CN114815519B - 掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置 - Google Patents

掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置 Download PDF

Info

Publication number
CN114815519B
CN114815519B CN202210446397.1A CN202210446397A CN114815519B CN 114815519 B CN114815519 B CN 114815519B CN 202210446397 A CN202210446397 A CN 202210446397A CN 114815519 B CN114815519 B CN 114815519B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask
reticle
film
protection film
pellicle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210446397.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114815519A (zh
Inventor
侯广杰
黄执祥
谢超
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Longtu Optical Mask Co ltd
Original Assignee
Shenzhen Longtu Optical Mask Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Longtu Optical Mask Co ltd filed Critical Shenzhen Longtu Optical Mask Co ltd
Priority to CN202210446397.1A priority Critical patent/CN114815519B/zh
Publication of CN114815519A publication Critical patent/CN114815519A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114815519B publication Critical patent/CN114815519B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70983—Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
    • B65B69/00—Unpacking of articles or materials, not otherwise provided for
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/48—Protective coatings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

本发明属于掩模保护领域，尤其涉及一种掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置，其中，掩模护膜包括支撑框以及保护膜，所述支撑框呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面以及装膜面，所述抵靠面以及装膜面均呈环形，所述抵靠面分为均呈环形的粘接平面以及导流斜面，所述粘接平面开设有多个吸胶孔，所述支撑框开设有与各所述吸胶孔连通的排气通道，所述排气通道于外环面开设有一个排气孔。将掩模护膜从掩模版移除之后，掩模版上不会残留有粘胶。

Description

掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置
技术领域
本发明属于掩膜保护领域，尤其涉及一种掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置。
背景技术
掩模版在未使用的时候，需要用掩模护膜遮盖其掩膜图形面，避免灰尘(dust)或者微尘粒子(Particle)落到掩膜图形面，其中，掩模护膜包括支撑框以及保护膜，支撑框呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面以及装膜面，抵靠面以及装膜面均呈环形，保护膜连接于装膜面，并封堵装膜面围合形成的环口，抵靠面通过双面胶与掩模版粘接。基于此，在移除掩模护膜时，通常是采用直接起撬支撑框，但采用此方法，双面胶上的粘胶容易残留于掩模版。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置，其旨在解决移除掩模护膜时双面胶上的粘胶容易残留于掩模版的问题。
本发明是这样实现的：
一种掩模护膜，包括支撑框以及保护膜，所述支撑框呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面以及装膜面，所述抵靠面以及装膜面均呈环形，所述抵靠面分为均呈环形的粘接平面以及导流斜面，所述粘接平面包括开设有多个吸胶孔，所述支撑框开设有与各所述吸胶孔连通的排气通道，所述排气通道于外环面开设有一个排气孔，所述排气孔用于与外部负压发生机构连通，各所述吸胶孔均与所述排气孔中连通，其中，各所述吸胶孔间隔设置，且均布于所述粘接平面，各所述吸胶孔的孔口直径0.8mm-1.2mm，任意两所述吸胶孔之间的最小间距为1.5-2mm，所述导流斜面位于所述粘接平面外环侧，所述导流斜面朝所述装膜面倾斜设置，所述保护膜连接于所述装膜面，并封堵所述装膜面围合形成的环口。
可选地，所述吸胶孔的孔径沿所述粘接平面指向所述安装面的方向减缩设置。
本发明还提供一种掩模护膜移除方法，用于将掩模护膜从掩模版上移除，其中，所述掩模护膜为上述的掩模护膜，所述粘接平面与所述掩模版之间通过双面胶粘接，所述双面胶从所述粘接平面延伸至所述导流斜面，该移除方法包括以下步骤：
溶胶：向所述导流斜面和所述掩模版之间的间隙注入溶胶剂，并使所述溶胶剂逐渐渗入到所述双面胶和所述掩模版之间；
吸胶：通过负压发生机构于所述排气孔处产生负压，使所述双面胶中与各所述吸胶孔对应的部分凸入对应的所述吸胶孔；
固胶：向所述导流斜面和所述掩模版之间的间隙喷射液氮，并使双面胶固化；
移除：将所述掩模护膜从所述掩模版移除。
可选地，在溶胶步骤中，使所述掩模版和所述掩模护膜倾斜，并使所述掩模版和所述掩模护膜绕所述掩模版的中心轴线转动，且从上往下向所述导流斜面和所述掩模版之间的间隙注入溶胶剂。
可选地，在固胶步骤中，使所述掩模版和所述掩模护膜倾斜，并使所述掩模版和所述掩模护膜绕所述掩模版的中心轴线转动，且从上往下向所述导流斜面和所述掩模版之间的间隙喷射液氮。
可选地，在溶胶步骤中，对所述掩模护膜施加远离所述掩模版的预离力。
本发明还提供一种掩模护膜移除装置，用于将掩模护膜从掩模版上移除，其中，所述掩模护膜为上述的掩模护膜，所述粘接平面与所述掩模版之间通过双面胶粘接，所述双面胶从所述粘接平面延伸至所述导流斜面，所述掩模护膜移除装置包括承载平台、负压发生机构以及移除机构，所述承载平台用于承载掩模版，所述负压发生机构与排气孔连通，所述移除机构能够抓持所述掩模护膜并使所述掩模护膜远离所述掩模版。
可选地，所述承载平台能够使所述掩模版倾斜，以及使所述掩模版绕所述掩模版的中心轴线转动。
可选地，所述移除机构包括抓持结构以及驱动结构，所述抓持结构用于抓持所述掩模护膜，所述驱动结构包括连接杆、固定部、活动部和驱动气囊，所述连接杆一端连接所述活动部，另一端连接所述抓持结构，所述固定部位于所述活动部和所述驱动结构之间，所述驱动气囊位于所述固定部和所述活动部之间，且一并抵接所述固定部和所述活动部，所述驱动气囊通过膨胀和收缩来带动所述活动部相对移动。
可选地，所述掩模护膜移除装置还包括设于所述承载平台的定位组件，所述定位组件用于固定所述掩模版。
基于本发明，将掩模护膜从掩模版移除之后，掩模版上不会残留有粘胶。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的掩模护膜的剖视图；
图2是本发明实施例提供的掩模护膜在使用状态下的剖视图；
图3是本发明实施例提供的掩模护膜移除装置的结构示意图。
附图标号说明：
标号 名称 标号 名称
100 掩模护膜
110 支撑框 120 保护膜
1101 抵靠面
11011 粘接平面 11012 导流斜面
1102 吸胶孔 1103 排气孔
200 掩模版
300 双面胶
400 承载平台
500 移除机构
510 抓持结构
520 驱动结构
521 连接杆 522 固定部
523 活动部 524 驱动气囊
600 定位组件
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明实施例提供一种掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置。
请参阅图1，掩模护膜100包括支撑框110以及保护膜120。支撑框110呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面1101以及装膜面(图中未标注)，抵靠面1101以及装膜面均呈环形，抵靠面1101分为均呈环形的粘接平面11011以及导流斜面11012，在本实施例中，支撑框110呈矩形。粘接平面11011开设有多个吸胶孔1102，支撑框110开设有与各吸胶孔1102连通的排气通道，排气通道于外环面开设有一个排气孔1103，其中，各吸胶孔1102间隔设置，且均布于粘接平面11011，各吸胶孔1102的孔口直径0.8mm-1.2mm，任意两吸胶孔1102之间的最小间距为1.5-2mm，导流斜面11012位于粘接平面11011外环侧，导流斜面11012朝装膜面倾斜设置，保护膜120连接于装膜面，并封堵装膜面围合形成的环口。
请参阅图2，在掩模护膜100用于保护掩膜图形面时，掩模护膜100安置于掩模版200，其中，粘接平面11011与掩模版200之间通过双面胶300粘接，双面胶300还粘贴至导流斜面11012。
在需要将掩模护膜100从掩模版200移除时，可以采用一种掩模护膜移除方法，该移除方法包括以下步骤：
溶胶：向导流斜面11012和掩模版200之间的间隙注入溶胶剂，并使溶胶剂逐渐渗入到双面胶300和掩模版200之间。
在此需要说明的是，双面胶300由基膜以及设于基膜两侧的粘胶制成，粘胶通常为EVA胶，主要成分为热塑性丁苯橡胶、松香改性树脂、石油树脂，溶胶剂能够与粘胶进行化学反应，并使粘胶失去粘性，与此同时，还会使粘胶处于粘稠状。
在此步骤中，基于导流斜面11012的结构设计，再利用双面胶300从粘接平面11011延伸至导流斜面11012，溶胶剂仅会对双面胶300中朝向掩模版200一侧的粘胶进行化学，使双面胶300中朝向掩模版200一侧的粘胶失去粘性，而双面胶300中背向掩模版200一侧的粘胶并不会失去粘性。
在此还需要说明的是，此步骤中，溶胶剂会增加双面胶300的柔韧性。
吸胶：通过负压发生机构于排气孔1103处产生负压，使所述双面胶300中与各所述吸胶孔1102对应的部分凸入对应的所述吸胶孔1102。
在此需要说明的是，双面胶300中与各所述吸胶孔1102对应的部分是在负压发生机构抽气产生的负压作用力下凸入对应的所述吸胶孔1102，此时，双面胶300中与各所述吸胶孔1102对应的部分会与掩模版200形成一个空腔，如此，可以减少双面胶300与掩模版200之间的接触。
在此需要说明的是，该负压产生的作用力不会使双面胶300损坏；另，该负压发生机构可以是抽气机构。
固胶：向导流斜面11012和掩模版200之间的间隙喷射液氮，并使双面胶300固化。
此步骤中，利用液氮的吸热，快速降低了双面胶300温度，并使双面胶300固化。
在其他实施例中，在固胶步骤中，使所述掩模版200和所述掩模护膜100倾斜，并使所述掩模版200和所述掩模护膜100绕所述掩模版200的中心轴线转动，且从上往下向所述导流斜面11012和所述掩模版200之间的间隙喷射液氮，如此，便于液氮在重力作用下聚集于所述导流斜面11012和所述掩模版200之间的间隙，减少外溢。
移除：将掩模护膜100从掩模版200移除。
此步骤之前，首先，由于溶胶剂使双面胶300中朝向掩模版200一侧的粘胶失去粘性，粘胶不会粘附于掩模版200，其次，由于液氮使双面胶300固化，避免粘胶在重力作用下从双面胶300的基膜上脱离，因此，将掩模护膜100从掩模版200移除之后，掩模版200上不会残留有粘胶。
此外，在此步骤中，由于还进行了吸胶步骤，减少双面胶300与掩模版200之间的接触，在进行此步骤中，利用负压发生机构来减少双面胶300与掩模版200的接触面积，进一步防止粘胶残留于掩模版200上。
在此还需要说明的是，各吸胶孔1102的孔径大小以及间隙设置，有利于在吸胶步骤中，能够较好地吸持双面胶300，避免双面胶300被撕破。
在本实施例中，吸胶孔1102的孔深大于3mm。
在本实施例中，吸胶孔1102的孔径沿粘接平面11011指向安装面的方向减缩设置，如此，有利于避免吸胶孔1102的孔沿过于尖锐而在吸胶过程弄破双面胶。
优选地，免吸胶孔1102的孔沿倒圆角。
在其他实施例中，在溶胶步骤中，还可使掩模版200和掩模护膜100倾斜，并使掩模版200和掩模护膜100绕掩模版200的中心轴线转动，且从上往下向导流斜面11012和掩模版200之间的间隙注入溶胶剂，如此，便于溶胶剂在重力作用下流入到双面胶300和掩模版200之间。
进一步地，还在溶胶步骤中，对掩模护膜100施加远离掩模版200的预离力，通过该预离力，最先接触到溶胶剂的双面胶300中朝向掩模版200一侧的粘胶失去粘性，并形成多个细微并可供溶胶剂流入的流通通道，如此，尚未接触到溶胶剂的粘胶能够接触溶胶剂，从而使得溶胶剂能够充分溶解粘胶。
在此需要说明的是，在溶胶剂完全溶解双面胶300中朝向掩模版200一侧的粘胶时，该预离力能够使掩模护膜100相对掩模版200移动0.1mm，该预离力的方向背向掩模版200。
请参阅图3，为实现上述移除操作，本发明还提供一种掩模护膜移除装置，用于将掩模护膜100从掩模版200上移除，其中，掩模护膜100为上述的掩模护膜100，粘接平面11011与掩模版200之间通过双面胶300粘接，双面胶300从粘接平面11011延伸至导流斜面11012，掩模护膜移除装置包括承载平台400、负压发生机构以及移除机构500，承载平台400用于承载掩模版200，负压发生机构与排气孔1103连通，移除机构500能够抓持掩模护膜100并使掩模护膜100远离掩模版200。
在本发明实施例中，承载平台400能够使掩模版200倾斜，以及使掩模版200绕掩模版200的中心轴线转动。
在本发明实施例中，移除机构500包括抓持结构510以及驱动结构520，抓持结构510用于抓持掩模护膜100，驱动结构520包括连接杆521、固定部522、活动部523和驱动气囊524，连接杆521一端连接活动部523，另一端连接抓持结构510，固定部522位于活动部523和驱动结构520之间，驱动气囊524位于固定部522和活动部523之间，且一并抵接固定部522和活动部523，驱动气囊524通过膨胀和收缩来带动活动部523相对移动。
其中，由于驱动气囊524具有较大弹性，在其内部气体一定的情况下，受挤压的程度越大，其反作用力越大，而受挤压的程度越下，其反作用力越小，因此，在给驱动气囊524冲入一定气体之后，驱动气囊524的驱动力通过连接杆521作用于掩模护膜100，随着掩模护膜100逐渐远离掩模版200，驱动气囊524对掩模护膜100的驱动力会下降，避免了突然出现过大的驱动力而导致粘胶断裂残留在掩模版200。
在本实施例中，驱动气囊524呈环形，并套接于连接杆521，有利使驱动力的合力靠近或位于连接杆521的中心轴线。
在本实施例中，掩模护膜移除装置还包括设于承载平台400的定位组件600，定位组件600用于固定掩模版200，以防止移除掩模护膜100时，掩模版200发生位移。
具体地，定位组件600可以通过多个机械爪来固定掩模版200。
以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种掩模护膜，其特征在于，包括支撑框以及保护膜，所述支撑框呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面以及装膜面，所述抵靠面以及装膜面均呈环形，所述抵靠面分为均呈环形的粘接平面以及导流斜面，所述粘接平面开设有多个吸胶孔，所述支撑框开设有与各所述吸胶孔连通的排气通道，所述排气通道于外环面开设有一个排气孔，其中，各所述吸胶孔间隔设置，且均布于所述粘接平面，各所述吸胶孔的孔口直径0.8mm-1.2mm，任意两所述吸胶孔之间的最小间距为1.5-2mm，所述导流斜面位于所述粘接平面外环侧，所述导流斜面朝所述装膜面倾斜设置，所述保护膜连接于所述装膜面，并封堵所述装膜面围合形成的环口。
2.一种掩模护膜移除方法，用于将掩模护膜从掩模版上移除，其中，所述掩模护膜为权利要求1所述的掩模护膜，所述粘接平面与所述掩模版之间通过双面胶粘接，所述双面胶从所述粘接平面延伸至所述导流斜面，其特征在于，该移除方法包括以下步骤：
溶胶：向所述导流斜面和所述掩模版之间的间隙注入溶胶剂，并使所述溶胶剂逐渐渗入到所述双面胶和所述掩模版之间；
吸胶：通过负压发生机构于所述排气孔处产生负压，使所述双面胶中与各所述吸胶孔对应的部分凸入对应的所述吸胶孔；
固胶：向所述导流斜面和所述掩模版之间的间隙喷射液氮，并使双面胶固化；
移除：将所述掩模护膜从所述掩模版移除。
3.如权利要求2所述掩模护膜移除方法，其特征在于，在溶胶步骤中，使所述掩模版和所述掩模护膜倾斜，并使所述掩模版和所述掩模护膜绕所述掩模版的中心轴线转动，且从上往下向所述导流斜面和所述掩模版之间的间隙注入溶胶剂。
4.如权利要求2所述掩模护膜移除方法，其特征在于，在固胶步骤中，使所述掩模版和所述掩模护膜倾斜，并使所述掩模版和所述掩模护膜绕所述掩模版的中心轴线转动，且从上往下向所述导流斜面和所述掩模版之间的间隙喷射液氮。
5.如权利要求2所述的掩模护膜移除方法，其特征在于，在溶胶步骤中，对所述掩模护膜施加远离所述掩模版的预离力。
6.一种掩模护膜移除装置，用于将掩模护膜从掩模版上移除，其中，所述掩模护膜为权利要求1所述的掩模护膜，所述粘接平面与所述掩模版之间通过双面胶粘接，所述双面胶从所述粘接平面延伸至所述导流斜面，其特征在于，所述掩模护膜移除装置包括承载平台、负压发生机构以及移除机构，所述承载平台用于承载掩模版，所述负压发生机构与排气孔连通，所述移除机构能够抓持所述掩模护膜并使所述掩模护膜远离所述掩模版，所述移除机构包括抓持结构以及驱动结构，所述抓持结构用于抓持所述掩模护膜，所述驱动结构包括连接杆、固定部、活动部和驱动气囊，所述连接杆一端连接所述活动部，另一端连接所述抓持结构，所述固定部位于所述活动部和所述驱动结构之间，所述驱动气囊位于所述固定部和所述活动部之间，且一并抵接所述固定部和所述活动部，所述驱动气囊通过膨胀和收缩来带动所述活动部相对移动。
7.如权利要求6所述的掩模护膜移除装置，其特征在于，所述承载平台能够使所述掩模版倾斜，以及使所述掩模版绕所述掩模版的中心轴线转动。
8.如权利要求6所述的掩模护膜移除装置，其特征在于，所述掩模护膜移除装置还包括设于所述承载平台的定位组件，所述定位组件用于固定所述掩模版。
CN202210446397.1A 2022-04-26 2022-04-26 掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置 Active CN114815519B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210446397.1A CN114815519B (zh) 2022-04-26 2022-04-26 掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210446397.1A CN114815519B (zh) 2022-04-26 2022-04-26 掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114815519A CN114815519A (zh) 2022-07-29
CN114815519B true CN114815519B (zh) 2023-07-21

Family

ID=82508465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210446397.1A Active CN114815519B (zh) 2022-04-26 2022-04-26 掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114815519B (zh)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05297572A (ja) * 1992-04-22 1993-11-12 Mitsubishi Electric Corp ペリクル膜付きレチクル及びその異物除去方法
JP4380910B2 (ja) * 2000-12-14 2009-12-09 信越化学工業株式会社 ペリクル
US7829248B2 (en) * 2007-07-24 2010-11-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Pellicle stress relief
CN102253610A (zh) * 2010-05-20 2011-11-23 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光掩模保护膜的安装方法和光掩模保护膜框架
US11143952B2 (en) * 2017-09-28 2021-10-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Pellicle removal method
CN111258170A (zh) * 2018-11-30 2020-06-09 芯恩（青岛）集成电路有限公司 掩膜版组件及掩膜版保护组件去除方法
US11822230B2 (en) * 2020-07-24 2023-11-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. EUV pellicle and mounting method thereof on photo mask

Also Published As

Publication number Publication date
CN114815519A (zh) 2022-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1511578B1 (en) Method of conforming an adherent film to a substrate by application of vacuum
KR101043486B1 (ko) 기판의 첩부방법
JP4428908B2 (ja) 粘着シートを用いた被着体加工方法
KR101055876B1 (ko) 점착테이프 부착방법 및 그 장치
EP1762373A3 (en) Method for protecting tire innerliner using thermoformable film coated with pressure-sensitive adhesive
CN114815519B (zh) 掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置
JP2004193237A (ja) 粘着シートを具備するウェハー保持部材，及び粘着シートの剥離方法
JP5881590B2 (ja) マスククリーナー及びクリーニング方法
KR101625730B1 (ko) 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법
JP2534196B2 (ja) ウエ−ハ貼付方法
TW201931005A (zh) 防護薄膜框架及防護薄膜組件
JP4361309B2 (ja) 半導体チップの製造方法
JP5757649B2 (ja) 保持治具
JP2000349107A (ja) 半導体封止チップモジュールの製造方法及びその固定シート
CN104112650A (zh) 板状物粘贴方法
US4415619A (en) Workpiece palette
JP2004061940A (ja) 偏光板貼付装置の偏光板貼り付け方法
JP2018085481A (ja) ゴム弾性部材の再生方法
JP4484982B2 (ja) 粘着材の貼付方法
CN210765106U (zh) 一种用于防爆避雷器的聚酰亚胺胶带
TWI803340B (zh) 撕膠設備及其操作方法
US20110281439A1 (en) Applying wafer backside coatings to semiconductor wafers
JP4085815B2 (ja) 接着剤硬化防止方法および装置
CN212731411U (zh) 一种布袋除尘布口保护圈
CN218502560U (zh) 一种防脱胶喷胶治具

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information

Address after: 518000 Workshop 101, No. 4, St. George's Science and Technology Industrial Park, North Side of Xinyu Road, Xiangshan Community, Xinqiao Street, Bao'an District, Shenzhen City, Guangdong Province

Applicant after: Shenzhen Longtu Optical Mask Co.,Ltd.

Address before: 518000 The first floor of plant 4 #, Shengzuozhi Science and Technology Industrial Park, north of Xinyu Road, Shajing Street, Bao'an District, Shenzhen, Guangdong

Applicant before: SHENZHEN LONGTU PHOTOMASK CO.,LTD.

CB02 Change of applicant information
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant