CN114959628A - 一种真空离子镀膜预处理设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种真空离子镀膜预处理设备，包括预处理腔室，预处理腔室上设置有可启闭状装配的室门，预处理腔室内设置有用于挂载工件的载具以及对载具上的工件进行加热处理的加热装置，预处理腔室与抽气装置相连通连接。本发明提供的上述方案，在镀膜预处理设备中对工件进行镀膜预处理的同时，可以在真空离子镀膜设备中对镀膜预处理后的另一组工件进行真空离子镀膜，从而缩短工件真空离子镀膜的周期，提高生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及真空离子镀膜领域，具体涉及一种真空离子镀膜预处理设备。
背景技术
相比传统电镀化学镀的湿法镀膜，真空镀膜技术采用干式镀膜，在镀膜过程中基本为“零污染”，近年来已广泛应用在刀具、模具、汽车、航空航天、医疗、3C消费电子及军工等各个领域。由于工件被镀膜前都要进行喷砂或抛光然后用去离子水清洗，于是工件表面及内里就会充满了水和大气杂气等，在进行纯离子镀膜前，需要将工件表面及内里的水及气排除干燥，否则会影响镀膜的膜层品质。目前对于工件的除杂干燥和真空镀膜均在真空镀膜机内完成，需要先在镀膜腔室内进行排气及干燥之后才能进行镀膜，排气及干燥需要很长的时间，这样会极大延长镀膜周期，降低生产效率。
发明内容
本发明的目的是提供一种真空离子镀膜预处理设备，其可以用于解决上述技术问题。
本发明采取的技术方案具体如下：
一种真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：包括预处理腔室，预处理腔室上设置有可启闭状装配的室门，预处理腔室内设置有用于挂载工件的载具以及对载具上的工件进行加热处理的加热装置，预处理腔室与抽气装置相连通连接。
具体的方案为：还包括用于对预处理腔室进行冷却的冷却装置以及对各装置的运行状态进行调控的控制装置。
加热装置包括预处理腔室内设置的各个加热棒，预处理腔室内设置有温度传感器，温度传感器与控制装置相连接。
预处理腔室内设置有对载具进行承托和调节载具进行转动的承载台，承载台的中部设置有驱动轴，驱动轴和载具底部中心处设置的连接轴可拆卸式装配连接。
加热棒在承载台的外侧沿承载台的周向间隔设置，加热棒立状布置。
抽气装置包括机械泵组和分子泵，机械泵组与主管道的一端相连接，主管道的另一端设置有A、B接口，A接口通过A管道与预处理腔室相连通连接，A管道上设置有A阀体，B接口与B阀体相连接，B阀体通过各个B管道与预处理腔室相连通连接，各B管道上分别设置分子泵，各分子泵的进气端处均设置有C阀体。
冷却装置包括预处理腔室侧壁上设置的冷却腔道和预处理腔室外部设置的冷水机组，冷水机组与冷却腔道之间通过进、出水管和水分配器组成水循环回路。
冷却腔道为预处理腔室的侧壁上设置的各个冷却管道构成。
还包括对预处理腔室内的压力进行检测的压力传感器，压力传感器与控制装置相连接，预处理腔室上还设置有用于向预处理腔室内供送惰性气体的进气装置，预处理腔室上还设置有观察窗，预处理腔室安装在预处理机架上。
一种真空离子镀膜的方法：将清洗后的工件在载具上挂载好，通过转运车将载具运输至预处理腔室内，关闭预处理腔室的室门，启动加热装置进行加热，抽气装置进行抽真空，调节承载台带动载具进行转动，并通过温度传感器、压力传感器检测将检测的信号输送至控制装置进行分析处理并调控镀膜预处理设备的运行状态，从而实现对预处理腔室内工件的镀膜预处理；与此同时，真空离子镀膜设备中对另一预处理过的载具上的工件进行镀膜处理；待镀膜预处理腔室内的工件完成镀膜预处理、真空离子镀膜设备内的工件完成镀膜后，将真空离子镀膜后的载具移出真空离子镀膜设备进行卸载，将完成镀膜预处理后的载具通过转送小车推送至真空离子镀膜设备进行真空离子镀膜，与此同时将承载有新的待镀膜预处理工件的载具推送至镀膜预处理设备中进行镀膜预处理；如此重复上述操作。
本发明提供的上述方案，在镀膜预处理设备中对工件进行镀膜预处理的同时，可以在真空离子镀膜设备中对镀膜预处理后的另一组工件进行真空离子镀膜，从而缩短工件真空离子镀膜的周期，提高生产效率。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图2为图1中除去室门后的结构示意图。
图3为图2中载具移出至转运车上的结构示意图。
附图标号和部件对应关系如下。
10-预处理机架、11-预处理腔室、12-室门、13-承载台、14-驱动轴、15-观察窗、16-加热棒、21-机械泵组、22-分子泵、23-主管道、24-A管道、25-A阀体、26-B阀体、27-B管道、28-C阀体、30-电器柜、40-转运车、50-载具。
具体实施方式
为了使本发明的目的及优点更加清楚明白，以下结合实施例对本发明进行具体说明。应当理解，以下文字仅仅用以描述本发明的一种或几种具体的实施方式，并不对本发明具体请求的保护范围进行严格限定。如在本文中所使用，术语“平行”和“垂直”不限于其严格的几何定义，而是包括对于机加工或人类误差合理和不一致性的容限。
如图1～3所示，一种真空离子镀膜预处理设备，包括预处理腔室11，预处理腔室11上设置有可启闭状装配的室门12，预处理腔室11内设置有用于挂载工件的载具50以及对载具50上的工件进行加热处理的加热装置，预处理腔室11与抽气装置相连通连接。还包括用于对预处理腔室11进行冷却的冷却装置以及对各装置的运行状态进行调控的控制装置。加热装置包括预处理腔室11内设置的各个加热棒16，预处理腔室11内设置有温度传感器，温度传感器与控制装置相连接。温度传感器具体可以为热电偶构成，沿着预处理腔室11的周向间隔设置且各温度传感器的高度逐渐增大或减小。控制装置设置在电器柜30内，包括PLC人机装置，PLC人机操作装置内设置有加热调节单元、温控调节单元、抽气调控单元。
详细的，预处理腔室11内设置有对载具50进行承托和调节载具50进行转动的承载台13，承载台13的中部设置有驱动轴14，驱动轴14和载具50底部中心处设置的连接轴可拆卸式装配连接。承载台13的实施可以和真空离子镀膜设备上真空腔室内的载物台的实施方式相一致。载具50的底部可设置滚轮，满足载具50的转动需求。
加热棒16在承载台13的外侧沿承载台13的周向间隔设置，加热棒16立状布置。抽气装置包括机械泵组21和分子泵22，机械泵组21与主管道23的一端相连接，主管道23的另一端设置有A、B接口，A接口通过A管道24与预处理腔室11相连通连接，A管道24上设置有A阀体25，B接口与B阀体26相连接，B阀体26通过各个B管道27与预处理腔室11相连通连接，各B管道27上分别设置分子泵22，各分子泵22的进气端处均设置有C阀体28。冷却装置包括预处理腔室11侧壁上设置的冷却腔道和预处理腔室11外部设置的冷水机组，冷水机组与冷却腔道之间通过进、出水管和水分配器组成水循环回路。具体的冷却腔道可为预处理腔室11的侧壁上设置的各个冷却管道构成。B管道27设置有三组，A、B阀体25、26为角阀，C阀体28为插板阀。还包括对预处理腔室内的压力进行检测的压力传感器，压力传感器与控制装置相连接，压力传感器具体可以为真空规，预处理腔室11上还设置有用于向预处理腔室11内供送惰性气体的进气装置，预处理腔室11上还设置有观察窗15，预处理腔室11安装在预处理机架10上。
采用本发明联合真空离子镀膜设备对工件进行真空离子镀膜的方法为：将清洗后的工件在载具50上挂载好，通过转运车40将载具50运输至预处理腔室11内，关闭预处理腔室11的室门12，启动加热装置进行加热，抽气装置进行抽真空，调节承载台13带动载具50进行转动，并通过温度传感器、压力传感器检测将检测的信号输送至控制装置进行分析处理并调控镀膜预处理设备的运行状态，从而实现对预处理腔室11内工件的镀膜预处理；与此同时，真空离子镀膜设备中对另一预处理过的载具50上的工件进行镀膜处理；待镀膜预处理腔室11内的工件完成镀膜预处理、真空离子镀膜设备内的工件完成镀膜后，将真空离子镀膜后的载具50移出真空离子镀膜设备进行卸载，将完成镀膜预处理后的载具50通过转送小车推送至真空离子镀膜设备进行真空离子镀膜，与此同时将承载有新的待镀膜预处理工件的载具50推送至镀膜预处理设备中进行镀膜预处理；如此重复上述操作。
详细的操作为：先打开预处理腔室11的室门12，转运车40将装好工件的载具50推至预处理腔室11内，并让驱动轴14和连接轴衔接，然后将转运车40推开，关闭室门12。将镀膜预处理通电使设备处于工作状态，控制装置下达工作指令，抽气装置开启并将预处理腔室11内抽至真空状态值，真空规将预处理腔室11内的真空度反馈到控制装置；同时开启加热装置，使得加热棒16给预处理腔室11内部加热，同时设置的各温度传感器将检测的预处理腔室11内的温度反馈到控制装置，驱动轴14驱使载具50及工件转动，使工件受热均匀，以便工件表面及内里的杂气及水分气化并被抽气装置抽出并排出至预处理腔室11外；同时冷却装置启动，冷却纯水由冷水机组经水管进到水分配器中，由水分配器分配后经水管输送到预处理腔室11外壁上设置的冷却管道内，循环式进行冷却，进气装置在需要惰性气体时由控制装置调控向预处理腔室11内输入惰性气体。待工件完成除杂和干燥后，即可将载具50由预处理腔室11推出，并由转运车40推离转运至真空离子镀膜设备内进行真空离子镀膜处理。而镀膜预处理设备又可以进行另一批工件的除杂和干燥。
本发明提供的上述镀膜预处理，具有加热、排气（抽气）、温控、抽真空、存放等功能，预先对工件进行除杂、干燥，为下一道真空离子镀膜工序准备完美的准镀件。经本发明设备对准镀膜工件的预先除杂、干燥及暂存，减少了真空离子镀膜设备的镀膜时间，本发明与真空离子镀膜设备均为独立体，提高了膜层质量的同时，节省镀膜时间，提高了镀膜生产效率。转运车40为辅助装置，用于来回转运载具50，转运操作简便。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。本发明中未具体描述和解释说明的结构、机构以及操作方法，如无特别说明和限定，均按照本领域的常规手段进行实施。
Claims (10)
1.一种真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：包括预处理腔室，预处理腔室上设置有可启闭状装配的室门，预处理腔室内设置有用于挂载工件的载具以及对载具上的工件进行加热处理的加热装置，预处理腔室与抽气装置相连通连接。
2.根据权利要求1所述的真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：还包括用于对预处理腔室进行冷却的冷却装置以及对各装置的运行状态进行调控的控制装置。
3.根据权利要求2所述的真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：加热装置包括预处理腔室内设置的各个加热棒，预处理腔室内设置有温度传感器，温度传感器与控制装置相连接。
4.根据权利要求2所述的真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：预处理腔室内设置有对载具进行承托和调节载具进行转动的承载台，承载台的中部设置有驱动轴，驱动轴和载具底部中心处设置的连接轴可拆卸式装配连接。
5.根据权利要求3所述的真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：加热棒在承载台的外侧沿承载台的周向间隔设置，加热棒立状布置。
6.根据权利要求2所述的真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：抽气装置包括机械泵组和分子泵，机械泵组与主管道的一端相连接，主管道的另一端设置有A、B接口，A接口通过A管道与预处理腔室相连通连接，A管道上设置有A阀体，B接口与B阀体相连接，B阀体通过各个B管道与预处理腔室相连通连接，各B管道上分别设置分子泵，各分子泵的进气端处均设置有C阀体。
7.根据权利要求2或6所述的真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：冷却装置包括预处理腔室侧壁上设置的冷却腔道和预处理腔室外部设置的冷水机组，冷水机组与冷却腔道之间通过进、出水管和水分配器组成水循环回路。
8.根据权利要求7所述的真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：冷却腔道为预处理腔室的侧壁上设置的各个冷却管道构成。
9.根据权利要求7所述的真空离子镀膜预处理设备，其特征在于：还包括对预处理腔室内的压力进行检测的压力传感器，压力传感器与控制装置相连接，预处理腔室上还设置有用于向预处理腔室内供送惰性气体的进气装置，预处理腔室上还设置有观察窗，预处理腔室安装在预处理机架上。
10.一种真空离子镀膜的方法，其特征在于：将清洗后的工件在载具上挂载好，通过转运车将载具运输至预处理腔室内，关闭预处理腔室的室门，启动加热装置进行加热，抽气装置进行抽真空，调节承载台带动载具进行转动，并通过温度传感器、压力传感器检测将检测的信号输送至控制装置进行分析处理并调控镀膜预处理设备的运行状态，从而实现对预处理腔室内工件的镀膜预处理；与此同时，真空离子镀膜设备中对另一预处理过的载具上的工件进行镀膜处理；待镀膜预处理腔室内的工件完成镀膜预处理、真空离子镀膜设备内的工件完成镀膜后，将真空离子镀膜后的载具移出真空离子镀膜设备进行卸载，将完成镀膜预处理后的载具通过转送小车推送至真空离子镀膜设备进行真空离子镀膜，与此同时将承载有新的待镀膜预处理工件的载具推送至镀膜预处理设备中进行镀膜预处理；如此重复上述操作。
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