CN114859667B - 一种挡板装置和曝光机 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种挡板装置和曝光机,具体涉及曝光机技术领域,包括挡板机构,所述挡板机构包括透光框,透光框的外壁一体成型有呈对称分布的两个卡框,所述透光框、卡框中开设有卡穿槽,所述卡穿槽中滑动卡设有紧密接触的多个挡光框,所述卡框的内上壁固定安装有和挡光框对应的卡座,所述卡座位于对应卡框中,所述卡座的底部固定卡设有内螺管,所述内螺管的中部均螺纹插设有调节螺杆,所述调节螺杆转动卡接在对应卡框中,所述挡光框顶端远离卡框的一侧开设有凹槽,本发明,通过设置挡板机构,灵活改变多个挡光框在透光区域的面积,进而灵活改变光照射区域的面积,从而控制光照射区域的面积,实现部分曝光,并提升了整个挡板装置的挡光灵活性。

Description

一种挡板装置和曝光机
技术领域
本发明涉及曝光机技术领域,具体为一种挡板装置和曝光机。
背景技术
在光刻技术中,曝光机一般包括光源、掩模版以及透镜;掩模版是一种表面被各种图案覆盖的玻璃板,光源通过掩模版可将图案投射到涂有光刻胶的晶片上,生成三维的浮雕图案,用于辅助在晶片上刻蚀电路图案。
在实际使用过程中,有将掩模版上的图案部分投射的需求,即进行部分曝光,因此,可以在掩模版和晶片之间加设挡板,将不需要进行曝光的部分用挡板遮住以阻挡光线透过,而将光线限制在需要曝光的部分,通过挡板来控制光照射区域的面积,从而可以实现部分曝光;
然而现有的挡板装置和曝光机,结构相对简单,无法根据需求灵活调节控制光照射区域的面积,影响了整个曝光机的使用效果,为此,我们提出一种挡板装置和曝光机用于解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种挡板装置和曝光机,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种挡板装置,包括挡板机构,所述挡板机构包括透光框,所述透光框的外壁一体成型有呈对称分布的两个卡框,所述透光框、卡框中开设有卡穿槽,所述卡穿槽中滑动卡设有紧密接触的多个挡光框,所述卡框的内上壁固定安装有和挡光框对应的卡座,所述卡座位于对应卡框中,所述卡座的底部固定卡设有内螺管,所述内螺管的中部均螺纹插设有调节螺杆,所述调节螺杆转动卡接在对应卡框中,所述挡光框顶端远离卡框的一侧开设有凹槽,所述凹槽中固定卡设有吸光框,所述吸光框的外壁和挡光框的内壁接触。
作为本发明的一种优选技术方案,所述调节螺杆靠近卡座的一侧端部穿过挡光框,所述调节螺杆靠近卡座的一侧端部固定安装有转轮。
作为本发明的一种优选技术方案,所述透光框呈口型结构,所述透光框中部为透光区域,所述挡光框远离卡框的一侧延伸进透光区域中。
一种曝光机,包括外防护框,所述挡板装置通过两侧卡框固定卡接在外防护框的中部,所述外防护框的底部设有输料组件,所述输料组件的中部设有起料组件,所述起料组件的顶端设有晶片板,所述外防护框的内上壁中部固定安装有顶架,所述顶架的底端固定安装有曝光机构,所述挡板装置和曝光机构的位置竖直对应。
作为本发明的一种优选技术方案,所述输料组件包括输料侧框,所述输料侧框设有呈对称分布的两个,所述输料侧框的底端固定安装有输料架,所述输料架固定安装在外防护框的内下壁,两个所述输料侧框之间转动卡设有等距离分布的多个输料辊,所述输料辊的端部延伸进对应输料侧框中并固定套设有皮带轮,多个所述皮带轮的外侧活动套设有传动皮带。
作为本发明的一种优选技术方案,所述起料组件包括起料底板,所述起料底板位于多个输料辊下方,所述起料底板的四角处均一体成型有起料架,所述起料架的顶部穿过输料辊,所述起料架的顶端固定安装有防护垫,所述晶片板的底端和防护垫的顶端接触,所述起料架的底端开设有伸缩槽,所述伸缩槽的底部活动卡设有底柱,所述底柱的顶端和伸缩槽的内上壁之间固定安装有弹簧,所述底柱的底端固定安装在外防护框的内下壁。
作为本发明的一种优选技术方案,所述起料组件还包括起料底架,所述起料底架固定安装在外防护框的内下壁,所述起料底架的顶部转动卡设有驱动轴,所述起料底架的一侧固定安装有电机,所述电机的驱动端和驱动轴的端部固定安装,所述驱动轴的外侧固定套设有凸轮,所述起料底板的底端固定安装有和凸轮配合使用的起料底框,所述起料底框的底端开设有和凸轮位置对应的起料槽,且凸轮的顶部活动卡接在起料槽中,所述驱动轴远离电机的一端固定安装有第一轴,所述起料底架靠近第一轴的一侧转动卡设有第二轴,所述第一轴的端部固定安装有第一齿轮,所述第二轴的端部固定安装有和第一齿轮啮合连接的第二齿轮。
作为本发明的一种优选技术方案,中部位置所述输料辊和第二轴之间固定套设有链轮传动组。
作为本发明的一种优选技术方案,所述外防护框外壁靠近挡板装置的一侧固定卡设有观察窗。
作为本发明的一种优选技术方案,相邻所述观察窗的外防护框外壁开设有和输料组件对应的导料槽,所述输料侧框的两端部分别穿过对应导料槽。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:
1.通过设置挡板机构,灵活改变多个挡光框在透光区域的面积,进而灵活改变光照射区域的面积,从而控制光照射区域的面积,实现部分曝光,并提升了整个挡板装置的挡光灵活性;
2.通过设置输料组件,同步带动多个输料辊进行转动,对晶片板进行自动输料,以便后续曝光机对晶片板进行遮挡曝光处理;
3.通过设置起料组件,晶片板进行自动输料同时,能够实现起料架的间接性升降,进而驱动晶片板进行自动稳定升降,从而便于晶片板和曝光机构的近距离的遮挡曝光处理,以及曝光后晶片板的落料运输,从而提升了整个曝光机的使用效果。
附图说明
图1为本发明结构示意图,
图2为本发明的结构连接示意图,
图3为本发明中挡板机构的结构连接示意图,
图4为本发明图3中A处的放大图,
图5为本发明中输料组件和起料组件的结构连接示意图,
图6为本发明中起料组件的结构示意图,
图7为本发明图6中B处的放大图,
图8为本发明图6中C处的放大图。
图中:1、外防护框;2、挡板机构;3、输料组件;4、起料组件;5、顶架;6、曝光机构;7、观察窗;8、晶片板;9、链轮传动组;10、电机;11、导料槽;21、透光框;22、卡框;221、卡穿槽;23、挡光框;231、凹槽;24、卡座;241、内螺管;25、调节螺杆;251、转轮;26、吸光框;31、输料侧框;32、输料架;33、输料辊;34、皮带轮;35、传动皮带;41、起料底板;42、起料底架;43、起料架;431、伸缩槽;432、防护垫;44、底柱;441、弹簧;45、驱动轴;46、凸轮;47、起料底框;471、起料槽;48、第一轴;49、第二轴;410、第一齿轮;411、第二齿轮。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例:如图1-8所示,本发明提供了一种挡板装置,包括挡板机构2,所述挡板机构2包括透光框21,所述透光框21呈口型结构,所述透光框21中部为透光区域,所述透光框21的外壁一体成型有呈对称分布的两个卡框22,所述透光框21、卡框22中开设有卡穿槽221,所述卡穿槽221中滑动卡设有紧密接触的多个挡光框23,所述挡光框23远离卡框22的一侧延伸进透光区域中,通过在卡穿槽221中滑动卡设多个挡光框23,通过多个挡光框23进行挡光处理,从而控制光照射区域的面积,实现部分曝光;
所述卡框22的内上壁固定安装有和挡光框23对应的卡座24,所述卡座24位于对应卡框22中,所述卡座24的底部固定卡设有内螺管241,所述内螺管241的中部均螺纹插设有调节螺杆25,所述调节螺杆25转动卡接在对应卡框22中,所述调节螺杆25靠近卡座24的一侧端部穿过挡光框23,所述调节螺杆25靠近卡座24的一侧端部固定安装有转轮251,通过手动螺拧转轮251,配合对应内螺管241,驱动对应挡光框23在卡穿槽221中滑动,从而灵活改变多个挡光框23在透光区域的面积,进而灵活改变光照射区域的面积,从而提升整个挡板装置的挡光灵活性;
所述挡光框23顶端远离卡框22的一侧开设有凹槽231,所述凹槽231中固定卡设有吸光框26,所述吸光框26的外壁和挡光框23的内壁接触,通过设置吸光框26,可将遮挡的光线进行快速吸收,防止遮挡的光线发生反射影响曝光机的使用,从而提升了整个挡板装置的使用效果。
一种曝光机,包括外防护框1,所述挡板装置通过两侧卡框22固定卡接在外防护框1的中部,所述外防护框1的底部设有输料组件3,所述输料组件3的中部设有起料组件4,所述起料组件4的顶端设有晶片板8,所述外防护框1的内上壁中部固定安装有顶架5,所述顶架5的底端固定安装有曝光机构6,所述挡板装置和曝光机构6的位置竖直对应。
所述输料组件3包括输料侧框31,所述输料侧框31设有呈对称分布的两个,所述输料侧框31的底端固定安装有输料架32,所述输料架32固定安装在外防护框1的内下壁,两个所述输料侧框31之间转动卡设有等距离分布的多个输料辊33,所述输料辊33的端部延伸进对应输料侧框31中并固定套设有皮带轮34,多个所述皮带轮34的外侧活动套设有传动皮带35,通过驱动其中一个输料辊33进行转动,配合使用皮带轮34和传动皮带35,同步带动多个输料辊33进行转动,进而对晶片板8进行自动输料,以便后续曝光机对晶片板8进行遮挡曝光处理。
所述起料组件4包括起料底板41,所述起料底板41位于多个输料辊33下方,所述起料底板41的四角处均一体成型有起料架43,所述起料架43的顶部穿过输料辊33,所述起料架43的顶端固定安装有防护垫432,所述晶片板8的底端和防护垫432的顶端接触,通过设置防护垫432,对晶片板8进行防护,所述起料架43的底端开设有伸缩槽431,所述伸缩槽431的底部活动卡设有底柱44,所述底柱44的顶端和伸缩槽431的内上壁之间固定安装有弹簧441,所述底柱44的底端固定安装在外防护框1的内下壁,通过设置底柱44,提高了起料架43进行升降的稳定性,从而提升了晶片板8自动升降的稳定性。
所述起料组件4还包括起料底架42,所述起料底架42固定安装在外防护框1的内下壁,所述起料底架42的顶部转动卡设有驱动轴45,所述起料底架42的一侧固定安装有电机10,所述电机10的驱动端和驱动轴45的端部固定安装,通过开启电机10,带动驱动轴45进行稳定转动,所述驱动轴45的外侧固定套设有凸轮46,所述起料底板41的底端固定安装有和凸轮46配合使用的起料底框47,所述起料底框47的底端开设有和凸轮46位置对应的起料槽471,且凸轮46的顶部活动卡接在起料槽471中,驱动轴45稳定转动时,带动凸轮46稳定转动,当凸轮46活动卡接在起料槽471中,驱动起料底框47、起料底板41和多个起料架43进行稳定上升,并拉伸弹簧441,当凸轮46脱离起料槽471中,弹簧441复位,带动起料底框47、起料底板41和多个起料架43进行稳定下降复位,从而实现起料架43的间接性升降,进而驱动晶片板8进行自动稳定升降,从而便于晶片板8和曝光机构6的近距离的遮挡曝光处理,以及曝光后晶片板8的落料运输,从而提升了整个曝光机的使用效果;
所述驱动轴45远离电机10的一端固定安装有第一轴48,所述起料底架42靠近第一轴48的一侧转动卡设有第二轴49,所述第一轴48的端部固定安装有第一齿轮410,所述第二轴49的端部固定安装有和第一齿轮410啮合连接的第二齿轮411,驱动轴45转动的同时,带动第一轴48进行转动,从而带动第一齿轮410驱动第二齿轮411和第二轴49进行同步稳定转动;中部位置所述输料辊33和第二轴49之间固定套设有链轮传动组9,其中,链轮传动组9包括两个链轮和啮合在两个链轮外侧的传动链条,两个链轮分别和输料辊33、第二轴49固定连接,在第二轴49进行同步稳定转动时,配合链轮传动组9,同步带动输料辊33进行稳定转动。
所述外防护框1外壁靠近挡板装置的一侧固定卡设有观察窗7,通过设置观察窗7,便于观察晶片板8的曝光处理;相邻所述观察窗7的外防护框1外壁开设有和输料组件3对应的导料槽11,所述输料侧框31的两端部分别穿过对应导料槽11,便于晶片板8的进料和排料。
工作原理:使用时,首先根据遮挡需求,调节光照射区域的面积,手动螺拧转轮251,配合对应内螺管241,驱动对应挡光框23在卡穿槽221中滑动,从而灵活改变多个挡光框23在透光区域的面积,进而灵活改变光照射区域的面积,直至调节合适;
随后,将多个晶片板8通过一侧置于多个输料辊33上,随后,开启电机10,带动驱动轴45进行稳定转动,驱动轴45转动的同时,带动第一轴48进行转动,从而带动第一齿轮410驱动第二齿轮411和第二轴49进行同步稳定转动,配合链轮传动组9,同步带动输料辊33进行稳定转动,配合使用皮带轮34和传动皮带35,同步带动多个输料辊33进行转动,进而对晶片板8进行自动输料,以便后续曝光机对晶片板8进行遮挡曝光处理;
晶片板8自动运输至起料组件4位置时,驱动轴45稳定转动,带动凸轮46稳定转动,当凸轮46活动卡接在起料槽471中,驱动起料底框47、起料底板41和多个起料架43进行稳定上升,并拉伸弹簧441,进而驱动晶片板8进行自动稳定上升,配合多个挡光框23的挡光处理和曝光机构6进行近距离的遮挡曝光处理;
随后,凸轮46继续稳定转动,凸轮46脱离起料槽471中,弹簧441复位,带动起料底框47、起料底板41和多个起料架43进行稳定下降复位,从而带动晶片板8自动稳定下降,使晶片板8下降至多个输料辊33进行继续运输排料;
下一个紧接着运输至起料组件4位置,进行后续的近距离遮挡曝光处理,有效提升了晶片板8的曝光处理效率。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (2)

1.一种挡板装置,包括挡板机构(2),其特征在于:所述挡板机构(2)包括透光框(21),所述透光框(21)的外壁一体成型有呈对称分布的两个卡框(22),所述透光框(21)、卡框(22)中开设有卡穿槽(221),所述卡穿槽(221)中滑动卡设有紧密接触的多个挡光框(23),所述卡框(22)的内上壁固定安装有和挡光框(23)对应的卡座(24),所述卡座(24)位于对应卡框(22)中,所述卡座(24)的底部固定卡设有内螺管(241),所述内螺管(241)的中部均螺纹插设有调节螺杆(25),所述调节螺杆(25)转动卡接在对应卡框(22)中,所述挡光框(23)顶端远离卡框(22)的一侧开设有凹槽(231),所述凹槽(231)中固定卡设有吸光框(26),所述吸光框(26)的外壁和挡光框(23)的内壁接触;
所述调节螺杆(25)靠近卡座(24)的一侧端部穿过挡光框(23),所述调节螺杆(25)靠近卡座(24)的一侧端部固定安装有转轮(251);
所述透光框(21)呈口型结构,所述透光框(21)中部为透光区域,所述挡光框(23)远离卡框(22)的一侧延伸进透光区域中。
2.一种曝光机,具有如权利要求1中的所述挡板装置,其特征在于:包括外防护框(1),所述挡板装置通过两侧卡框(22)固定卡接在外防护框(1)的中部,所述外防护框(1)的底部设有输料组件(3),所述输料组件(3)的中部设有起料组件(4),所述起料组件(4)的顶端设有晶片板(8),所述外防护框(1)的内上壁中部固定安装有顶架(5),所述顶架(5)的底端固定安装有曝光机构(6),所述挡板装置和曝光机构(6)的位置竖直对应;
所述输料组件(3)包括输料侧框(31),所述输料侧框(31)设有呈对称分布的两个,所述输料侧框(31)的底端固定安装有输料架(32),所述输料架(32)固定安装在外防护框(1)的内下壁,两个所述输料侧框(31)之间转动卡设有等距离分布的多个输料辊(33),所述输料辊(33)的端部延伸进对应输料侧框(31)中并固定套设有皮带轮(34),多个所述皮带轮(34)的外侧活动套设有传动皮带(35);
所述起料组件(4)包括起料底板(41),所述起料底板(41)位于多个输料辊(33)下方,所述起料底板(41)的四角处均一体成型有起料架(43),所述起料架(43)的顶部穿过输料辊(33),所述起料架(43)的顶端固定安装有防护垫(432),所述晶片板(8)的底端和防护垫(432)的顶端接触,所述起料架(43)的底端开设有伸缩槽(431),所述伸缩槽(431)的底部活动卡设有底柱(44),所述底柱(44)的顶端和伸缩槽(431)的内上壁之间固定安装有弹簧(441),所述底柱(44)的底端固定安装在外防护框(1)的内下壁;
所述起料组件(4)还包括起料底架(42),所述起料底架(42)固定安装在外防护框(1)的内下壁,所述起料底架(42)的顶部转动卡设有驱动轴(45),所述起料底架(42)的一侧固定安装有电机(10),所述电机(10)的驱动端和驱动轴(45)的端部固定安装,所述驱动轴(45)的外侧固定套设有凸轮(46),所述起料底板(41)的底端固定安装有和凸轮(46)配合使用的起料底框(47),所述起料底框(47)的底端开设有和凸轮(46)位置对应的起料槽(471),且凸轮(46)的顶部活动卡接在起料槽(471)中,所述驱动轴(45)远离电机(10)的一端固定安装有第一轴(48),所述起料底架(42)靠近第一轴(48)的一侧转动卡设有第二轴(49),所述第一轴(48)的端部固定安装有第一齿轮(410),所述第二轴(49)的端部固定安装有和第一齿轮(410)啮合连接的第二齿轮(411);
中部位置所述输料辊(33)和第二轴(49)之间固定套设有链轮传动组(9);
所述外防护框(1)外壁靠近挡板装置的一侧固定卡设有观察窗(7);
相邻所述观察窗(7)的外防护框(1)外壁开设有和输料组件(3)对应的导料槽(11),所述输料侧框(31)的两端部分别穿过对应导料槽(11)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003347193A (ja) * 2002-05-24 2003-12-05 Canon Inc 光学絞り装置、露光装置、デバイス製造方法、並びに、デバイス
CN104111586A (zh) * 2013-06-27 2014-10-22 东莞市瑾耀精密设备有限公司 基于ccd对位系统的曝光机
CN105652605B (zh) * 2016-03-25 2018-01-26 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 适于接触式光刻机的分区域曝光装置
CN208805680U (zh) * 2018-11-08 2019-04-30 江西丝安本精密制版有限公司 一种方便拆卸维修的手机网板生产用曝光机
CN210626878U (zh) * 2019-09-29 2020-05-26 深圳市兆方智能科技有限公司 曝光机自动上下料机的归零装置及其曝光机上下料机
CN112198767B (zh) * 2020-10-20 2022-11-08 Tcl华星光电技术有限公司 曝光机

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