CN114927551A - 显示面板、显示面板制备方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板、显示面板制备方法及显示装置，显示面板具有第一显示区以及至少部分围绕第一显示区的第二显示区，第一显示区的透光率大于第二显示区的透光率，显示面板包括：衬底，衬底包括至少两层层叠设置的子衬底层；遮光层，至少部分位于第一显示区，遮光层设于任一相邻的两层的子衬底层之间，且遮光层包括图案化的第一开口；导电层，设于衬底一侧，导电层具有和第一开口对应的第二开口。以子衬底层作为遮光层的平坦化层，子衬底层的平坦度好，在保证显示面板整体厚度的同时，简化了生产工艺，降低了成本。子衬底层能够有效吸收遮光层因弯折或者弯曲所产生的应力，更有利于释放遮光层自身的应力，遮光层有更好的信赖性表现。

Description

显示面板、显示面板制备方法及显示装置

技术领域

本发明属于电子产品技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示面板制备方法及显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，人们对使用的电子产品不仅要求流畅的使用体验，而且对视觉体验的要求也越来越高，高屏占比成为目前研究的方向。对于电子产品来说，前置摄像头等光学元件的设置必然会占据一定的空间，从而影响屏占比。而为了提升屏占比，实现全面屏，研究人员考虑屏下摄像头的实现方案。

目前，在屏下摄像头OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示中，为了实现高PPI的需求，会采用图案化阴极的技术，受到现有的膜层结构限制，用于成型图案化阴极的金属层的平坦性较差，需要额外设置平坦化层，影响显示面板的整体厚度。

因此，亟需一种新的显示面板、显示面板制备方法及显示装置。

发明内容

本发明实施例提供了一种显示面板、显示面板制备方法及显示装置，相对现有技术中的显示面板，不需要单独的薄膜沉积，以作为遮光层的平坦化层，且子衬底层的平坦度好，在保证显示面板整体厚度的同时，简化了生产工艺，降低了成本。

本发明实施例一方面提供了一种显示面板，具有第一显示区以及至少部分围绕所述第一显示区的第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率，所述显示面板包括：衬底，所述衬底包括至少两层层叠设置的子衬底层；遮光层，至少部分位于所述第一显示区，所述遮光层设于任一相邻的两层的所述子衬底层之间，且所述遮光层包括图案化的第一开口；导电层，设于所述衬底一侧，所述导电层具有和所述第一开口对应的第二开口。

根据本发明的一个方面，所述衬底包括层叠设置的第一子衬底层和第二子衬底层，所述遮光层设于所述第一子衬底层和所述第二子衬底层之间，且所述第一子衬底层和所述第二子衬底层中至少一者的部分填充于所述遮光层的第一开口。

根据本发明的一个方面，还包括阵列层，所述阵列层设于所述衬底和所述导电层之间，所述阵列层包括像素电路，所述第一开口在所述衬底上的正投影和所述像素电路在所述衬底上的正投影不重叠。

根据本发明的一个方面，还包括设于所述阵列层背离所述衬底一侧的发光层，所述发光层包括沿所述显示面板的厚度方向层叠设置的第一电极层、有机发光层以及第二电极层，所述第二电极层至少部分区域复用为所述导电层。

根据本发明的一个方面，所述第一电极层包括第一电极块，所述第一开口在所述第一电极层上的正投影至少部分落在所述第一电极块之间的间隔内。

根据本发明的一个方面，所述遮光层的厚度小于或者等于所述子衬底层的厚度；优选的，所述遮光层的厚度为5μm～15μm；所述子衬底层的厚度为10μm～20μm。

根据本发明的一个方面，所述遮光层为单层金属层；或，所述遮光层为包括至少两层金属的复合金属层；优选的，所述遮光层包括银、铜、铝、铟或者钛铝钛中的至少一种。

本发明实施例另一方面提供了一种显示面板制备方法，所述显示面板具有第一显示区以及至少部分围绕所述第一显示区的第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率，包括：提供衬底，所述衬底包括至少两层层叠设置的子衬底层，且在任一相邻的两层的所述子衬底层之间形成遮光层，所述遮光层至少部分位于所述第一显示区，且所述遮光层包括图案化的第一开口；在所述衬底一侧形成待加工的导电层；以所述遮光层为遮挡对所述待加工的导电层进行刻蚀，以使所述待加工的导电层形成和所述第一开口对应的第二开口。

根据本发明的另一个方面，在所述以所述遮光层为遮挡对所述待加工的导电层进行刻蚀的步骤中，包括：通过激光刻蚀工艺对以所述遮光层为遮挡对所述待加工的导电层进行刻蚀。

本发明实施例又一方面提供了一种显示装置，包括：显示面板，所述显示面板为上述任一实施例中所述的显示面板；光学元件，和所述显示面板的第一显示区对应设置。

与现有技术相比，本发明实施例所提供的显示面板包括衬底、遮光层和导电层，衬底包括至少两层层叠设置的子衬底层，遮光层设于任一相邻的两层的子衬底层之间，即至少遮光层的上下表面被子衬底层所覆盖，由于子衬底层通常采用柔性材料，本身具有一定的流动性，平坦性好，因而覆盖于遮光层的子衬底层能够起到平坦化层的作用，相对现有技术中的显示面板，不需要单独的薄膜沉积，以子衬底层作为遮光层的平坦化层，子衬底层的平坦度好，在保证显示面板整体厚度的同时，简化了生产工艺，降低了成本。另一方面，由于遮光层的上下表面被子衬底层所覆盖，即遮光层位于衬底内部，且衬底具备一定厚度，在显示面板弯折或者弯曲时，子衬底层能够有效吸收遮光层因弯折或者弯曲所产生的应力，更有利于释放遮光层自身的应力，遮光层有更好的信赖性表现。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明一种实施例提供的显示面板的结构示意图；

图2是图1中B-B处的膜层结构图；

图3是本发明一种实施例提供的显示面板的光路示意图；

图4是本发明一种实施例提供的显示面板制备方法的流程图；

图5是本发明一种实施例提供的显示面板制备方法过程中的结构示意图。

附图中：

1-衬底；11-第一子衬底层；12-第二子衬底层；2-遮光层；3-阵列层；4-发光层；41-第一电极层；42-有机发光层；43-第二电极层；C-导电层；K1-第一开口；K2-第二开口；T-像素电路；S-源极；D-漏极；G-栅极；Y-有源层；F-光学元件；AA1-第一显示区；AA2-第二显示区。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明，并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。

在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在本发明中能进行各种修改和变化，这对于本领域技术人员来说是显而易见的。因而，本发明意在覆盖落入所对应权利要求(要求保护的技术方案)及其等同物范围内的本发明的修改和变化。需要说明的是，本发明实施例所提供的实施方式，在不矛盾的情况下可以相互组合。

以下将结合附图图1至图5对显示面板、显示面板制备方法及显示装置的各实施例进行说明。

请参阅图1至图3，图1是本发明一种实施例提供的显示面板的结构示意图；图2是图1中B-B处的膜层结构图；图3是本发明一种实施例提供的显示面板的光路示意图。

本发明实施例提供的一种显示面板，具有第一显示区AA1以及至少部分围绕第一显示区AA1的第二显示区AA2，第一显示区AA1的透光率大于第二显示区AA2的透光率，显示面板包括：衬底1，衬底1包括至少两层层叠设置的子衬底层；遮光层2，至少部分位于第一显示区AA1，遮光层2设于任一相邻的两层的子衬底层之间，且遮光层2包括图案化的第一开口K1；导电层C，设于衬底1一侧，导电层C具有和第一开口K1对应的第二开口K2。

本发明实施例所提供的显示面板包括衬底1、遮光层2和导电层C，衬底1包括至少两层层叠设置的子衬底层，遮光层2设于任一相邻的两层的子衬底层之间，即至少遮光层2的上下表面被子衬底层所覆盖，由于子衬底层通常采用柔性材料，本身具有一定的流动性，平坦性好，因而覆盖于遮光层2的子衬底层能够起到平坦化层的作用，相对现有技术中的显示面板，不需要单独的薄膜沉积，以子衬底层作为遮光层2的平坦化层，子衬底层的平坦度好，在保证显示面板整体厚度的同时，简化了生产工艺，降低了成本。另一方面，由于遮光层2的上下表面被子衬底层所覆盖，即遮光层2位于衬底1内部，且衬底具备一定厚度，在显示面板弯折或者弯曲时，子衬底层能够有效吸收遮光层2因弯折或者弯曲所产生的应力，更有利于释放遮光层2自身的应力，遮光层2有更好的信赖性表现。

在本实施例中，衬底1主要用于支撑设置在其上的器件，其材质可以为聚酰亚胺、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对二甲苯、聚醚砜或聚萘二甲酸乙二醇酯等。还可以为其它透光率在90％以上的硅系胶材料，或者透光率略低(大于80％)、抗弯强度略高的其它有机胶材料，对此，本实施例不作限制。

遮光层2具体可以采用金属等遮光性好，且能够吸收一定热量的材料，以在采用激光对导电层C进行刻蚀时，能够作为掩膜板，使得导电层C形成所需的图案形状，且遮光层2还可以起到吸收激光热量保护像素电路T的作用。

可以理解的是，第一显示区AA1即用于设置摄像头等光学元件F的透光区域，第一显示区AA1的透光率大于第二显示区AA2的透光率，以使对应光学元件F接收到足够的进光量，保证其成像效果。

请参阅图3，在第一显示区AA1设有光学元件F时，本发明实施例中的遮光层2设于任一相邻的两层的子衬底层之间，相比于现有技术中遮光层2设于衬底1和阵列层3之间的方案，本申请实施例中的遮光层2距离光学元件F更近，视野角度增大。

在一些可选的实施例中，衬底1包括层叠设置的第一子衬底层11和第二子衬底层12，遮光层2设于第一子衬底层11和第二子衬底层12之间，且第一子衬底层11和第二子衬底层12中至少一者的部分填充于遮光层2的第一开口K1。

需要说明的是，在本实施例中，衬底1包括两层子衬底层，第一子衬底层11和第二子衬底层12，由于遮光层2具有第一开口K1，以便于激光通过，为了保证遮光层2上各膜层的平坦性不会因为第一开口K1受到影响，第一子衬底层11和第二子衬底层12中至少一者的部分填充于遮光层2的第一开口K1，可以理解的是，第一子衬底层11和第二子衬底层12是采用透光材料制成的，因而将第一子衬底层11和第二子衬底层12中至少一者的部分填充于遮光层2的第一开口K1，并不会影响第一开口K1内激光的通过。

可选的，考虑到成型工艺的难度，可以使第二子衬底层12的部分填充于遮光层2的第一开口K1，第二子衬底层12即设于遮光层2靠近导电层C一侧的子衬底层，也就是覆盖于遮光层2上表面的子衬底层，在重力的作用下，第二子衬底层12更加容易填充于第一开口K1。当然，也可以使第一子衬底层11的部分填充于遮光层2的第一开口K1，或者第一子衬底层11和第二子衬底层12两者的部分填充于遮光层2的第一开口K1，并无特殊限定，可以根据实际工艺进行选择。

在一些可选的实施例中，显示面板还包括阵列层3，阵列层3设于衬底1和导电层C之间，阵列层3包括像素电路T，第一开口K1在衬底上的正投影和像素电路T在衬底1上的正投影不重叠。

可以理解的是，由于采用激光对导电层C刻蚀时，激光会从第一开口K1出射，本发明实施例通过使第一开口K1在衬底1上的正投影和像素电路T在衬底1上的正投影不重叠，以避免从第一开口K1出射的激光照射到像素电路T，进而避免激光对像素电路T的薄膜晶体管或者走线造成热损伤，同时，子衬底层也能起到热缓冲层的作用，吸收部分热量，进一步降低像素电路T器件的热损失，提升像素电路T器件的信赖性。

可选的，像素电路T的薄膜晶体管包括有源层Y、栅极G、源极S、漏极D，漏极D、源极S和栅极G的材料可以包括钼、钛、铝、铜等中的一种或多种的组合。薄膜晶体管的栅极G通常用于接收控制信号，使薄膜晶体管在控制信号的控制下导通或截止。

为了实现显示面板的发光显示，在一些可选的实施例中，显示面板还包括设于阵列层3背离衬底1一侧的发光层4，发光层4包括沿显示面板的厚度方向层叠设置的第一电极层41、有机发光层42以及第二电极层43，第二电极层43至少部分区域复用为导电层C。

可以理解的是，本发明实施例中的第二电极层43至少部分区域复用为导电层C，即至少部分位于第一显示区AA1的第二电极层43经图案化处理，例如激光刻蚀工艺，以形成和第一开口K1对应的第二开口K2，增大外界环境光通过第二开口K2进入屏下光学元件F的光量，即提高第二电极层43在第一显示区AA1的透光率。

其中，第二电极层43材料一般采用功函数较低的材料，以便电子注入，另外还可以减少工作中产生的热量，延长OLED器件的使用寿命。第二电极层43的材料可以为银(Ag)、铝(Al)、锂(Li)、镁(Mg)、镱(Yb)、钙(Ca)或铟(In)等金属材料的一种，还可以为前述金属材料的合金，如镁银合金(Mg/Ag)、锂铝合金(Li/Al)，对此，本实施例不作限制。

第一电极层41的材料一般为功函数高的材料，以便提高空穴注入效率，可为金(Au)、铂(Pt)、钛(Ti)、银(Ag)、氧化铟锡(ITO)、氧化锌锡(IZO)或透明导电聚合物(如聚苯胺)等。

在一些可选的实施例中，第一电极层41包括第一电极块，第一开口K1在第一电极层41上的正投影至少部分落在第一电极块之间的间隔内。

可以理解的是，由于第一电极层41设于遮光层2和第二电极层43之间，即从遮光层2出射的激光会通过第一电极层41再射向第二电极层43，且第一电极层41的各个第一电极块间隔设置，为了避免激光对第一电极块造成损伤，第一开口K1在第一电极层41上的正投影至少部分落在第一电极块之间的间隔内。可选的，第一开口K1在第一电极层41上的正投影均落在第一电极块之间的间隔内，由于第一电极层41通常也采用不透光的金属制成，因而，第一电极层41也能起到一定的掩膜版作用。

在一些可选的实施例中，遮光层2的厚度小于或者等于子衬底层的厚度，可以理解的是，遮光层2的厚度不宜过大，过大则会影响弯折性能，将子衬底层的厚度设置为大于遮光层2的厚度时，能够有效利用子衬底层来吸收遮光层2弯曲或者弯折时所产生的弯折应力。可选的，遮光层2的厚度为5μm～15μm；子衬底层的厚度为10μm～20μm。

在一些可选的实施例中，遮光层2为单层金属层；或，遮光层2为包括至少两层金属的复合金属层。

可以理解的是，由于遮光层2是用于遮挡激光，需要具有较好的遮光以及隔热性能，可选的，遮光层2包括银、铜、铝、铟或者钛铝钛中的至少一种。

请参阅图4，本发明实施例还提供了一种显示面板制备方法，显示面板具有第一显示区AA1以及至少部分围绕第一显示区AA1的第二显示区AA2，第一显示区AA1的透光率大于第二显示区AA2的透光率，包括：

S110：提供衬底1，衬底1包括至少两层层叠设置的子衬底层，且在任一相邻的两层的子衬底层之间形成遮光层2，遮光层2至少部分位于第一显示区AA1，且遮光层2包括图案化的第一开口K1；

S120：在衬底一侧形成待加工的导电层C，如图5所示；

S130：以遮光层2为遮挡对待加工的导电层C进行刻蚀，以使待加工的导电层C形成和第一开口K1对应的第二开口K2，如图2和图3所示。

本发明实施例所提供的显示面板制备方法，通过使遮光层2设于任一相邻的两层的子衬底层之间，即至少遮光层2的上下表面被子衬底层所覆盖，由于子衬底层通常采用柔性材料，本身具有一定的流动性，平坦性好，因而覆盖于遮光层2的子衬底层能够起到平坦化层的作用，相对现有技术中的显示面板，不需要单独的薄膜沉积，以作为遮光层2的平坦化层，且子衬底层的平坦度好，在保证显示面板整体厚度的同时，简化了生产工艺，降低了成本。另一方面，由于遮光层2的上下表面被子衬底层所覆盖，即遮光层2位于衬底1内部，且衬底1具备一定厚度，在显示面板弯折或者弯曲时，子衬底层能够有效吸收遮光层2因弯折或者弯曲所产生的应力，更有利于释放遮光层2自身的应力，遮光层2有更好的信赖性表现。

在步骤S110中，可以先成型一层子衬底层，之后在子衬底层上形成遮光层2，再在遮光层2上形成另一层子衬底层，上面的子衬底层成型时可以部分填充于遮光层2的第一开口K1，以提高膜层平坦性。

在步骤S120中，待加工的导电层C具体是指一整层还未进行图案化处理的导电层C，即导电层C还未形成第二开口K2。

在步骤S130中，将遮光层2作为掩膜版以使待加工的导电层C形成和第一开口K1对应的第二开口K2，即对待加工的导电层C进行图案化处理。

在一些可选的实施例中，在以遮光层2为遮挡对待加工的导电层C进行刻蚀的步骤中，包括：通过激光刻蚀工艺对以遮光层2为遮挡对待加工的导电层C进行刻蚀。激光刻蚀的基本原理是将高光束质量的小功率激光束(一般为紫外激光、光纤激光)聚焦成极小光斑，在焦点处形成很高的功率密度，使材料在瞬间汽化蒸发，即将待加工的导电层C对应第一开口K1位置处的材料去除，以形成第二开口K2。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：显示面板，显示面板为上述任一实施例中的显示面板；光学元件F，和显示面板的第一显示区AA1对应设置。本发明实施例中的光学元件F可以为摄像头、指纹识别元件、人脸识别元件等。

本发明实施例提供的显示装置具有上述任一实施例中显示面板的技术方案所具有的技术效果，与上述实施例相同或相应的结构以及术语的解释在此不再赘述。

本发明实施例提供的显示装置可以应用于手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等，本发明实施例对此不作特殊限定。

以上，仅为本发明的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。

还需要说明的是，本发明中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本发明不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，具有第一显示区以及至少部分围绕所述第一显示区的第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率，所述显示面板包括：

衬底，所述衬底包括至少两层层叠设置的子衬底层；

遮光层，至少部分位于所述第一显示区，所述遮光层设于任一相邻的两层的所述子衬底层之间，且所述遮光层包括图案化的第一开口；

导电层，设于所述衬底一侧，所述导电层具有和所述第一开口对应的第二开口。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述衬底包括层叠设置的第一子衬底层和第二子衬底层，所述遮光层设于所述第一子衬底层和所述第二子衬底层之间，且所述第一子衬底层和所述第二子衬底层中至少一者的部分填充于所述遮光层的第一开口。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括阵列层，所述阵列层设于所述衬底和所述导电层之间，所述阵列层包括像素电路，所述第一开口在所述衬底上的正投影和所述像素电路在所述衬底上的正投影不重叠。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，还包括设于所述阵列层背离所述衬底一侧的发光层，所述发光层包括沿所述显示面板的厚度方向层叠设置的第一电极层、有机发光层以及第二电极层，所述第二电极层至少部分区域复用为所述导电层。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极层包括第一电极块，所述第一开口在所述第一电极层上的正投影至少部分落在所述第一电极块之间的间隔内。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层的厚度小于或者等于所述子衬底层的厚度；

优选的，所述遮光层的厚度为5μm～15μm；

所述子衬底层的厚度为10μm～20μm。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层为单层金属层；或，

所述遮光层为包括至少两层金属的复合金属层；

优选的，所述遮光层包括银、铜、铝、铟或者钛铝钛中的至少一种。

8.一种显示面板制备方法，其特征在于，所述显示面板具有第一显示区以及至少部分围绕所述第一显示区的第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率，包括：

提供衬底，所述衬底包括至少两层层叠设置的子衬底层，且在任一相邻的两层的所述子衬底层之间形成遮光层，所述遮光层至少部分位于所述第一显示区，且所述遮光层包括图案化的第一开口；

在所述衬底一侧形成待加工的导电层；

以所述遮光层为遮挡对所述待加工的导电层进行刻蚀，以使所述待加工的导电层形成和所述第一开口对应的第二开口。

9.根据权利要求8所述的显示面板制备方法，其特征在于，在所述以所述遮光层为遮挡对所述待加工的导电层进行刻蚀的步骤中，包括：

通过激光刻蚀工艺对以所述遮光层为遮挡对所述待加工的导电层进行刻蚀。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：

显示面板，所述显示面板为权利要求1至7任一项所述的显示面板；

光学元件，和所述显示面板的第一显示区对应设置。

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