CN114800218A - 适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，包括箱体，气缸，水箱，电机，下抛光盘，气缸输出端固定连接有延长杆。本发明通过第一弹簧、滑块、第一凹槽、第二凹槽以及叶轮的配合使用，使得电机带动转杆以及抛光垫进行旋转的同时能够使得第一弹簧通过离心力挤压滑块，从而使得水分能够自动通过水箱从出水口流出，从而对基片进行降温，能够在不添加额外驱动的情况下自动添加水分，同时也能够减少工作人员打开以及关闭开关的负担，并且通过储水槽能够收集水分，并且通过电机带动叶轮进行旋转能够通过叶轮产生的离心力将水分再次收集到水箱的内部，从而完成水分的循环，进而减少水分的浪费。

Description

适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置
技术领域
本发明涉及基板抛光技术领域，具体为适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置。
背景技术
陶瓷基板(又称陶瓷电路板)由于具有热导率高、耐热性好、热膨胀系数低、机械强度高、绝缘性好、耐腐蚀、抗辐射等特点，在电子器件封装中逐步得到广泛应用，但是陶瓷基板在电镀加工的过程中容易在表面产生凸起，不仅降低了产品生产的良品率，同时也降低了产品的使用寿命，所以需要对基板经电镀后表面镀层的凸起进行抛光处理。
陶瓷基板在抛光的过程中会产生大量的热量，为了防止产品烧焦通常会对产品表面持续喷水，但是现有的加水装置通常需要利用额外驱动和能源对产品进行降温，并且还需工作人员及时打开和关闭出水开关，用来防止能源以及水分的浪费，同时添加了工作人员的负担。
发明内容
本发明的目的在于提供适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，包括箱体，气缸，固定连接于所述箱体顶部，水箱，固定连接于所述箱体顶部，且所述水箱底部固定连接有出水软管，电机，固定连接于所述箱体内壁，且所述电机输出端固定连接有转杆，下抛光盘，套设于所述转杆外部，且所述下抛光盘表面周向等距开设有多个第一放置槽，所述气缸输出端固定连接有延长杆，所述延长杆外壁固定连接有上抛光盘，所述上抛光盘外壁固定连接有防水环，所述防水环表面开设有通孔，所述延长杆底部外壁转动连接有抛光垫，所述抛光垫底部开设有限位槽，所述抛光垫外部套设有安装环，所述安装环表面开设有接水槽，所述安装环内部开设有进水口，所述安装环内部开设有第一凹槽，所述安装环内部开设有第二凹槽，所述第二凹槽内部设有第一弹簧，所述第一弹簧一端与安装环固定连接，所述第二凹槽内部滑动连接有滑块，所述第一弹簧另一端与滑块固定连接，所述安装环内部开设有出水口。
进一步的，所述出水软管底部贯穿通孔且延伸至接水槽内部，所述接水槽形状为环形，所述安装环顶部与防水环转动连接，通过环形的接水槽使得安装环在旋转的过程中水分也能够通过出水软管源源不断的加入接水槽内部。
进一步的，所述接水槽与进水口相连通，所述接水槽位于进水口顶部，所述进水口与第一凹槽相连通，所述第一凹槽与第二凹槽相连通，所述第二凹槽与出水口相连通，通过进水口、第一凹槽、第二凹槽以及出水口之间的相连通能够实现水分补给，从而便于对基片进行降温。
进一步的，所述抛光垫顶部与底部对称开设有两个螺旋凹槽，所述抛光垫表面开设有多个第一通槽，两个所述螺旋凹槽通过第一通槽相连通，通过螺旋凹槽能够对抛光产生的碎屑以及水分进行收集，并且能够将水分以及碎屑通过第一通槽引导至抛光垫的底部，从而使得水分对第一放置槽内部的基片进行降温，同时使得碎片以及水分通过抛光垫底部的螺旋凹槽甩出。
进一步的，所述转杆顶部固定连接有与限位槽相适配的凸块，所述抛光垫两端对称开设有卡槽，所述安装环两端螺纹连接有与卡槽相适配的螺纹杆，所述螺纹杆靠近抛光垫的一端转动连接有与卡槽相适配的卡接块，所述安装环内部开设有与卡接块相适配的第一收纳槽，通过在抛光垫表面设置与卡接块相适配的卡槽，使得抛光垫磨损到一定程度后工作人员便于对抛光垫的拆卸和安装。
进一步的，所述箱体内部开设有第一安装槽，所述转杆外壁固定连接有主动齿轮，所述主动齿轮外壁啮合有链条，所述箱体内部开设有环形集水槽，所述箱体内部开设有储水槽，所述储水槽内部转动连接有支撑杆，所述支撑杆外壁固定连接有叶轮，所述支撑杆外壁固定连接有从动齿轮，所述主动齿轮通过链条与从动齿轮啮合，所述水箱一端顶部固定连接有加水管，所述加水管另一端贯穿箱体且延伸至储水槽内部，通过电机旋转时同时带动叶轮，使得叶轮能够通过自身旋转产生的离心力将水分甩出，随着水分的增多，叶轮通过旋转能够将水分通过加水管输送至水箱内部，从而完成水分的循环再利用。
进一步的，所述环形集水槽与储水槽相连通，所述储水槽与第一安装槽相连通，所述叶轮位于从动齿轮底部，通过环形集水槽便于将抛光盘甩出的水分进行回收，从而便于将水分集中引导进入储水槽内部。
进一步的，所述上抛光盘表面周向等距开设有多个第二放置槽，所述上抛光盘内部开设有多个第二安装槽，多个所述第二安装槽内部均固定连接有限位环，所述限位环内部开设有第二通槽，所述限位环内部滑动连接有活动杆，所述活动杆一端固定连接有夹板，所述活动杆外部套设有第二弹簧，所述第二弹簧一端与限位环固定连接，所述第二弹簧另一端与夹板固定连接，通过夹板能够对第二放置槽内部放置的基片进行夹持，从而使得抛光垫在旋转的过程中能够同时对顶部以及底部的基片进行旋转抛光，从而提高抛光的效率。
进一步的，所述上抛光盘内部开设有多个第二收纳槽，所述第二收纳槽与第二安装槽相连通，所述上抛光盘内部周向等距开设有多个第三安装槽，所述第三安装槽与第二收纳槽相连通，所述活动杆一端固定连接有连接绳，通过连接绳与两组活动杆之间的固定连接，使得工作人员在拉动连接块时能够同时带动两个夹板进行移动，从而方便工作人员方便放置基板。
进一步的，所述第三安装槽内部滑动连接有连接块，所述连接绳另一端与连接块固定连接，所述连接块一端固定连接有L型杆，所述L型杆内部滑动连接有定位销，所述第三安装槽内部等距开设有与定位销相适配的定位槽，移动夹板后工作人员能够通过定位销和定位槽的配合使用对连接块的位置进行固定，从而方便工作人员放置基板。
与现有技术相比，本发明所达到的有益效果是：
1、本发明通过第一弹簧、滑块、第一凹槽、第二凹槽以及叶轮的配合使用，使得电机带动转杆以及抛光垫进行旋转的同时能够使得滑块通过离心力挤压第一弹簧，从而使得滑块能够不再堵塞第一凹槽与第二凹槽的连接处，从而使得抛光垫在旋转的时候水分能够自动地从水箱加入到抛光垫的表面，从而对第一放置槽以及第二放置槽内部的基片进行降温，从而能够在不添加额外驱动的情况下自动添加水分，同时也能够减少工作人员打开以及关闭开关的负担，同时在停止抛光的同时能够防止水分流出，从而减少水分的浪费，并且通过储水槽能够收集螺旋凹槽甩出的水分，并且通过电机带动叶轮进行旋转能够通过叶轮产生的离心力将水分再次收集到水箱的内部，从而完成水分的循环，进而减少水分的浪费。
2、本发明通过活动杆、夹板、第二弹簧以及连接绳的配合使用，使得工作人员在对第二放置槽内部放置基板时，可以首先通过将定位销抽出定位槽内部，然后同时拉动连接块带动连接绳，从而使得夹板向第二放置槽两端移动，然后将定位销与定位槽卡合，然后工作人员即可将基板平稳地放入第二放置槽内部，并使基板底部与抛光垫的顶部相接处，此时工作人员再次将定位销抽出定位槽的内部，此时第二弹簧不再受到压力开始进行回弹，从而对基板进行夹持，从而使得抛光垫在工作的过程中能够同时对上方和下方的基板同时进行打磨，从而提高打磨的效率。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是本发明整体剖面结构示意图；
图2为图1的A处结构放大图；
图3是本发明安装环未旋转时的俯视剖面结构示意图；
图4是本发明安装环旋转时的俯视剖面结构示意图；
图5为图1的B处结构放大图；
图6是本发明抛光垫仰视剖面结构示意图；
图7为图6的C处结构放大图；
图8是本发明上抛光盘俯视剖面结构示意图；
图9是图8的D处结构放大图；
图10是本发明连接块侧视剖面结构示意图。
图中：1、箱体；2、气缸；3、水箱；4、出水软管；5、电机；6、转杆；7、下抛光盘；8、第一放置槽；9、延长杆；10、上抛光盘；11、防水环；12、通孔；13、抛光垫；14、限位槽；15、安装环；16、接水槽；17、进水口；18、第一凹槽；19、第二凹槽；20、第一弹簧；21、滑块；22、出水口；23、螺旋凹槽；24、第一通槽；25、凸块；26、卡槽；27、螺纹杆；28、卡接块；29、第一收纳槽；30、第一安装槽；31、主动齿轮；32、链条；33、环形集水槽；34、储水槽；35、支撑杆；36、叶轮；37、从动齿轮；38、加水管；39、第二放置槽；40、第二安装槽；41、限位环；42、第二通槽；43、活动杆；44、夹板；45、第二弹簧；46、第二收纳槽；47、第三安装槽；48、连接绳；49、连接块；50、L型杆；51、定位销；52、定位槽。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1－图6，本发明提供技术方案：适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，包括箱体1，气缸2，固定连接于箱体1顶部，水箱3，固定连接于箱体1顶部，且水箱3底部固定连接有出水软管4，电机5，固定连接于箱体1内壁，且电机5输出端固定连接有转杆6，下抛光盘7，套设于转杆6外部，且下抛光盘7表面周向等距开设有多个第一放置槽8，气缸2输出端固定连接有延长杆9，延长杆9外壁固定连接有上抛光盘10，上抛光盘10外壁固定连接有防水环11，防水环11表面开设有通孔12，延长杆9底部外壁转动连接有抛光垫13，抛光垫13底部开设有限位槽14，抛光垫13外部套设有安装环15，安装环15表面开设有接水槽16，安装环15内部开设有进水口17，安装环15内部开设有第一凹槽18，安装环15内部开设有第二凹槽19，第二凹槽19内部设有第一弹簧20，第一弹簧20一端与安装环15固定连接，第二凹槽19内部滑动连接有滑块21，第一弹簧20另一端与滑块21固定连接，安装环15内部开设有出水口22，出水软管4底部贯穿通孔12且延伸至接水槽16内部，接水槽16形状为环形，安装环15顶部与防水环11转动连接，接水槽16与进水口17相连通，接水槽16位于进水口17顶部，进水口17与第一凹槽18相连通，第一凹槽18与第二凹槽19相连通，第二凹槽19与出水口22相连通，抛光垫13顶部与底部对称开设有两个螺旋凹槽23，抛光垫13开设有多个第一通槽24，两个螺旋凹槽23通过第一通槽24相连通，转杆6顶部固定连接有与限位槽14相适配的凸块25，抛光垫13两端对称开设有卡槽26，安装环15两端螺纹连接有与卡槽26相适配的螺纹杆27，螺纹杆27靠近抛光垫13的一端转动连接有与卡槽26相适配的卡接块28，安装环15内部开设有与卡接块28相适配的第一收纳槽29，箱体1内部开设有第一安装槽30，转杆6外壁固定连接有主动齿轮31，主动齿轮31外壁啮合有链条32，箱体1内部开设有环形集水槽33，箱体1内部开设有储水槽34，储水槽34内部转动连接有支撑杆35，支撑杆35外壁固定连接有叶轮36，支撑杆35外壁固定连接有从动齿轮37，主动齿轮31通过链条32与从动齿轮37啮合，水箱3一端顶部固定连接有加水管38，加水管38另一端贯穿箱体1且延伸至储水槽34内部，环形集水槽33与储水槽34相连通，储水槽34与第一安装槽30相连通，叶轮36位于从动齿轮37底部。
实施方式具体为：当工作人员需要对固定好的基片进行抛光时，此时工作人员通过控制气缸2带动延长杆9、上抛光盘10、防水环11、抛光垫13以及安装环15下降移动，使得限位槽14与凸块25卡接，并且由于水箱3、出水软管4、接水槽16、进水口17、第一凹槽18和第二凹槽19相连通，此时第一凹槽18以及滑块21远离出水口22一侧的内部充满水分，此时工作人员通过打开电机5带动转杆6以及凸块25进行旋转，使得凸块25在旋转的过程中带动抛光垫13进行逆时针旋转，此时抛光垫13随着旋转对下抛光盘7顶部的基片以及上抛光盘10底部的基片进行抛光，同时抛光垫13在旋转的过程中带动安装环15进行逆时针旋转，通过安装环15逆时针旋转产生的离心力使得滑块21挤压第一弹簧20，从而使得滑块21在移动的过程中不再堵塞第一凹槽18与第二凹槽19之间的连接处，从而使得水分沿着第一凹槽18进入第二凹槽19内部，然后从出水口22流出，从而使得水分流至抛光垫13的顶部，从而将抛光垫13顶部湿润，进而防止上抛光盘10内部的基片抛光时温度过高，同时在抛光时产生的小颗粒会随着抛光垫13的旋转进入螺旋凹槽23内部，最后使得水分以及小颗粒通过第一通槽24进入下抛光盘7顶部，从而使得水分对下抛光盘7顶部的基片进行降温，从而使得设备在不利用额外驱动的情况下进行加水，并且当抛光垫13停止旋转后，此时第一弹簧20不再受到离心力的影响，从而开始回弹，从而带动滑块21再次将第一凹槽18与第二凹槽19的连接处进行堵塞，从而防止水源的浪费，同时水分和颗粒会通过抛光垫13底部的螺旋凹槽23再次被甩出进入环形集水槽33内部，最后水分会沿着环形集水槽33进入储水槽34内部，当水分进入储水槽34内部并且将叶轮36覆盖时，随着转杆6的旋转带动第一安装槽30内部的主动齿轮31和链条32进行旋转，从而使得链条32带动从动齿轮37和支撑杆35进行旋转，在支撑杆35旋转的过程中带动叶轮36进行旋转，从而使得叶轮36旋转产生的离心力将水分甩入加水管38内部，同时环形集水槽33继续将水分收集流入储水槽34内部，随着叶轮36继续旋转产生的离心力将水分通过加水管38加入至水箱3内部，从而完成水分的循环，当抛光垫13磨损程度较高时，此时工作人员可以通过旋转螺纹杆27带动卡接块28，使得卡接块28从抛光垫13内部的卡槽26中抽出，使得卡接块28收纳至第一收纳槽29内部，然后即可取出抛光垫13对其进行更换，将新的抛光垫13的卡槽26与第一收纳槽29校准后，通过逆时针旋转螺纹杆27带动卡接块28，再次将卡接块28插入卡槽26内部，即可完成对抛光垫13的更换。
请参阅图1、图8、图9和图10，本发明提供技术方案：适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，另外上抛光盘10表面周向等距开设有多个第二放置槽39，上抛光盘10内部开设有多个第二安装槽40，多个第二安装槽40内部均固定连接有限位环41，限位环41内部开设有第二通槽42，限位环41内部滑动连接有活动杆43，活动杆43一端固定连接有夹板44，活动杆43外部套设有第二弹簧45，第二弹簧45一端与限位环41固定连接，第二弹簧45另一端与夹板44固定连接，上抛光盘10内部开设有多个第二收纳槽46，第二收纳槽46与第二安装槽40相连通，上抛光盘10内部周向等距开设有多个第三安装槽47，第三安装槽47与第二收纳槽46相连通，活动杆43一端固定连接有连接绳48，第三安装槽47内部滑动连接有连接块49，连接绳48另一端与连接块49固定连接，连接块49一端固定连接有L型杆50，L型杆50内部滑动连接有定位销51，第三安装槽47内部等距开设有与定位销51相适配的定位槽52。
实施方式具体为：当工作人员需要放置基板时，首先工作人员将基板放入下抛光盘7内部的第一放置槽8中，然后通过提拉定位销51，使得定位销51抽出定位槽52的内部，然后拉动定位销51，使得定位销51带动L型杆50、连接块49和连接绳48进行移动，从而使得连接绳48同时拉动两个活动杆43，使得活动杆43沿着限位环41内部的第二通槽42进行滑动，同时带动夹板44挤压第二弹簧45，从而使得夹板44向第二放置槽39的两端移动，然后此时工作人员将定位销51插入定位槽52内部，此时工作人员将基板放置进入第二放置槽39内部，使得基板底部与抛光垫13顶部接触，然后此时工作人员再次将定位销51抽出定位槽52内部并且松开对定位销51的提拉，此时第二弹簧45不再受到压力开始回弹带动夹板44对放置好的基板进行固定，然后即可通过抛光垫13对第一放置槽8内部以及第二放置槽39内部的基板进行同时打磨，从而通过双面打磨提高打磨的效率。
本发明的工作原理：
参照图1－图6，通过第一弹簧20、滑块21、第一凹槽18、第二凹槽19以及叶轮36的配合使用，使得电机5带动转杆6以及抛光垫13进行旋转的同时能够使得滑块21通过离心力挤压第一弹簧20，从而使得滑块21能够不再堵塞第一凹槽18与第二凹槽19的连接处，从而使得抛光垫13在旋转的时候水分能够自动地从水箱3加入到抛光垫13的表面，从而对第一放置槽8以及第二放置槽39内部的基片进行降温，从而能够在不添加额外驱动的情况下自动添加水分，同时也能够减少工作人员打开以及关闭开关的负担，同时在停止抛光的同时能够防止水分流出，从而减少水分的浪费，并且通过储水槽34能够收集螺旋凹槽23甩出的水分，并且通过电机5带动叶轮36进行旋转能够通过叶轮36产生的离心力将水分再次收集到水箱3的内部，从而完成水分的循环，进而减少水分的浪费。
进一步的，参照说明书附图1、图8、图9和图10、通过活动杆43、夹板44、第二弹簧45以及连接绳48的配合使用，使得工作人员在对第二放置槽39内部放置基板时，可以首先通过将定位销51抽出定位槽52内部，然后同时拉动连接块49带动连接绳48，从而使得夹板44向第二放置槽39两端移动，然后将定位销51与定位槽52卡合，然后工作人员即可将基板平稳地放入第二放置槽39内部，并使基板底部与抛光垫13的顶部相接处，此时工作人员再次将定位销51抽出定位槽52的内部，此时第二弹簧45不再受到压力开始进行回弹，从而对基板进行夹持，从而使得抛光垫13在工作的过程中能够同时对上方和下方的基板同时进行打磨，从而提高打磨的效率。
最后应说明的是：以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，包括箱体(1)；
气缸(2)，固定连接于所述箱体(1)顶部；
水箱(3)，固定连接于所述箱体(1)顶部，且所述水箱(3)底部固定连接有出水软管(4)；
电机(5)，固定连接于所述箱体(1)内壁，且所述电机(5)输出端固定连接有转杆(6)；
下抛光盘(7)，套设于所述转杆(6)外部，且所述下抛光盘(7)表面周向等距开设有多个第一放置槽(8)；
其特征在于：
所述气缸(2)输出端固定连接有延长杆(9)，所述延长杆(9)外壁固定连接有上抛光盘(10)，所述上抛光盘(10)外壁固定连接有防水环(11)，所述防水环(11)表面开设有通孔(12)，所述延长杆(9)底部外壁转动连接有抛光垫(13)，所述抛光垫(13)底部开设有限位槽(14)，所述抛光垫(13)外部套设有安装环(15)，所述安装环(15)表面开设有接水槽(16)，所述安装环(15)内部开设有进水口(17)，所述安装环(15)内部开设有第一凹槽(18)，所述安装环(15)内部开设有第二凹槽(19)，所述第二凹槽(19)内部设有第一弹簧(20)，所述第一弹簧(20)一端与安装环(15)固定连接，所述第二凹槽(19)内部滑动连接有滑块(21)，所述第一弹簧(20)另一端与滑块(21)固定连接，所述安装环(15)内部开设有出水口(22)。
2.根据权利要求1所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述出水软管(4)底部贯穿通孔(12)且延伸至接水槽(16)内部，所述接水槽(16)形状为环形，所述安装环(15)顶部与防水环(11)转动连接。
3.根据权利要求1所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述接水槽(16)与进水口(17)相连通，所述接水槽(16)位于进水口(17)顶部，所述进水口(17)与第一凹槽(18)相连通，所述第一凹槽(18)与第二凹槽(19)相连通，所述第二凹槽(19)与出水口(22)相连通。
4.根据权利要求1所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述抛光垫(13)顶部与底部对称开设有两个螺旋凹槽(23)，所述抛光垫(13)表面开设有多个第一通槽(24)，两个所述螺旋凹槽(23)通过第一通槽(24)相连通。
5.根据权利要求1所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述转杆(6)顶部固定连接有与限位槽(14)相适配的凸块(25)，所述抛光垫(13)两端对称开设有卡槽(26)，所述安装环(15)两端螺纹连接有与卡槽(26)相适配的螺纹杆(27)，所述螺纹杆(27)靠近抛光垫(13)的一端转动连接有与卡槽(26)相适配的卡接块(28)，所述安装环(15)内部开设有与卡接块(28)相适配的第一收纳槽(29)。
6.根据权利要求1所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述箱体(1)内部开设有第一安装槽(30)，所述转杆(6)外壁固定连接有主动齿轮(31)，所述主动齿轮(31)外壁啮合有链条(32)，所述箱体(1)内部开设有环形集水槽(33)，所述箱体(1)内部开设有储水槽(34)，所述储水槽(34)内部转动连接有支撑杆(35)，所述支撑杆(35)外壁固定连接有叶轮(36)，所述支撑杆(35)外壁固定连接有从动齿轮(37)，所述主动齿轮(31)通过链条(32)与从动齿轮(37)啮合，所述水箱(3)一端顶部固定连接有加水管(38)，所述加水管(38)另一端贯穿箱体(1)且延伸至储水槽(34)内部。
7.根据权利要求6所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述环形集水槽(33)与储水槽(34)相连通，所述储水槽(34)与第一安装槽(30)相连通，所述叶轮(36)位于从动齿轮(37)底部。
8.根据权利要求1所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述上抛光盘(10)表面周向等距开设有多个第二放置槽(39)，所述上抛光盘(10)内部开设有多个第二安装槽(40)，多个所述第二安装槽(40)内部均固定连接有限位环(41)，所述限位环(41)内部开设有第二通槽(42)，所述限位环(41)内部滑动连接有活动杆(43)，所述活动杆(43)一端固定连接有夹板(44)，所述活动杆(43)外部套设有第二弹簧(45)，所述第二弹簧(45)一端与限位环(41)固定连接，所述第二弹簧(45)另一端与夹板(44)固定连接。
9.根据权利要求8所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述上抛光盘(10)内部开设有多个第二收纳槽(46)，所述第二收纳槽(46)与第二安装槽(40)相连通，所述上抛光盘(10)内部周向等距开设有多个第三安装槽(47)，所述第三安装槽(47)与第二收纳槽(46)相连通，所述活动杆(43)一端固定连接有连接绳(48)。
10.根据权利要求9所述的适用于金属化陶瓷基板表面镀层处理的液体循环抛光装置，其特征在于：所述第三安装槽(47)内部滑动连接有连接块(49)，所述连接绳(48)另一端与连接块(49)固定连接，所述连接块(49)一端固定连接有L型杆(50)，所述L型杆(50)内部滑动连接有定位销(51)，所述第三安装槽(47)内部等距开设有与定位销(51)相适配的定位槽(52)。
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