CN114815464A - 投影设备的校准方法和投影设备 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供一种投影设备的校准方法和投影设备,涉及投影定位技术领域,能够实现投影设备的偏移定位,从而为投影设备的位置校准提供参考。该投影设备包括:校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器;校准光源被配置为:发射光束并将该光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上;柱状透镜被配置为:将经过反光镜反射的光线进行聚焦处理;线阵模块被配置为:采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值;处理器被配置为:根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值,并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。
Description
技术领域
本发明涉及投影定位技术领域,尤其涉及一种投影设备的校准方法和投影设备。
背景技术
通常,投影设备和投影屏幕需要配合使用。以超短焦激光投影设备为例,如图1所示,由于投影成像的原理使得光线斜向上投射,因此投影设备10中的光学引擎投射的影像光束与投影屏幕21之间的位置需具有良好的对位关系。在使用过程中,投影设备轻微的移位也会导致画面的形变或畸变。
然而,由于超短焦激光投影设备对精度的要求很高,因此对于普通用户而言,无法通过调整长焦激光投影设备的方式来调整超短焦激光投影设备的位置,对超短焦激光投影设备的调节存在难度;而对于专业技术人员而言,往往也需要多次调试才能获得较佳的结果,调节效率较低,且调节结果会存在一些主观性。
发明内容
本发明的实施例提供一种投影设备的校准方法和投影设备,用于实现投影设备偏移定位,从而为投影设备的位置校准提供参考。
为达到上述目的,本申请实施例采用如下技术方案:
第一方面,提供一种投影设备,包括:校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器;校准光源被配置为:发射光束并将该光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上;柱状透镜被配置为:将经过反光镜反射的光线进行聚焦处理;该线阵模块被配置为:采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值;该处理器被配置为:根据该光电辐值确定特征像素点的光电辐值,并根据该特征像素点的光电辐值确定该投影设备的偏移参数;其中,该特征像素点包括根据该投影屏幕上配置的校准点在该第一成像区域中形成的光电辐值突变点确定的像素点。
本申请实施例提供的投影设备,包括:校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器;校准光源被配置为:发射光束并将该光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上;柱状透镜被配置为:将经过反光镜反射的光线进行聚焦处理;线阵模块被配置为:采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值;处理器被配置为:根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值,并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。通过该方案,线阵模块可以采集第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值,处理器可以根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值,并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。由于投影设备需要与投影屏幕配合使用才能使线阵模块采集到第一成像区域的光电辐值,也就是说,即使投影设备的使用位置发生改变,也无法改变投影设备与投影屏幕之间的作用关系,因此,投影设备可以实现投影设备在任意使用地点的偏移定位,并为投影设备的位置校准提供参考。
第二方面,提供一种投影设备的校准方法,包括:获取经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值;根据该光电辐值确定特征像素点的光电辐值;根据该特征像素点的光电辐值确定该投影设备的偏移参数;根据偏移参数对投影设备的位置进行校准;其中,该特征像素点包括根据预配置的校准点在该第一成像区域中形成的光电辐值突变点确定的像素点。
第三方面,提供一种投影设备,包括:存储器、处理器、总线和通信接口;存储器用于存储计算机执行指令,处理器与存储器通过总线连接;当投影设备运行时,处理器执行存储器存储的计算机执行指令,以使投影设备执行如第二方面提供的投影设备的校准方法。
第四方面,提供一种计算机可读存储介质,计算机可读存储介质包括计算机执行指令,当计算机执行指令在计算机上运行时,使得计算机执行如第二方面提供的投影设备的校准方法。
第五方面,提供一种计算机程序产品,该计算机程序产品包括计算机指令,当计算机指令在计算机上运行时,使得计算机执行如第二方面提供的投影设备的校准方法。
需要说明的是,上述计算机指令可以全部或者部分存储在计算机可读存储介质上。其中,计算机可读存储介质可以与投影设备的处理器封装在一起的,也可以与投影设备的处理器单独封装,本申请对此不作限定。
本申请中第二方面、第三方面、第四方面以及第五方面的描述,可以参考第一方面的详细描述,此处不再赘述;并且,第二方面、第三方面、第四方面以及第五方面描述的有益效果,可以参考第一方面的有益效果分析,此处不再赘述。
在本申请中,上述偏移参数确定装置的名字对设备或功能模块本身不构成限定,在实际实现中,这些设备或功能模块可以以其他名称出现。只要各个设备或功能模块的功能和本申请类似,均属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的超短焦激光投影设备的投影示意图;
图2为本申请实施例提供的投影设备处于校准状态的示意图之一;
图3为本申请实施例提供的投影设备的结构示意图;
图4为本申请实施例提供的投影设备处于校准状态检测到的采样序列图之一;
图5为本申请实施例提供的投影设备处于校准状态的示意图之二;
图6为本申请实施例提供的投影设备处于校准状态检测到的采样序列图之二;
图7为本申请实施例提供的投影设备发生左右平移的示意图;
图8为本申请实施例提供的投影设备发生左右平移后检测到的采样序列图;
图9为本申请实施例提供的投影设备发生平面偏转的示意图;
图10为本申请实施例提供的投影设备发生平面偏转后检测到的采样序列图;
图11为本申请实施例提供的投影设备发生前后平移的示意图;
图12为本申请实施例提供的投影设备发生前后平移后检测到的采样序列图;
图13为本申请实施例提供的一种投影设备的校准方法的流程示意图;
图14为本申请实施例提供的一种投影设备的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明的是,本申请实施例中,“示例性的”或者“例如”等词用于表示作例子、例证或说明。本申请实施例中被描述为“示例性的”或者“例如”的任何实施例或设计方案不应被解释为比其它实施例或设计方案更优选或更具优势。确切而言,使用“示例性的”或者“例如”等词旨在以具体方式呈现相关概念。
为了便于清楚描述本申请实施例的技术方案,在本发明的实施例中,采用了“第一”、“第二”等字样对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分,本领域技术人员可以理解“第一”、“第二”等字样并不是在对数量和执行次序进行限定。
如背景技术所描述,由于超短焦激光投影设备对精度的要求很高,因此对于普通用户而言,无法通过调整长焦激光投影设备的方式来调整超短焦激光投影设备的位置,对超短焦激光投影设备的调节存在难度;而对于专业技术人员而言,往往也需要多次调试才能获得较佳的结果,调节效率较低,且调节结果会存在一些主观性。
基于上述问题,本申请实施例提供一种投影设备,包括:校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器;校准光源被配置为:发射光束并将光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上;柱状透镜被配置为:将经过反光镜反射的光线进行聚焦处理;线阵模块被配置为:采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值;处理器被配置为:根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值,并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。通过该方案,线阵模块可以采集第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值,处理器可以根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值,并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。由于投影设备需要与投影屏幕配合使用才能使线阵模块采集到第一成像区域的光电辐值,也就是说,即使投影设备的使用位置发生改变,也无法改变投影设备与投影屏幕之间的作用关系,因此,投影设备可以实现投影设备在任意使用地点的偏移定位,并为投影设备的位置校准提供参考。
如图2所示,本申请实施例提供一种投影设备10,包括:校准光源11、柱状透镜12和线阵模块13。其中,校准光源11被配置为:发射光束并将光束投影到投影屏幕21下边缘处的反光镜23上。通过该反光镜23可以形成光源虚像22。柱状透镜12被配置为:将经过反光镜23反射的光线进行聚焦处理,该柱状透镜12通常为一个透镜组合。线阵模块13被配置为:采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域14内每个像素点对应的光电辐值。
可选的,上述校准光源11可以为条形光源也可以为点光源,本申请实施例对此不做限定。
可选的,在上述反光镜23的预设位置还包括校准点24。该校准点24可以用于提供光电辐值中的参考点。
需要说明的是,线阵模块13,即线阵(Charge Coupled Device,CCD)具有精度高,像素数量可选范围大,灵敏度高,电路及数据处理简单高效等优点,配合柱状透镜12单方向成像的特点,可以实现大范围像素点的光电辐值检测。
如图3所示,上述投影设备10还包括模数转换器15和处理器16。其中,模数转换器15被配置为:将线阵模块13采集的每个像素点对应的光电辐值转换为可被处理器16识别的数字信号。处理器16被配置为:根据该数字信号确定特征像素点的光电辐值,并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。该特征像素点包括根据投影屏幕21上配置的校准点24在第一成像区域14中形成的光电辐值突变点确定的像素点。
可选的,继续参考图3,上述投影设备10还可以包括存储器17。线阵模块13还可以被配置为:在投影设备10的位置处于校准状态的情况下,采集经过聚焦处理的光线形成的第二成像区域内每个像素点对应的光电辐值;处理器16还可以被配置为:根据光电辐值确定第二成像区域内的特征像素点的光电辐值。存储器17,可以被配置为存储第二成像区域内的特征像素点的光电辐值。
可选的,处理器16根据光电辐值确定第二成像区域内的特征像素点的光电辐值,具体可以包括:处理器16可以获取光电辐值的采样值序列,并对光电辐值的采样值序列进行处理分析。首先对n个序列进行中位数提取(n值可以根据实际项目取值),然后过滤突变数值。例如从第一个到第n个数据取第一个中位数,从第2个到第n+1个数据取第二个中位数,以此类推,最终得到一个中位数序列,然后提取该中位数序列中的累积变化量,当累积变化量达到预设阈值时,记录对应的像素序列点,从而得到曲线上升及下降边沿对应的特征像素点,以及特征像素点对应的光电辐值。
可选的,上述处理器16具体可以被配置为:获取存储器16中存储的第二成像区域内的特征像素点的光电辐值,并根据该第二成像区域内特征像素点的光电辐值与第一成像区域内特征像素点的光电辐值之间的变化量确定投影设备10的偏移参数。
可选的,处理器16可以确定投影设备的以投影屏幕为参考物的左右平移参数、平面偏转参数、前后平移参数和俯仰参数。在检测投影设备的左右平移参数和平面偏转参数的情况下,图4可以为存储器16中存储的第二成像区域内光电辐值的采样值序列,其中,a、b、c可以为该采样值序列中的特征像素点。在检测投影设备的前后平移参数和俯仰参数的情况下,为了保证采样值序列的完整性,需要对投影设备进行如图5所示的90度旋转,从而得到图6所示的第二成像区域内光电辐值的采样值序列,其中,a、b、c、d可以为该采样值序列中的特征像素点。
下面通过具体实施例分别对处理器确定投影设备的不同类别的偏移参数进行详细介绍。
实施例1:左右平移参数
当投影设备的位置发生如图7所示的左右平移时,线阵模块可以检测到如图8所示的像素与光电辐值的采样值序列。其中,虚线表示第二成像区域内光电辐值的采样值序列,即图4所示的采样值序列,实线表示第一成像区域内光电辐值的采样值序列。投影设备的平面偏转量可以表示为投影设备的左右平移量可以表示为对比两条曲线可知,a、b没有发生变化,c移动到了c1,因此,可知投影设备未发生平面偏转,发生了左右平移,且左右平移量为
实施例2:平面偏转参数
当投影设备的位置发生如图9所示的左右旋转时,线阵模块可以检测到如图10所示的像素与光电辐值的采样值序列。其中,虚线表示第二成像区域内光电辐值的采样值序列,即图4所示的采样值序列,实线表示第一成像区域内光电辐值的采样值序列。对比两条曲线可知,a、b、c都发生了变化,a移动到了a1,b移动到了b1,c移动到了c1,因此,可知投影设备的既发生了左右平移,也发生了平面偏转,且投影设备的左右平移量为平面偏转量为
实施例3:前后平移参数
当投影设备的位置发生如图11所示的前后平移时,线阵模块可以检测到如图12所示的像素与光电辐值的采样值序列。其中,虚线表示第二成像区域内光电辐值的采样值序列,即图6所示的采样值序列,实线表示第一成像区域内光电辐值的采样值序列。投影设备的前后平移量可以表示为投影设备的俯仰量可以表示为对比两条曲线可知,a、b没有发生变化,c移动到了c1,d移动到了d1,因此,可知投影设备未发生俯仰变化,发生了前后平移,且前后平移量为
需要说明的是,投影设备俯仰量的确定方法可以参考上述三个实施例中的相关描述,此处不再赘述。
可选的,继续参考图3,上述处理器16还可以被配置为:向校准系统的主控芯片18发送偏移参数,以便于校准系统根据该偏移参数对投影设备10的位置进行校正,该校准系统可以为投影设备的外接设备,也可以为投影设备的一个组成部分。
本申请实施例提供一种投影设备,投影设备的线阵模块可以采集第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值,投影设备的处理器可以根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值,并根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。由于投影设备需要与投影屏幕配合使用才能使线阵模块采集到第一成像区域的光电辐值,也就是说,即使投影设备的使用位置发生改变,也无法改变投影设备与投影屏幕之间的作用关系,因此,投影设备可以实现投影设备在任意使用地点的偏移定位,并为投影设备的位置校准提供参考。
如图13所示,本申请实施例还提供一种投影设备的校准方法,该投影设备的校准方法可以应用于投影设备或投影设备中的处理器,下面以投影设备执行投影设备的校准方法为例,对该投影设备的校准方法进行详细说明。该投影设备的校准方法可以包括下述的S101-S104。
S101、投影设备获取经过聚焦处理的光线形成的第二成像区域第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值。
S102、投影设备根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值。
S103、投影设备根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。
其中,该特征像素点包括根据预配置的校准点在第一成像区域中形成的光电辐值突变点确定的像素点。
S104、投影设备根据偏移参数对该投影设备的位置进行校准。
可选的,在S103之前,投影设备还可以获取第二成像区域内每个像素点对应的光电辐值;并根据光电辐值确定第二成像区域内的特征像素点的光电辐值。
具体的,投影设备可以根据经过聚焦处理的光线形成的第二成像区域内特征像素点的光电辐值与第一成像区域内特征像素点的光电辐值之间的变化量确定投影设备的偏移参数。
可选的,在确定投影设备的偏移参数之后,投影设备还可以向校准系统发送该偏移参数,并通过该校准系统以偏移参数为标准对投影设备的位置进行校准。
本申请实施例提供的投影设备的校准方法,可以采集第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值,并根据光电辐值确定特征像素点的光电辐值,以及根据特征像素点的光电辐值确定投影设备的偏移参数。由于第一成像区域是通过投影屏幕的配合产生的,即投影设备需要与投影屏幕配合使用才能采集到第一成像区域的光电辐值,也就是说,即使投影设备的使用位置发生改变,也无法改变投影设备与投影屏幕之间的作用关系,因此,投影设备可以实现投影设备在任意使用地点的偏移定位,并为投影设备的位置校准提供参考。
如图14所示,本申请实施例还提供另一种投影设备,包括存储器41、处理器42、总线43和通信接口44;存储器41用于存储计算机执行指令,处理器42与存储器41通过总线43连接;当投影设备运行时,处理器42执行存储器41存储的计算机执行指令,以使投影设备执行如上述实施例提供的投影设备的校准方法。
在具体的实现中,作为一种实施例,处理器42(42-1和42-2)可以包括一个或多个CPU,例如图14中所示的CPU0和CPU1。且作为一种实施例,投影设备可以包括多个处理器42,例如图14中所示的处理器42-1和处理器42-2。这些处理器42中的每一个CPU可以是一个单核处理器(single-CPU),也可以是一个多核处理器(multi-CPU)。这里的处理器42可以指一个或多个设备、电路、和/或用于处理数据(例如计算机程序指令)的处理核。
存储器41可以是只读存储器(read-only memory,ROM)或可存储静态信息和指令的其他类型的静态存储设备,随机存取存储器(random access memory,RAM)或者可存储信息和指令的其他类型的动态存储设备,也可以是电可擦可编程只读存储器(electricallyerasable programmable read-only memory,EEPROM)、只读光盘(compact disc read-only memory,CD-ROM)或其他光盘存储、光碟存储(包括压缩光碟、激光碟、光碟、数字通用光碟、蓝光光碟等)、磁盘存储介质或者其他磁存储设备、或者能够用于携带或存储具有指令或数据结构形式的期望的程序代码并能够由计算机存取的任何其他介质,但不限于此。存储器41可以是独立存在,通过总线43与处理器42相连接。存储器41也可以和处理器42集成在一起。
在具体的实现中,存储器41,用于存储本申请中的数据和执行本申请的软件程序对应的计算机执行指令。处理器42可以通过运行或执行存储在存储器41内的软件程序,以及调用存储在存储器41内的数据,投影设备的各种功能。
通信接口44,使用任何收发器一类的装置,用于与其他设备或通信网络通信,如控制系统、无线接入网(radio access network,RAN),无线局域网(wireless local areanetworks,WLAN)等。通信接口44可以包括接收单元实现接收功能,以及发送单元实现发送功能。
总线43,可以是工业标准体系结构(industry standard architecture,ISA)总线、外部设备互连(peripheral component interconnect,PCI)总线或扩展工业标准体系结构(extended industry standard architecture,EISA)总线等。该总线43可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。为便于表示,图14中仅用一条粗线表示,但并不表示仅有一根总线或一种类型的总线。
本申请实施例还提供一种计算机可读存储介质,计算机可读存储介质包括计算机执行指令,当计算机执行指令在计算机上运行时,使得计算机执行如上述实施例提供的投影设备的校准方法。
本申请实施例还提供一种计算机程序,该计算机程序可直接加载到存储器中,并含有软件代码,该计算机程序经由计算机载入并执行后能够实现上述实施例提供的投影设备的校准方法。
本领域技术人员应该可以意识到,在上述一个或多个示例中,本发明所描述的功能可以用硬件、软件、固件或它们的任意组合来实现。当使用软件实现时,可以将这些功能存储在计算机可读介质中或者作为计算机可读介质上的一个或多个指令或代码进行传输。计算机可读介质包括计算机存储介质和通信介质,其中通信介质包括便于从一个地方向另一个地方传送计算机程序的任何介质。存储介质可以是通用或专用计算机能够存取的任何可用介质。
通过以上的实施方式的描述,所属领域的技术人员可以清楚地了解到,为描述的方便和简洁,仅以上述各功能模块的划分进行举例说明,实际应用中,可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能模块完成,即将装置的内部结构划分成不同的功能模块,以完成以上描述的全部或者部分功能。
在本申请所提供的几个实施例中,应该理解到,所揭露的装置和方法,可以通过其它的方式实现。例如,以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的,例如,所述模块或单元的划分,仅仅为一种逻辑功能划分,实际实现时可以有另外的划分方式。例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个装置,或一些特征可以忽略,或不执行。另一点,所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口,装置或单元的间接耦合或通信连接,可以是电性,机械或其它的形式。作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是一个物理单元或多个物理单元,即可以位于一个地方,或者也可以分布到多个不同地方。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
另外,在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中,也可以是各个单元单独物理存在,也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现,也可以采用软件功能单元的形式实现。集成的单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时,可以存储在一个可读取存储介质中。基于这样的理解,本申请实施例的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的全部或部分可以以软件产品的形式体现出来,该软件产品存储在一个存储介质中,包括若干指令用以使得一个设备(可以是单片机,芯片等)或处理器(processor)执行本发明各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括:U盘、移动硬盘、ROM、RAM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种投影设备,其特征在于,包括:校准光源、柱状透镜、线阵模块和处理器;
所述校准光源被配置为:发射光束并将所述光束投影到投影屏幕下边缘处的反光镜上;
所述柱状透镜被配置为:将经过所述反光镜反射的光线进行聚焦处理;
所述线阵模块被配置为:采集经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值;
所述处理器被配置为:根据所述光电辐值确定特征像素点的光电辐值,并根据所述特征像素点的光电辐值确定所述投影设备的偏移参数;
其中,所述特征像素点包括根据所述投影屏幕上配置的校准点在所述第一成像区域中形成的光电辐值突变点确定的像素点。
2.根据权利要求1所述的投影设备,其特征在于,
所述线阵模块还被配置为:在所述投影设备的位置处于校准状态的情况下,采集经过聚焦处理的光线形成的第二成像区域内每个像素点对应的光电辐值;
所述处理器还被配置为:根据所述光电辐值确定所述第二成像区域内的特征像素点的光电辐值。
3.根据权利要求2所述的投影设备,其特征在于,所述处理器具体配置为:根据所述第二成像区域内特征像素点的光电辐值与所述第一成像区域内特征像素点的光电辐值之间的变化量确定所述投影设备的偏移参数。
4.根据权利要求1-3任一项所述的投影设备,其特征在于,所述处理器还被配置为:向校准系统发送所述偏移参数。
5.一种投影设备的校准方法,应用于投影设备,其特征在于,包括:
获取经过聚焦处理的光线形成的第一成像区域内每个像素点对应的光电辐值;
根据所述光电辐值确定特征像素点的光电辐值;
根据所述特征像素点的光电辐值确定所述投影设备的偏移参数;
根据所述偏移参数对所述投影设备的位置进行校准;
其中,所述特征像素点包括根据预配置的校准点在所述第一成像区域中形成的光电辐值突变点确定的像素点。
6.根据权利要求5所述的投影设备的校准方法,其特征在于,所述根据所述特征像素点的光电辐值确定所述投影设备的偏移参数之前,所述方法还包括:
获取经过聚焦处理的光线形成的第二成像区域内每个像素点对应的光电辐值;
根据所述光电辐值确定所述第二成像区域内的特征像素点的光电辐值。
7.根据权利要求6所述的投影设备的校准方法,其特征在于,所述根据所述特征像素点的光电辐值确定所述投影设备的偏移参数,具体包括:根据所述第二成像区域内特征像素点的光电辐值与所述第一成像区域内特征像素点的光电辐值之间的变化量确定所述投影设备的偏移参数。
8.根据权利要求5-7任一项所述的投影设备的校准方法,其特征在于,所述确定所述投影设备的偏移参数之后,所述方法还包括:
向校准系统发送所述偏移参数;
通过所述校准系统以所述偏移参数为标准对所述投影设备的位置进行校准。
9.一种投影设备,其特征在于,包括存储器、处理器、总线和通信接口;所述存储器用于存储计算机执行指令,所述处理器与所述存储器通过所述总线连接;当所述投影设备运行时,所述处理器执行所述存储器存储的所述计算机执行指令,以使所述投影设备执行如权利要求5-8中任一项所述的投影设备的校准方法。
10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质包括计算机执行指令,当所述计算机执行指令在计算机上运行时,使得所述计算机执行如权利要求5-8中任一项所述的投影设备的校准方法。
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