光线的能量,确定所述光栅的衍射效率曲线。
可选地,所述光源为单波长光源或者多波长的宽光谱光源。
第二方面,本申请实施例提供了一种光栅检测装置,所述光栅检测装置包括:
获取模块,用于获取光栅的衍射效率曲线;
匹配模块,用于将所述光栅的衍射效率曲线与多组设定衍射效率曲线进行匹配;其中,每组所述设定衍射效率曲线具有对应的设计偏差量;
第一确定模块,用于将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设计偏差量作为所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量;
第二确定模块,用于根据所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量,确定所述光栅的压印状态是否合格。
第三方面,本申请实施例提供了一种光栅检测系统,所述光栅检测系统包括:
存储器,用于存储计算机程序;
处理器,用于执行所述计算机程序时实现如上所述光栅检测方法的步骤。
第四方面,本申请实施例提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质上存储计算机程序,所述计算机程序在被处理器执行时实现根据上述的光栅检测方法。
本申请的有益效果在于:
本申请实施例提供了一种光栅检测方案,可以实现快速检测光栅的压印状态是否符合标准要求,可以实现生产线上对光栅的全检,同时检测过程中与光栅可以无接触,这样就可以避免对光栅造成损伤;而且,整个检测过程简单、可以降低检测难度。
通过以下参照附图对本申请的示例性实施例的详细描述,本申请的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本申请的实施例,并且连同其说明一起用于解释本申请的原理。
图1是本申请实施例提供的光栅检测方法流程示意图之一;
图2是本申请实施例提供的光栅检测方法中应用的不同压印状态等级对应的衍射效率曲线;
图3是本申请实施例提供的光栅检测方法流程示意图之二;
图4是本申请实施例提供的光栅检测装置的方框原理图;
图5是本申请实施例提供的光栅检测系统的硬件结构示意;
图6是本申请实施例提供的光栅检测装置的一种结构示意图。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本申请的各种示例性实施例。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本申请的范围。
以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本申请及其应用或使用的任何限制。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
在这里示出和讨论的所有例子中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
下面结合附图1至图6对本申请实施例提供的光栅检测方法、装置、系统以及计算机可读存储介质分别进行地详细描述。
<方法实施例>
图1是根据本申请的一个实施例提供的光栅检测方法的流程示意图,该实施例提供的检测方法可以由相应的光栅检测装置或者光栅检测系统实施。
本申请实施例提供的光栅检测方法,例如可应用于光波导制备中通过纳米压印的方式在光刻胶上形成的光栅质量的检测。
本申请实施例提供的光栅检测方法,其可用于确定待测的光栅的压印状态是否符合生产要求。
所述光栅检测方法可以包括下述的步骤S110~步骤S140。
步骤S110、获取光栅的衍射效率曲线。
上述步骤S110中的光栅为待测光栅,其例如可以通过纳米压印技术形成。
在一个例子中,可以设计由功率计检测并记录光栅的衍射光能量,处理器可以根据光源的出射光能量以及功率计获取的衍射光能量计算出光栅的衍射效率。由于不同角度的入射光线会使得光栅的衍射效率有一定的差异,因此,通过调节入射光线射入光栅的入射角度,可以获得衍射效率随入射角度变化而变化的衍射效率曲线,即可以形成步骤S110中的光栅的衍射效率曲线。
其中,光栅的衍射效率为经光栅出射的衍射光能量与光源的出射光能量的比值。
需要说明的是,上述的衍射光能量与光源的出射光能量例如可以通过光功率计或者光谱仪经检测之后获取,本申请实施例中对此不作限制。
此外,在本申请的实施例中,用于检测衍射光能量和光源的出射光能量的检测设备可以设置为同一个,也可以根据需要分开独立设置,本申请实施例中对此不作限制。
光栅的衍射效率曲线,其与光栅的结构数据例如设计偏差量相关。设计偏差量指光栅的实际结构数据和理论结构数据之间的差值与理论结构数据的比值,其又称为与理论偏差的百分比,在本申请的实施中该比值可用以判断光栅的压印状态是否符合标准。
当步骤S110完成之后,则可以进入到步骤S120:
步骤S120、如图1以及图2所示,将所述光栅的衍射效率曲线与多组设定衍射效率曲线进行匹配;其中,每组所述设定衍射效率曲线具有对应的设计偏差量。
在一个例子中,在进行光栅的压印状态的检测之前,可以预先建立标准数据库,该标准数据库中预先对不同的光栅样本(例如1000个光栅样本)按照不同的设计偏差量进行压印状态等级分类,并测出其对应的多组设定衍射效率曲线。
需要说明的是,每一压印状态等级对应的可能不止一条设定衍射效率曲线,可能会对应一簇设定衍射效率曲线,也即对应一组设定衍射效率曲线。
在光栅的压印状态检测过程中,需要先将获取的光栅的衍射效率曲线与标准数据库中的多组设定衍射效率曲线进行匹配,以找出与光栅的衍射效率曲线最接近的一组设定衍射效率曲线,在找到该组设定衍射效率曲线之后就可以进入到步骤S130:
当步骤S120完成之后,则可以进入到步骤S130:
步骤S130、如图1所示,将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设计偏差量作为所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量。
在一个例子中,所述步骤S130还可以包括:将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设定压印状态等级作为所述光栅的衍射效率曲线的压印状态等级;
其中,根据所述目标设定压印状态等级和所述目标设定压印状态等级与所述目标设计偏差量的关联关系,确定所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量。
在一个例子中,在上述的标准数据库中,对不同的光栅样本(例如1000个光栅样本)可以按照设计偏差量的不同,对其进行压印状态等级分类,例如:设计偏差量在3%以内,对应的压印状态等级为A级;设计偏差量在5%以内,对应的压印状态等级为B级,以此类推,具体可以如表1所示。
表1
压印状态等级分类 | 设计偏差量 |
A | 3% |
B | 5% |
C | 7% |
D | 9% |
E | 11% |
…… | …… |
其中,压印状态等级与设计偏差量为一一对应。
例如,当光栅的衍射效率曲线与目标组设定衍射效率曲线相匹配,且该目标组设定衍射效率曲线的压印状态等级为A级,则认为光栅的衍射效率曲线的压印状态等级就为A级。在此基础上,根据目标设定压印状态等级A级与目标设计偏差量3%形成的关联关系,如图表1,以此可以确定光栅的衍射效率曲线的设计偏差量为3%。
需要说明的是,上述的表1中:A级代表压印状态最好,B级次之,以此类推,E级压印状态逐渐变差。
在一个例子中,可以采用原子力显微镜(AFM)对标准数据库中每一光栅样本进行光栅结构测量,将测得的各光栅的实际结构数据和理论结构数据的差值与理论结构数据进行对比,即可获得上述的设计偏差量。再根据设计偏差量可以预先进行压印状态等级分级,可参见表1所示中二者的关联关系。
也就是说,上述的步骤S120及步骤S130可以理解为:
将光栅的衍射效率曲线与多组设定衍射效率曲线进行匹配;其中,每组设定衍射效率曲线均具有对应的设定压印状态等级,每个设定压印状态等级具有对应的设计偏差量。在此基础上,将多组设定衍射效率曲线中与光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设定压印状态等级作为光栅的衍射效率曲线的压印状态等级,并将与目标设定压印状态等级对应目标设计偏差量作为光栅的衍射效率曲线的设计偏差量。通过这样的方式,可以获取光栅的衍射效率曲线的设计偏差量。
当步骤S130完成之后,则可以进入到步骤S140:
步骤S140、根据所述衍射效率曲线的设计偏差量,确定所述光栅的压印状态是否合格。
在一个例子中,如图2所示,在图2中可以看出:光栅的衍射效率曲线01与设定压印状态等级为C级的设定衍射效率曲线接近,可以确定该光栅的衍射效率曲线01的压印状态等级为C级,在结合上表1,进而可以得到该光栅的衍射效率曲线01的设计偏差量如为7%,从而可以快速判断光栅的压印状态是否符合生产要求。
本申请实施例提供的检测方法,可以实现对光栅的压印状态的实时检测,快速对光栅进行筛选。
本申请实施例提供了一种光栅检测方法,可以实现快速检测光栅的压印状态是否符合标准要求,可以实现生产线上对光栅的全检,同时检测过程中与光栅可以无接触,不会对光栅造成任何损伤;而且,整个检测过程简单、可以降低检测难度。
在本申请的一些示例中,所述光栅检测方法还包括:在所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量小于或者等于设定偏差阈值的情况下,确定所述光栅的压印状态为合格。
在一个例子中,在光栅的生产中,可以预先设定设计偏差量为7%或者7%以下时,光栅的压印状态为合格。经本申请实施例提供的光栅检测方法对光栅进行检测的过程中,若获取到光栅的压印状态为B级,则可以得到对应的光栅的衍射效率曲线的设计偏差量为5%,由于该值在7%以下,进而可以确定光栅的压印状态为合格。这种判断方式简单、直观。
在本申请的一些示例中,所述光栅检测方法还包括:在所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量大于设定偏差阈值的情况下,确定所述光栅的压印状态为不合格。
在一个例子中,在光栅的生产中,可以预先设定设计偏差量为7%或者7%以下时,光栅的压印状态为合格。经本申请实施例提供的光栅检测方法对光栅进行检测的过程中,获取到光栅的压印状态为D级,其对应的光栅的衍射效率曲线的设计偏差量为11%,该值超出了预先设定设计偏差量7%,进而可以确定光栅的压印状态为不合格。
在本申请的一些示例中,当所述光栅的衍射效率曲线落在所述目标组设定衍射效率曲线内时,确定所述目标组衍射效率曲线与所述光栅的衍射效率曲线为相匹配。
需要说明的是,标准数据库中的每个压印状态等级的衍射效率数据并不是一根曲线,而是一簇数值接近的曲线,若光栅的衍射效率曲线落在相应等级的曲线范围内,则说明光栅属于此等级。
此外,若标准数据库中的每个压印状态等级的衍射效率数据是一根曲线,在该情况下,与光栅的衍射效率曲线最接近的曲线的等级,则说明光栅属于此等级。
在本申请的一些示例中,如图3所示,所述获取光栅的衍射效率曲线包括如下步骤:
步骤S310、控制光源以不同的入射角度向光栅发射第一光线;
步骤S320、获取所述第一光线的能量;
步骤S330、所述第一光线经所述光栅衍射后出射第二光线,获取不同入射角度的第一光线对应的第二光线的能量;
步骤S340、根据不同入射角度的第一光线对应的第二光线的能量和第一光线的能量,确定所述光栅的衍射效率曲线。
可选的是,所述光源可以为单波长光源或者多波长的宽光谱光源。
也就是说,可以采用单波长光源进行多角度入射的方式获取光栅的衍射效率曲线,该光栅的衍射效率曲线为衍射效率随波长的变化曲线。
为了提高检测方法的准确性,也可以选择采用宽光谱光源,同时改变入射角度的方式获取光栅的衍射效率曲线,该光栅的衍射效率曲线为衍射效率随入射角度和波长变化的曲线。
此外,也可以直接采用宽光谱光源,不改变入射角度的方式获取光栅的衍射效率曲线,光栅的衍射效率曲线为衍射效率随波长变化的曲线。
需要说明的是,标准数据库中的各组设定衍射效率曲线也可以采用上述多种方式中的任一种获取。
通过将光栅的衍射效率曲线与标准数据库中的多组设定衍射效率曲线对比,可以实现检测筛选光栅的目的。
<装置实施例>
图4是根据一个实施例的光栅检测装置的方框原理图。
如图4所示,所述光栅检测装置400包括:
获取模块410,用于获取光栅的衍射效率曲线;
匹配模块420,用于将所述光栅的衍射效率曲线与多组设定衍射效率曲线进行匹配;其中,每组所述设定衍射效率曲线具有对应的设计偏差量;
第一确定模块430,用于将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设计偏差量作为所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量;
第二确定模块440,用于根据所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量,确定所述光栅的压印状态是否合格。
本申请实施例提供了一种光栅检测装置,可以实现快速检测光栅的压印状态是否符合标准要求,可以实现生产线上对光栅的全检,同时检测过程中与光栅可以无接触,如此可以避免对光栅造成损伤,提高良品率;而且,整个检测装置操作简单、可以降低检测难度。
<系统实施例>
本申请实施例提供了一种光栅检测系统,如图5所示,所述光栅检测系统500包括存储器510以及处理器520;其中,存储器510用于存储计算机程序,处理器520用于在执行所述计算机程序时实现如上任一种所述的电机驱动方法的步骤。
本申请实施例提供了一种光栅检测系统,可以实现快速检测光栅的压印状态是否符合标准要求,可以实现生产线上对光栅的全检,同时检测过程中与光栅可以无接触,如此可以避免对光栅造成损伤,提高良品率;而且,整个检测过程简单、可以降低检测难度。
<光栅检测设备实施例>
本申请实施例提供了一种光栅检测设备,如图6所示,所述光栅检测设备包括光源610、功率计620、测试台630及电控旋转装置640,其中,光源610设置于电控旋转装置640,电控旋转装置640可以控制光源610以不同入射角度射入光栅001,光栅001为待测光栅,在检测时可以将光栅001放置在测试台630上,功率计620可以检测光源610的出射光能量,以及光栅001的衍射光能量。在通过处理器可以获取光栅的001的衍射效率曲线。
需要说明的是,功率计可以设置一个,即可检测光源610的出射光能量,也可以检测光栅001的衍射光能量。当然,功率计还可以设置为至少两个,一个用于检测检测光源610的出射光能量,其余检测光栅001的衍射光能量。
光源可以为单波长光源,也可以为多波长的宽频光源。
电控旋转装置可以带动光源调整位置,以使光源发出的光线以不同角度入射至光栅001,进而可以获取光栅001的衍射效率曲线。
<计算机可读存储介质实施例>
本实施例提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现如上所述的电机驱动方法的步骤。
本说明书的一个实施例或者多个实施例可以是系统、方法和/或计算机程序产品。计算机程序产品可以包括计算机可读存储介质,其上载有用于使处理器实现本说明书的各个方面的计算机可读程序指令。
计算机可读存储介质可以是可以保持和存储由指令执行设备使用的指令的有形设备。计算机可读存储介质例如可以是――但不限于――电存储设备、磁存储设备、光存储设备、电磁存储设备、半导体存储设备或者上述的任意合适的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子(非穷举的列表)包括:便携式计算机盘、硬盘、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦式可编程只读存储器(EPROM或闪存)、静态随机存取存储器(SRAM)、便携式压缩盘只读存储器(CD-ROM)、数字多功能盘(DVD)、记忆棒、软盘、机械编码设备、例如其上存储有指令的打孔卡或凹槽内凸起结构、以及上述的任意合适的组合。这里所使用的计算机可读存储介质不被解释为瞬时信号本身,诸如无线电波或者其他自由传播的电磁波、通过波导或其他传输媒介传播的电磁波(例如,通过光纤电缆的光脉冲)、或者通过电线传输的电信号。
这里所描述的计算机可读程序指令可以从计算机可读存储介质下载到各个计算/处理设备,或者通过网络、例如因特网、局域网、广域网和/或无线网下载到外部计算机或外部存储设备。网络可以包括铜传输电缆、光纤传输、无线传输、路由器、防火墙、交换机、网关计算机和/或边缘服务器。每个计算/处理设备中的网络适配卡或者网络接口从网络接收计算机可读程序指令,并转发该计算机可读程序指令,以供存储在各个计算/处理设备中的计算机可读存储介质中。
用于执行本说明书实施例操作的计算机程序指令可以是汇编指令、指令集架构(ISA)指令、机器指令、机器相关指令、微代码、固件指令、状态设置数据、或者以一种或多种编程语言的任意组合编写的源代码或目标代码,编程语言包括面向对象的编程语言—诸如Smalltalk、C++等,以及常规的过程式编程语言—诸如“C”语言或类似的编程语言。计算机可读程序指令可以完全地在用户计算机上执行、部分地在用户计算机上执行、作为一个独立的软件包执行、部分在用户计算机上部分在远程计算机上执行、或者完全在远程计算机或服务器上执行。在涉及远程计算机的情形中,远程计算机可以通过任意种类的网络—包括局域网(LAN)或广域网(WAN)—连接到用户计算机,或者,可以连接到外部计算机(例如利用因特网服务提供商来通过因特网连接)。在一些实施例中,通过利用计算机可读程序指令的状态信息来个性化定制电子电路,例如可编程逻辑电路、现场可编程门阵列(FPGA)或可编程逻辑阵列(PLA),该电子电路可以执行计算机可读程序指令,从而实现本说明书的各个方面。
这里参照根据本说明书实施例的方法、装置(系统)和计算机程序产品的流程图和/或框图描述了本说明书的各个方面。应当理解,流程图和/或框图的每个方框以及流程图和/或框图中各方框的组合,都可以由计算机可读程序指令实现。
这些计算机可读程序指令可以提供给通用计算机、专用计算机或其它可编程数据处理装置的处理器,从而生产出一种机器,使得这些指令在通过计算机或其它可编程数据处理装置的处理器执行时,产生了实现流程图和/或框图中的一个或多个方框中规定的功能/动作的装置。也可以把这些计算机可读程序指令存储在计算机可读存储介质中,这些指令使得计算机、可编程数据处理装置和/或其他设备以特定方式工作,从而,存储有指令的计算机可读介质则包括一个制造品,其包括实现流程图和/或框图中的一个或多个方框中规定的功能/动作的各个方面的指令。
也可以把计算机可读程序指令加载到计算机、其它可编程数据处理装置、或其它设备上,使得在计算机、其它可编程数据处理装置或其它设备上执行一系列操作步骤,以产生计算机实现的过程,从而使得在计算机、其它可编程数据处理装置、或其它设备上执行的指令实现流程图和/或框图中的一个或多个方框中规定的功能/动作。
附图中的流程图和框图显示了根据本说明书的多个实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上,流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段或指令的一部分,模块、程序段或指令的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。在有些作为替换的实现中,方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如,两个连续的方框实际上可以基本并行地执行,它们有时也可以按相反的顺序执行,这依所涉及的功能而定。也要注意的是,框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合,可以用执行规定的功能或动作的专用的基于硬件的系统来实现,或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。对于本领域技术人物来说公知的是,通过硬件方式实现、通过软件方式实现以及通过软件和硬件结合的方式实现都是等价的。
上文实施例中重点描述的是各个实施例之间的不同,各个实施例之间不同的优化特征只要不矛盾,均可以组合形成更优的实施例,考虑到行文简洁,在此则不再赘述。
虽然已经通过示例对本申请的一些特定实施例进行了详细说明,但是本领域的技术人员应该理解,以上示例仅是为了进行说明,而不是为了限制本申请的范围。本领域的技术人员应该理解,可在不脱离本申请的范围和精神的情况下,对以上实施例进行修改。本申请的范围由所附权利要求来限定。
Claims (10)
1.一种光栅检测方法,应用于检测光栅的压印状态,其特征在于,所述检测方法包括:
获取光栅的衍射效率曲线;
将所述光栅的衍射效率曲线与多组设定衍射效率曲线进行匹配;其中,每组所述设定衍射效率曲线具有对应的设计偏差量;
将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设计偏差量作为所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量;
根据所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量,确定所述光栅的压印状态是否合格。
2.根据权利要求1所述的光栅检测方法,其特征在于,所述检测方法还包括:
将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设定压印状态等级作为所述光栅的衍射效率曲线的压印状态等级;
根据所述目标设定压印状态等级和所述目标设定压印状态等级与所述目标设计偏差量的关联关系,确定所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量。
3.根据权利要求1所述的光栅检测方法,其特征在于,所述光栅检测方法还包括:
在所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量小于或者等于设定偏差阈值的情况下,确定所述光栅的压印状态为合格。
4.根据权利要求1所述的光栅检测方法,其特征在于,所述光栅检测方法还包括:
在所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量大于设定偏差阈值的情况下,确定所述光栅的压印状态为不合格。
5.根据权利要求1所述的光栅检测方法,其特征在于,当所述光栅的衍射效率曲线落在所述目标组设定衍射效率曲线内时,确定所述目标组衍射效率曲线与所述光栅的衍射效率曲线为相匹配。
6.根据权利要求1所述的光栅检测方法,其特征在于,所述获取光栅的衍射效率曲线包括:
控制光源以不同的入射角度向光栅发射第一光线;
获取所述第一光线的能量;
所述第一光线经所述光栅衍射后出射第二光线,获取不同入射角度的第一光线对应的第二光线的能量;
根据不同入射角度的第一光线对应的第二光线的能量和第一光线的能量,确定所述光栅的衍射效率曲线。
7.根据权利要求6所述的光栅检测方法,其特征在于,所述光源为单波长光源或者多波长的宽光谱光源。
8.一种光栅检测装置,其特征在于,包括:
获取模块,用于获取光栅的衍射效率曲线;
匹配模块,用于将所述光栅的衍射效率曲线与多组设定衍射效率曲线进行匹配;其中,每组所述设定衍射效率曲线具有对应的设计偏差量;
第一确定模块,用于将所述多组设定衍射效率曲线中与所述光栅的衍射效率曲线匹配的目标组设定衍射效率曲线对应的目标设计偏差量作为所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量;
第二确定模块,用于根据所述光栅的衍射效率曲线的设计偏差量,确定所述光栅的压印状态是否合格。
9.一种光栅检测系统,其特征在于,包括:
存储器,用于存储计算机程序;
处理器,用于执行所述计算机程序时实现如权利要求1至7中任一项所述光栅检测方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质上存储计算机程序,所述计算机程序在被处理器执行时实现根据权利要求1至7中任一项所述的光栅检测方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN115031925B (zh) |
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- 2022-08-10 CN CN202210953129.9A patent/CN115031925B/zh active Active
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