CN114729444A - 用于处理柔性衬底的方法和用于实施方法的真空处理系统 - Google Patents

Abstract

本发明解决的问题涉及用于处理柔性衬底(18)的方法和用于实施用于处理柔性衬底(18)的方法的真空处理系统，提供了能够实现产生足够的质量的可靠和均匀处理的解决方案。通过该方法解决了所述问题，柔性衬底(18)为柔性矩阵状或格子状构造材料，柔性衬底(18)的第一层在第一传输方向(64)上传输，并且柔性衬底(18)的至少一个第二层在相反的第二传输方向(65)上平行于第一层并且与第一层紧密间隔地传输穿过可以排空的处理区域中的自由区域(26)，其中至少一个处理介质(11)的至少一种可用通量(13)同时穿透柔性衬底(18)的第一层和第二层，同时它们在相反方向上传输穿过自由区域(26)。通过该布置解决了该问题，布置辊组(20)和辊组(21)，在每个辊组(20、21)中布置用于使柔性衬底(18)偏转的多个较小的辊(24)和多个较大的辊(23)，包括处理介质(11)的自由区域(26)布置在辊组(20)和辊组(21)之间，柔性衬底(18)在相反方向上传输穿过自由区域并且不改变方向，并且柔性衬底(18)的至少两个紧密间隔的层在传输方向(64)和传输方向(65)上在相反方向上传输。

Description

用于处理柔性衬底的方法和用于实施方法的真空处理系统

技术领域

本发明涉及用于处理柔性衬底的方法，其中用处理仪器处理的柔性衬底移动通过真空处理系统的可排空的处理区域。

本发明还涉及用于实施处理柔性衬底的方法的真空处理系统，该真空处理系统具有至少一个展开模块、一个卷取模块和布置在这些模块之间的具有一个或多个处理仪器的可排空的处理区域。

本发明尤其涉及真空处理系统的相互作用及其对处理柔性膜状衬底的优化，其特征为自由开放体积的比例非常高。

背景技术

所谓条形或条状衬底的柔性衬底可以由多种材料组成，诸如塑料、金属、纸和纺织物。这种柔性条状衬底通常缠绕在卷轴上，也称为匝，因此称为卷绕物或线轴。为了处理，柔性条状衬底从第一匝展开，第一匝安装在展开装置或展开模块上，在真空处理系统的可排空处理区域中处理，该真空处理系统可以包括一个或多个连接的模块，并且然后再次卷绕在另一个卷轴上，该卷轴储存在卷绕装置或卷取模块上。

这种装置整体称为“卷到卷”系统或“卷到卷”卷绕装置或“卷到卷”传输系统。如果该系统用于真空技术，则称为模块化“卷到卷”真空处理系统。如果涂布工艺在“卷到卷”系统的模块化处理区域中进行，则称为“卷到卷”真空涂布系统。

通常，需要若干不同的处理步骤来处理条形的柔性衬底。由处理区域中的相应物理和/或化学工艺条件产生的要求在真空处理系统的模块之间可能完全不同。

物理和/或化学工艺条件特别地为压力、温度、气体通量的量、柔性衬底的处理区域中的气体的类型和组分以及处理介质的物理或化学作用模式，也称为处理仪器或处理工具或处理集料，它们用于处理条材料，主要用于处理或涂布其表面。这些工艺要求和工艺条件也导致需要使用“卷到卷”真空涂布系统的模块化设计。

对于模块化真空处理系统，存在实际防止真空处理系统的各个模块或室之间的压力平衡或气体交换的有效方法。因此，对于许多应用来说，需要安装具有锁定功能的装置作为各个模块或室之间的连接装置，并且在该参考框架中，展开装置和卷取装置也被视为模块，尽管这在很大程度上防止了压力平衡和/或气体交换，然而允许柔性条状衬底的传输。这并不能完全防止相邻空间(诸如模块或室)之间的气体交换或压力平衡，但它受到很大限制，通常甚至最小化到几乎完全消除的程度。

尽可能防止各个模块或室或室部分之间的压力平衡或气体交换的锁可以用作模块化真空涂布系统中的锁组件或所谓锁定室。

锁组件体现了所谓的辊锁。利用辊锁，两个辊以预设的力压在一起。辊以相反的方向旋转，并且几乎不被驱动。对辊施加额外的支撑力以使它们旋转运动是有利的。辊插入外壳中，该外壳允许真空处理系统的两个相邻室之间的连接路径仅位于辊之间。这种辊通常涂有防止柔性条状衬底的表面完全或仅不明显受到影响的材料。

WO001999050472A1公开了锁组件，该锁组件称为辊锁，并且在第一实施例中由两个辊组成。在这种布置中，预应力布置第一辊和第二辊，以便在两个辊之间生成接触压力，因此在两个相邻室之间实现非常良好的密封，在该两个相邻室的连接区域中集成了一对锁定辊。密封部件布置在壁的区域中，这些部件的侧面面向具有圆柱形状的相应辊。旨在使间隙在技术上和工艺上保持尽可能小，以便尽可能地防止压力平衡和气体交换。

在WO001999050472A1中也描述了可选变体。这种辊锁由辊组成，辊面对两个相应的密封部件，由此通过辊和密封部件之间的间隙将辊表面上的条状柔性材料从一个室传输至第二个室。

所谓的狭缝锁表示另一种类型的锁。条材料被引导通过无支撑悬挂的狭缝锁。在条材料的情况下，间隙宽度(即由狭缝锁跨越的空间的顶部和底部之间的距离，并且条材料被拉着通过该间隙宽度)不大于条材料的厚度的十倍。优选的范围是条材料的厚度的二至三倍。这种狭缝锁的长度通常在10cm和40cm之间。

如果要特别有效地防止气体交换并且因此防止压力平衡和/或如果相邻模块或室中的工作压力相差大于一个数量级，则已知使用所谓的锁定室来解耦系统的各个体积。锁定室提供了单独的泵出连接的可能性，泵或泵系统可以连接到该单独的泵出连接，由此可以在与锁定室相邻的两个模块或室中实现不同的压力条件或气体供给。

DE102005042762A1描述了用于膜的连续涂布的真空涂布系统。真空涂布系统包括带有涂布辊的单个真空室。真空室的内部由隔板分隔成多个子室，从而具有模块化功能。子室可以通过独立的真空泵排空。当将膜材料传输通过子室时，可以使用真空技术方法涂布膜表面。

WO2019/141303A1描述了膜状功能材料，该膜状功能材料实现至少一种预定功能并且可用于特定物理、化学、物理化学、生物或其他技术或工艺目的。

这些功能材料由至少一种构造材料组成，该构造材料布置成具有总载体体积并且横截面尺寸≤100μm的膜状载体介质。

如箔的膜状材料是片状或网状的薄材料，二维范围较大，并且三维范围相对较小。

片状材料和箔的区别在于片状材料的主体以x、y和z为特征，其中x和y表征主体的面积范围，z是横截面范围的方向，即从主体的一侧到主体的相对侧的可测量距离，并且Δx表示片状材料的长度，Δy表示片状材料的宽度，并且Δz表示片状材料的横截面范围，在这个维度内连贯地填充材料但没有填充整个空间，即制成箔状材料的材料在宏观上并未完全填充该主体所跨越的三维空间。

在本发明所考虑的情况下，自由空间的体积至少与构造材料的结构元件所占据的体积一样大。然而，通常，自由空间的体积甚至更大，在某些情况下甚至更大。

构造材料被视为矩阵或格子，并且由线状和节点状载体元件组成，载体元件形成载体介质的材料组分并且穿透载体的总体积，以形成带状延伸件，带状延伸件具有位于其中的载体的总体积的相互连接的子体积，这些子体积由相邻的载体元件跨越。

这种矩阵状或格子状材料对于用作功能材料中的构造组分变得越来越重要。这种类型的功能材料的区别在于例如它们的电学、磁学、光学、声学、生物化学或其他特性。这些矩阵状或格子状构造材料通常表示进一步处理成功能材料的起始材料。这些矩阵状或格子状构造材料通常以其特别的机械特性为特征，诸如它们的刚度或强度、它们的密度、它们的硬度或它们的耐磨性，并且通常由热稳定的基底材料组成，诸如玻璃或高温塑料。这种高温塑料例如是芳族聚酰胺、聚酰亚胺(PI)、聚芳醚酮(PEAK)、聚醚醚酮(PEEK)、聚四氟乙烯(PTFE)或其他热稳定塑料。

然而，矩阵状或格子状构造材料也可以由其他材料制成，诸如金属，通常称为金属丝，诸如铜丝、铝丝、钢丝、金属合金丝或金属涂布的金属丝或矿物纤维，例如岩棉纤维。

根据目前现有技术，并非构造成如矩阵或格子的这种构造材料的所有区域都能被充分可靠和有效地处理或加工。这种效果在涂布工艺中尤其明显。这意味着通常无法进行有效的工艺控制，并且涂布的质量经受强烈的波动。

因此，需要克服现有技术已知的缺点的处理柔性衬底的方法和用于实施用于处理柔性衬底的这种方法的真空处理设备。

发明内容

本发明基于指定用于处理柔性衬底的方法和用于实施用于处理柔性衬底的方法的真空处理系统的目的，该方法和真空处理系统能够以足够的质量进行可靠的处理，并且在柔性矩阵状或格子状衬底的所有区域中都是均匀的，特别是在进行涂布工艺时。这个目的的解决方案在执行真空涂布工艺时尤为重要。

特别地，将改进箔状、柔性、矩阵状或格子状材料的处理，这些材料在功能材料的生产方面是起始材料或材料的处理中的中间阶段。

该目的通过具有根据独立专利权利要求的专利权利要求1的特征的用于处理柔性衬底的方法来实现。在从属专利权利要求中叙述了进一步的发展。

该目的通过具有根据独立专利权利要求的专利权利要求11的特征的用于实施用于处理柔性衬底的方法的真空处理系统来实现。在从属专利权利要求中叙述了进一步的发展。

在下文中，术语柔性、矩阵状或格子状材料用于所谓的起始材料，并且用于制造工艺的所有中间处理阶段中的材料。

起始材料特别是由多个单独的载体元件组成的矩阵状或格子状构造材料。这里，载体元件是线状的，并且因此在第一维度上较大并且在第二维度和第三维度上较小。这些载体元件也可以是节点状的。例如，第一维度可以是x方向的范围，第二维度的范围是y方向，并且第三维度的范围是z方向。在这种情况下，x方向可以对应于柔性的、矩阵状或格子状构造材料的传输方向。

这种线状载体元件是在线状载体元件的小维度的两个维度上具有大致相同尺寸的载体元件。线状载体元件的这两个小维度例如可以是y方向和z方向。

较大的第一维度(x方向)与两个较小的第二维度和第三维度(y方向、z方向)的比率至少为50:1。例如，载体元件在第一维度上的范围可以是载体元件在其第二维度和第三维度上的范围的50倍。

两个较小的第二维度和第三维度的范围的彼此之间的比率例如不小于1:5并且不大于5:1。因此，第三维度的范围例如在第二维度的5倍和比第二维度小5倍之间的范围内。

在线状载体元件之间的距离较大的情况下，至少在一些部分中，也可能超出线状载体元件的所示限制。线状载体元件至少在部分中彼此间隔开较大距离，使得线状载体元件的面积效果相对于几何平面的比例可以忽略不计，线状载体元件的表面位于该几何平面中，使得线状载体元件不会导致跨越的部分体积彼此之间几乎完全定界。

贯穿总载体体积的载体元件因此以部分体积跨越在相邻载体元件之间的方式布置在彼此间隔开的部分中。跨越的子体积形成为开放的、相互连接的自由空间或空隙。

特别地，构造材料内的自由部分体积的总体积不小于由载体元件占据的总体积。自由部分体积的总体积与由载体元件占据的总体积的比率优选为至少2:1或至少5:1，特别优选地至少10:1。

简而言之，这种类型的构造材料可以描述为跨越带状结构的矩阵或格子，相对于位于带的平面中的去除的单元区域，一些线状载体元件以不同的角度穿过，其中载体元件可以交叉并且从而形成节点(即节点状载体元件)，或在节点状载体结构中相交。位于条状矩阵内的剩余体积表示真空处理的上下文中的空隙。

如果从条的顶侧或底侧观察矩阵状或格子状构造材料，则结构的特性变得可见，即它具有比填充固体的空间更多的空的空间。

如果要在顶部或底部处理矩阵状或格子状构造材料，则必须考虑这一点。矩阵或格子构造材料中的固体部件的比例非常低，以至于这种类型的材料的传统处理方法被证明是非常无效的。

当固体元件(即线状和节点状载体元件)将被涂布有待沉积的材料时，情况更加令人担忧。布置在带状结构之上和/或下方的涂布单元仅面向矩阵状或格子状构造材料的固体元件的若干表面，材料可以通过涂布单元的操作沉积在这些表面上。

根据本发明，柔性衬底的第一层或矩阵状或格子状构造材料在第一传输方向上传输，并且柔性衬底的至少一个第二层平行或至少准平行于柔性衬底的第一层传输，并且穿过可排空处理区域中的第一自由区域在与第一传输方向相反的第二传输方向上与第一层紧密间隔开。优选地，还传输更多层，例如四层或六层，这些层彼此紧密间隔开并且优选地彼此平行，以相互相反的方向穿过布置有至少一个处理源的可排空处理区域。如果柔性衬底的条状结构或矩阵状或格子状构造材料相对于位于条平面中的去除的单位区域由特别少量的线状载体元件穿过，则穿过布置有至少一个处理源的可排空处理区域在相反方向上传输的层数可以甚至高于六层，在某些情况下甚至明显更高。例如，多达15层可以穿过可排空的处理区域在相反方向上传输。

在可选实施例中，柔性衬底的第一层可以在第一传输方向上传输穿过第一自由区域并且随后在与第一传输方向不同的第三传输方向上传输穿过第二自由区域。然后在与第三传输方向相反的第四传输方向上穿过第二自由区域并且随后在与第一传输方向相反的第二传输方向上穿过可排空处理区域中的第一自由区域使柔性衬底在至少紧密间隔并且优选地平行于第一层的第二层中偏转并传输。此外，配置为处理矩阵状或格子状构造材料的至少一个处理源可以布置在自由区域中。在这种可选设计中，多达15层也可以穿过自由区域在相反的方向上传输。

此外，第一组辊和第二组辊可以布置在真空处理系统中，其中直径较小的若干辊和直径较大的若干辊(此后成为较小的辊和较大的辊)布置在用于偏转柔性衬底的每个辊组中。具有至少一个处理仪器的自由区域布置在第一组辊和第二组辊之间，柔性衬底在相反方向上传输穿过该自由区域并且方向不改变。

在这种情况下，辊组布置成使得柔性衬底在第一传输方向和第二传输方向上以至少两个相反的、优选地相互平行的层中传输。

可选地，可以布置第一组辊、第二组辊和第三组辊，其中第二自由区域布置在第一组辊和第三组辊之间，并且第三自由区域布置在第二组辊和第三组辊之间，其中辊组布置成使得柔性衬底在至少两个相互平行的层中传输穿过第二自由区域和第三自由区域。至少一个处理仪器布置在第一自由区域和/或第二自由区域中，其中柔性衬底在相反方向上传输穿过自由区域并且方向没有改变。

柔性衬底穿过第二自由区域的传输方向可以与柔性衬底穿过第三自由区域的传输方向成角度。

此处描述的用于处理柔性衬底的真空处理系统和相关工艺提供了以下可能性和优势：

·可以借助表面处理(诸如离子或离子束蚀刻)为后续涂布准备待处理元件(即线状和节点状载体元件)的表面。

·线状和节点状载体元件可以设置有包覆涂层，即线状和节点状载体元件完全由待涂布的材料覆盖。

·此外，线状和节点状载体元件之间的空隙可以部分或完全填充有基于特定真空涂布工艺的材料。

·层可以建立在线状载体元件的特定区域(例如它们的内边缘)上和节点状载体元件的区域上，这些区域已经设置有由相同涂布材料或由不同材料制成的包覆涂层，这些层可以用于覆盖矩阵状或格子状构造材料或柔性衬底的空隙。

·此外，沉积材料的表面可以适当地进行功能化，例如通过使用离子处理。

与在真空室或真空系统中的传统膜处理相比，上述矩阵状或格子状构造材料的结构组分的独特特性中特别反映的特别特征需要处理技术中的显著改变，以便能够进行有效处理。

必须考虑各种类型的处理和不同的处理任务，这导致真空系统内的设计和设备的解决方案相互不同，有时甚至是显著不同的解决方案。

对于描述，应在开头提到以下考虑因素：

由场和面积的乘积产生的各种物理量称为通量Φ。矢量场的标量通量(即矢量场与面积的标量积)具有实际意义。矢量场的重要标量通量例如是体积通量、磁通量和电通量。简而言之，通量

可以被认为是单位时间穿过区域的粒子数、质量、能量等。例如，可以在以下链接中找到这种当前的现有技术：https://de.wikipedia.org/wiki/Fluss_(Physik)。

还已知电流通常定义为每单位时间通穿过给定横截面积的量，即：

dQ/dt,(1)

其中Q在这里是指量。如果量的例子是能量，那么电流对应于功率。因此，电流是一种特别的通量，它由传输可量化的量的事实表征。

电荷Q_电荷在某一单位时间t期间的电流或电流强度也是通量Φ，即电流密度Φ_电流密度的通量：

其中

是矢量场电流通量密度，并且

是正态面积。

其他示例是体积通量，即每单位时间的体积，质量通量，即每单位时间的基于重量的质量，粒子通量，即每单位时间的粒子数量，诸如真空涂布工艺中的溅射的粒子，辐射通量，即每单位时间的电磁辐射，或光通量，即每单位时间的光或光子。例如，可以在以下链接下找到该现有技术：https://www.chemie.de/lexikon/Fluss_(Physik).html。

与粒子通量相反，没有材料在电通量中传输。例如，尽管电通量具有类似于通量场中的真实通量的数学性质，但它不传输任何物质，诸如电荷载流子，而只是将潜在力场的效果从一个点传输至另一个点。

在此处考虑真空系统中的表面处理技术的情况下，通量Φ包括所有工艺，即材料(例如粒子传输)和非材例传输(例如场的传播)。

基本思想是矩阵状或格子状构造材料在配置中受到通量Φ的作用的影响，在这种配置中，它们彼此小距离彼此叠放并且相互移动，即，以蜿蜒的方式。通量表示电流或传播场，电流或传播场的源是处理仪器。

通量Φ穿过处理介质的区域(即所谓的通量出口区域)进入空间，即进入真空室。

通量可以在通量传播的空间内通过与物质相互作用产生效果。在真空处理系统中的技术应用中，效果表示对固体(即其表面或靠近表面的区域)的有意影响。随着发射场远离处理仪器移动，通量Φ可以实现的效果会降低。在技术应用中，通量Φ的范围是有限的，这当然是任意工序。限制意味着通量Φ的空间范围仅理解为在该区域内的每个位置处，由坐标x、y和z限定，在相应位置处的效果强度I_效果：

I(x,y,z)＝I_效果±ΔI (3)

其中I_效果是从处理介质的表面发射的通量Φ对固体的表面或近表面区域的平均效果，并且ΔI表示影响的最大幅度，由此平均效果可能更小或更大。通量Φ的这个区域称为可用通量Φ_可用。在真空技术中，经常使用术语处理或处理空间来代替术语可用通量。

矩阵状或格子状构造材料的顶侧和底侧跨越表面，并且在上下文中也应视为表面。由于载体元件的表面比例相对于通过处理介质的表面发射的可用通量Φ_可用的总面积的表面积的小比例，矩阵状或格子状构造材料的各个层的载体元件在这些相对的层可以移动的区域中彼此覆盖或重叠的概率低或极低。

这也意味着当在矩阵状或格子状构造材料的顶侧或底侧看时，矩阵状或格子状构造材料的位于彼此的顶部的层数越多，填充有载体元件的固体表面比例的视场越多。当叠加层在相反方向上移动时，这种效果也会被放大，进一步降低持续重叠的可能性。

这种效果也意味着在这种情况下，处理区域中的叠加层数可以进一步增加。

然而，在任何情况下，相对于从带状结构的顶侧或底侧可以看到的表面，矩阵状或格子状构造材料的载体元件的表面比例越小，则在考虑到工艺高效且有效地运行时，可以将更多层布置在彼此的顶部上。

在此基础上，可以更有效地实施载体元件的表面处理工艺，因为由于矩阵状或格子状构造材料的层形成，比单层穿过该区域传输的情况下更多的固体材料位于可用通量Φ中，即处理仪器生成的场或电流展现其可用效果的空间区域。

根据本发明，提供了一种装置，诸如真空处理系统，用于处理柔性矩阵状或格子状衬底，其中该装置具有用于柔性衬底的展开模块和卷取模块、用于处理的装置和用于将柔性衬底从展开模块引导至卷取模块的工具。

特别地，待处理的柔性矩阵状或格子状衬底具有由一些线状和节点状载体元件穿过该结构产生的结构和位于衬底内部并且表示空隙的剩余体积区域。

真空处理系统具有模块化结构，模块化结构具有模块和若干相邻模块，其中模块设置在展开模块和卷取模块之间，柔性矩阵状或格子状衬底(也称为卷绕材料)穿过模块进行传输。

真空处理系统的处理室或处理空间中的残余气体压力一般应在10^-4毫巴以下，但在任何情况下必须满足工艺条件，使得也可以小于或大于10^-4毫巴。在加工处理的情况下，在有意允许使用工艺气体时，它可能会显著更高。

各种类型的真空处理单元或处理源可以用作处理介质，也称为处理或处理源，利用它可以执行表面处理步骤，诸如衬底的预处理、清洁、干燥、表面活化和/或聚合以及用于进一步处理的涂布。表面处理中的典型处理源是例如各种不同的电子源、离子源或特定的激光设备。处理源是通常用于物理或化学涂布的装置。物理涂布称为物理气相沉积(PVD)，并且化学涂布称为化学气相沉积(CVD)。典型的源例如是溅射源，特别是磁控溅射源、气相沉积、等离子体物理气相沉积或化学气相沉积源(PVD或CVD源)，它们可用于大量不同的装置类型和装置中。这些处理源也可以有限地用于构造材料的预处理、清洁、干燥、表面活化和/或聚合。

另一种涂布形式是真空条件下的热喷涂。热真空喷涂被理解为包括可以在真空条件下使用的所有技术上可能的热喷涂的变体。最常见的形式是真空电弧喷涂。

真空处理上述矩阵状或格子状构造材料的一个目的是处理线状和节点状载体元件的表面，例如当构造材料是用于进一步处理的起始材料时，或者用一种或多种物质涂布它们。很多时候，这种物质或这些物质可以用作线状和节点状载体元件的包覆涂层，由此应保留涂布的构造材料的矩阵状或格子状，即自由的、相互连接的子体积继续存在于载体介质中，而包裹载体元件的体积的一种或多种物质减少。

为了能够有效地解决这些任务，在本发明的解决方案中提出，条状构造材料通过可用通量Φ_可用或通过处理空间或通过具有至少一个处理源的处理工艺有效的处理空间以例如蜿蜒的形状以彼此小距离地传输若干次。

例如，在对矩阵状或格子状构造材料的表面进行离子处理的情况下，高能离子的影响在可用通量内几乎相同，即等式(3)中的ΔI可以忽略不计。对于涂布工艺，沉积速率，即当待涂布的材料的限定的部分/区域在处理空间中时的时间间隔内的材料量，对于已经离开处理空间的矩阵状或格子状构造材料的层的任何部分/区域几乎相同。卷绕材料(即构造材料)在彼此接近的处理空间中来回穿过数次这一事实，确保了在矩阵或格子型构造材料最终离开处理空间后实现相对均匀的处理。

这种处理方法可以通过以下步骤实施：引导卷绕材料(即构造材料)通过相应的偏转辊，使它多次穿过处理空间，并且在相反方向移动的构造材料层之间的距离被设计为小至技术上可行。

如已经解释的，在其中可以获得相当的有效强度的处理空间的特征通常在于它的深度不是大的值，该深度应理解为垂直于条平面或构造材料的传输方向的长度，即处理空间的尺寸相对较小。这种情况是由于有效粒子的平均自由程，即粒子(例如原子、分子、离子或电子)在以某种方式与另一个粒子碰撞之前在给定材料中平均行进的长度的幅度。因此，构造材料的各个卷绕材料层之间的距离(相邻层总是在相反方向上移动)通常必须保持尽可能小，即在技术和工艺条件允许的情况下尽可能小。

因此，计划将卷绕系统集成到真空涂布系统中，以允许在相反方向上移动的矩阵状或格子状构造材料的各个层之间的小距离的条件。

这种卷绕系统和处理空间设计为使得所采用的矩阵状或格子状构造材料能够承受处理工艺引起的热应力，并且不会变形超出允许的范围，或者不会被破坏。

因此，提供了使用使构造材料传输的移动的方向反转或反转其方向的偏转辊。

此外，这些偏转辊可以配备有或连接到冷却装置，以确保可以消散通过处理线状和节点状载体元件引入的能量的至少部分。

对上述矩阵状或格子状构造材料进行真空处理的另一个目的是用材料、用另一种用于涂布的材料填充由线状和节点状载体元件或已经涂布有材料的线状和节点状载体元件跨越的空隙，使得用这种附加材料填充条状矩阵状或格子状构造材料的自由空间区域或空白空间，由此填充工序被理解为将材料“引入”到矩阵的空白空间中。

这也意味着用这种附加材料填充不一定要覆盖整个体积，而是，这个事实表示一般情况，分隔开的附加材料分布在整个自由空间区域内，但这并不意味着填充覆盖整个体积。换言之，引入自由空间区域的另外的材料的特征可以在于它体现为多孔的，通常是开放的多孔结构。

为此目的，卷绕材料(即构造材料)被多次引导穿过处理空间或穿过处理空间内的可用通量Φ_可用、传播场或由处理源发射的电流。卷绕材料以与通量Φ_可用的基本作用方向成锐角的角度被拉过其处理场。为了增加处理工艺的效果，卷绕材料以蜿蜒的方式移动穿过处理场，使得卷绕材料在通量的有效方向上和相反方向上都以锐角传输，其中卷绕材料也以该锐角传输。

对于大多数处理源，被视为相互作用的效果以优选方向为特征。这意味着通量基本上在特定的预定方向上传播。该方向称为基本通量方向或主要方向。虽然相互作用的主要部分在预定方向上是有效的，但效果也发生在角度分布内，即效果分布在空间的不同方向上，这也可以被视为效果的角度分布的散射。

例如，在离子处理中，相互作用是高能离子与待处理介质(诸如构造材料)的表面之间的相互作用，其中离子在优选的预定方向上移动。例如，与中性粒子的碰撞或与类似带电粒子的相互作用会导致移动离子的角度分布，这在表面处理期间是明显的。

在这种情况下，也可以观察到效果的角度分布。在涂布的情况下，待沉积的材料的粒子的运动也在优选的预定的方向上行进，该方向表示了用于涂布工艺的通量的基本方向。在涂布工艺中，这个方向由热条件决定。通量Φ_可用及其优选方向总是从能量最高状态(即从处理介质或处理源的发射表面)传播，待沉积的材料(例如待蒸发的材料或已蒸发的粒子)是在处理仪器中生成的，即从具有最高温度的区域到能量最低的状态(即到存在最低温度的区域)。

因此，与构造材料一样，待涂布的衬底应具有最低的能量状态。与其他中性粒子(例如与气体原子)的碰撞，或者如果还与带电粒子或光子碰撞，会导致沉积在衬底的表面上的粒子的角度分布，并且因此进而表示效果的角度分布。

此外，用作卷绕材料并且由线状和节点状载体元件或由已经以覆盖方式涂布有材料的线状和节点状载体元件跨越的矩阵状或格子状构造材料的现有自由空间区域也可以以该区域上方的材料封闭，但不是通过填充整个体积，不需要区域覆盖材料层表示完全封闭的覆盖层，而是可以具有孔隙率，对于许多应用有利地是开放孔隙率。

对于许多应用，沉积层的孔隙率是非常重要的要求。因此，仅重要的是沉积层覆盖构造材料的自由空间区域，即在覆盖包覆层的意义上。覆盖自由空间区域的层也很可能由几种组分组成，这些组分合在一起导致自由空间区域被完全覆盖。该层不必完全封闭载体元件或包覆已经被涂布的载体元件，而是可以例如构建在载体元件的部分区域上，例如线状载体元件的内边缘。

对于这个工艺，构造材料可以被引导一次穿过处理空间或穿过由处理源生成的处理场。构造材料相对于确定的通量方向以锐角或以非常锐角被拉过处理场，结果，用于涂布的材料尤其沉积在线状载体元件的区域上，但也沉积在节点状载体元件的区域上。该涂布工艺进行到构造材料的自由空间区域完全由产生该层的材料覆盖的程度，而不需要直接连接到相邻的线状载体元件。

通过这种方式，以大面积自由空间为特征的矩阵状或格子状构造材料被转化为箔状材料。这种转化材料现在可以使用传统的、目前现有技术的箔处理技术进行进一步处理。

矩阵状或格子状构造材料的自由空间区域的这种覆盖通常用于在进一步的步骤中(即在技术上与第一步骤不同的第二涂布步骤中)在卷绕材料的顶侧和/或底侧上构建层的目的，该层使用真空技术(即通过真空涂布工艺)由一种或多种材料组成。覆盖层有助于产生与膜的涂布相当的整体涂布。此外，它允许第二涂布步骤也用在该涂布工艺期间沉积的一种或多种材料填充矩阵或格子构造材料的空白空间。

这些涂布工艺产生了由紧凑的(尽管通常是多孔的)涂层围绕的构造材料或箔状功能材料，这意味着它的外部固体外观实际上不再或仅在膜形式上与功能材料不显著不同。出于这个原因，即使名称不反映正确的事实，这通常称为功能箔，例如用于将材料用作电极的电极箔。

附图说明

在结合附图仔细研究本发明的优选的非限制性示例实施例的以下详细描述之后，将更好地理解和领会本发明的上述特征和优点，附图显示在：

图1：根据现有技术的两种不同处理源的示意图，

图2：用于矩阵状或格子状构造材料的真空涂布系统中的根据本发明的示例性卷绕装置，

图3：根据本发明的另一个示例性卷绕装置，

图4a：用于矩阵状或格子状构造材料的卷绕系统，

图4b：在具有两个区域或室的实施例中的真空处理系统中的根据本发明的另一个示例性卷绕装置，

图5a至图5f：随着层数的增加，矩阵状或格子状构造材料的相互移动并且相互抵靠的层的部分的顶视图的快照，

图6：处理室中的根据本发明设计的卷绕装置，

图7：另一个示例性卷绕装置，

图8a：处理的示意图，特别是涂布的示意图，

图8b：通过使用根据图4b的卷绕系统的处理的示意图，特别是涂布的示意图，

图9：涂布的示意图以解释层结构，

图10a至图10c：具有不同处理源的示例性真空处理系统，

图11a至图11c：在不同模块中具有不同处理源的真空处理系统的示例性配置，

图12：两种变体中的矩阵状或格子状构造材料18的线状载体元件上的层状结构的示意图，以及

图13：填充矩阵状或格子状构造材料18的空隙的示意图。

具体实施方式

图1示出了来自现有技术的两种不同处理介质11或处理源的示意图示，图1旨在帮助解释术语处理仪器11、场、电流、通量、效果和效果强度以及惯用语可用通量13、通量的预定有效方向、主通量传播方向或更详细地限定通量的传播。图1以示意和概括的方式示出了真空技术中使用的处理仪器11或处理源的两种不同几何形式。示意性地并且以概括的方式示出的一个处理仪器11具有圆柱形设计，而另一个具有长方体设计。

原则上，处理仪器11也可以具有任何其他形状。图1中以概括方式示意性示出的形状反映了此类装置的最常用的设计。然而，使用其他形状并不少见，例如由长方体和圆柱形元素组成的复合形状。处理仪器11表示场或功率发射单元，即它是生成通量的源。

在大多数情况下，在处理仪器11或处理源11中生成通量13的场或电流，通量13从表面行进至真空室的自由空间。可以感觉到通量13的效果并且可以通过与待涂布的衬底相互作用而有效的空间区域称为通量的可用范围。通量13从中传播的这个区域12在图1中突出显示并且称为效果发射区域12。它的存在是由于以下事实的结果：处理源11不表示点大小，而是表示总是具有三维有限几何范围的主体，使得效果总是从平面结构(即表面)发射。

由通量引起的效果表示作用在固体上、引起效果或反应的物理和/或化学相互作用过程，该固体称为真空技术中的特别应用的衬底或它的近表面区域。该效果总是与衬底的能量效果相关联，即能量被转移。因此，效果的这部分称为到衬底中的能量输入。

通量13的效果可以在表面或靠近衬底的表面的区域中引起完全不同的物理和/或化学效果或反应。此时，应仅列出众多可能的效果和反应中的一些，以便理解效果和反应的含义。

例如，传播通量13的效果可以涉及衬底表面的清洁。活化工艺可以通过对衬底表面或靠近表面的衬底的区域中的单独影响而引起。此外，借助特别效果，还可以在该衬底区域中进行物理和/或化学蚀刻。此外，通量13的特性可以进而在表面区域或衬底的表面上引起特别设计的效果，诸如氧化工艺或其他化学反应。此外，衬底表面可以涂布有一种或多种材料。在这种情况下，涂布工艺的蒸发剂提供了通量，并且沉积在衬底的固体部分上的层提供了特别的效果。根据本发明，矩阵状或格子状构造材料18表示柔性衬底18。

可用通量13应理解为影响衬底的通量的特定空间范围13，即，与衬底(即在它的表面或它的近表面区域上)的物理和/或化学效果或反应。对于诸如在真空系统中使用的那些的技术应用，可用通量13的空间范围通常以这样的方式受到限制，即空间中的每个点处的强度具有几乎相同的幅度或相同幅度数量级的幅度。该限制可以使用等式(3)指定，并且因此是任意限定，然而从技术角度来看，这是有意义的。垂直于通量出口表面12限定的受限作用场的范围的长度15称为通量范围15。

经常地，在通量出口表面12和可用通量13之间存在有限且因此有限范围的空间区域14，通过该通量出口表面12发射处理介质11的场或通量，可用通量13的特征在于：尽管期望的效果已经生效并且也可能已经使用，场或电流仍然有效，场或电流的力在与衬底相互作用时引起对处理源11的反馈或可能对衬底造成破坏性和不可逆的影响。因此，在进行处理时，衬底不得位于该区域中。该空间范围因此表示衬底的禁止空间区域14，并且因此称为禁止区14。

通量13在优选方向16上传播，该优选方向16由处理源11和通量出口表面12确定并且可以被视为通量13的传播的主要方向16，即传播发生在固定的、由源和由通量出口表面12确定的预定方向。基本上，通量13在与衬底的固体元件的表面或它们的近表面区域相互作用期间从该优选方向16(即主要方向16)是有效的。由于散射过程、反射和类似过程，效果可能会经历角度分布17，该角度分布会减弱但不会消除效果的强度。因此会发生相互作用过程，相互作用过程的效果经受角度分布17。

图2示出了用于矩阵状或格子状构造材料18的真空处理系统中的根据本发明的示例性卷绕装置1，矩阵状或格子状构造材料18移动穿过卷绕装置1，即所谓的“卷到卷”系统1。柔性矩阵状或格子状构造材料18在两个辊组20和21或汽缸组20和21上在卷绕方向19上移动，该汽缸组20和21由若干较大的辊23或较大的汽缸23和若干较小的辊24或较小的汽缸24组成。使用较大的辊23和较小的辊24的该实施例是示例并且可以由本领域技术人员相应地调整。例如，可以只使用较小的辊24以节省空间。

在位于第一辊组20和第二辊组21之间的可排空处理室或其中不必布置辊或汽缸的可排空处理区域中的自由区域26中，柔性矩阵状或格子状构造材料18在彼此相反的方向上从彼此以小距离25叠加地移动。由两个相对的、相反方向的箭头标记的长度25的幅度表示在相反方向上传输的矩阵状或格子状构造材料18的最上层和最下层之间的距离25。

布置在自由区域26中的一个中的至少一个处理仪器11的至少一个可用通量13在彼此之间为小距离25的同时穿过自由区域26的它们的相反的平行传输期间穿过柔性衬底18(即柔性矩阵状或格子状构造材料18)的第一层和第二层，其中图2中未示出处理仪器11和可用通量13。在柔性衬底18的超过两个层彼此平行且紧密间隔开地同时传输穿过自由区域26的情况下，处理仪器11的可用通量13将穿过多于两层，即穿过柔性衬底18的所有层。

在相反方向上传输的矩阵状或格子状构造材料18的两个相邻层之间的这种小距离可以在约1mm和10mm之间的范围内，并且该距离特别地为2.5mm。

在第一辊组20中的五个较小的辊24和三个较大的辊23上以及在第二辊组21中的四个较小的辊24和四个较大的辊23上的柔性矩阵状或格子状构造材料18的传输通过在矩阵状或格子状构造材料18上示出的相应方向箭头示出于图2中。可以看出，例如，矩阵状或格子状构造材料18的第一(上)层在第一传输方向64上从第一辊组20的辊24a传输至第二辊组21的辊24b。在第二辊组21中，矩阵或格子形式的构造材料18经由小辊24b、大辊23a和小辊24c偏转，使得矩阵状或格子状构造材料18的第二层中的矩阵状或格子状构造材料18以与矩阵状或格子状构造材料18的第一层的近距离在第二传输方向65上从第二辊组21的辊24c传输至第一辊组20的辊24d。

矩阵状或格子状构造材料18在第一辊组20中经由小辊24d和大辊23b偏转，使得矩阵状或格子状构造材料18的第三层中的矩阵状或格子状构造材料18在与矩阵状或格子状构造材料18的第二层紧密间隔的同时，再次在第一传输方向64上从第一辊组20的大辊23b传输至第二辊组21的小辊24e。

在第二辊组21中，矩阵状或格子状构造材料18经由小辊24e和大辊23c偏转，使得矩阵状或格子状构造材料18的第四层中的矩阵状或格子状构造材料18在与矩阵状或格子状构造材料18的第三层紧密间隔的同时，再次在第二传输方向65上从第二辊组21的大辊23c传输至第一辊组20的小辊24f。

在第一辊组20中，矩阵或格子形式的构造材料18经由小辊24f、大辊23d和小辊24g偏转，使得矩阵或格子形式的构造材料18的第五层中的矩阵或格子形式的构造材料18以与矩阵或格子形式的构造材料18的第四层的近距离再次在第一传输方向64上从第一辊组20的小辊24g传输至第二辊组21的大辊23e。

在第二辊组21中，矩阵状或格子状构造材料18经由大辊23e和小辊24h偏转，使得与矩阵状或格子状构造材料18的第五层紧密间隔的矩阵状或格子状构造材料18的第六层中的矩阵状或格子状构造材料18再次在第二传输方向65上从第二辊组21的小辊24h传输至第一辊组20的小辊24i。

随后，将矩阵状或格子状构造材料18直接或通过另外的辊(未示出)在卷取模块39(未示出)的方向上传输，然后卷取模块39卷取矩阵状或格子状构造材料18。在图2的示例中，这样做的方式是，矩阵状或格子状构造材料18经由小辊24i和大辊23f偏转，并且传输至另一个大辊23g，而没有穿过自由区域26。

图2中未示出的展开模块38例如布置成使得矩阵状或格子状构造材料18直接或通过其他未示出的辊供给到第一小辊24a。

例如，在图2中进行六次使矩阵状或格子状构造材料18偏转和在第一组辊20和第二组辊21之间或反之亦然传输的过程，使得矩阵状或格子状构造材料18在六层中彼此紧密间隔地移动穿过处理室或处理区域中的自由区域26。从图2中未示出的处理仪器11或处理源11的角度来看，在矩阵状或格子状构造材料18的六层引导的方向上，结果是对应于图5f中的图示的视图。与处理源“看到”如图5a所示的矩阵状或格子状构造材料18的单层涂布相比，矩从处理源11的角度看，阵状或格子状构造材料18的空隙显著减少。需要注意的是，图5中的图的每个对应于快照，因此不能完全示出实际发生的过程的动态。

结果，更多的待涂布材料或用于对矩阵状或格子状构造材料18进行表面精加工的材料遇到六层矩阵状或格子状构造材料18，并且处理或涂布比仅使用一层矩阵状或格子状构造材料18更有效。

不打算限制于这个六层的数量。本领域技术人员可以对层数以及第一辊组20和第二辊组21进行相应的调整。

同样地，卷绕装置1不一定必须水平布置，也可以垂直设置或以倾斜角度布置。在这种情况下，将不再指代叠加层，而是指彼此相邻的矩阵状或格子状构造材料18的层。

尽管此处未示出，但合适的处理仪器11或处理源11可以布置在处理室的自由区域26中，该自由区域26用于例如将适于涂布的材料施加到矩阵状或格子状构造材料18。这样的处理仪器11可以布置在矩阵状或格子状构造材料18的紧密间隔的层的第一侧上(优选地彼此平行并且在相反方向上行进，例如在上面)和矩阵状或格子状构造材料18的第二侧上(例如，下面)的自由区域26中。待布置在自由区域26中的处理仪器11的数量也可以变化。

根据本发明的卷绕系统1适合于表面处理工艺，诸如用高能离子进行的离子处理，或者适合于引起矩阵状或格子状构造材料18的线状和节点状载体元件的包覆涂布的涂布工艺，并且可能对用于填充矩阵状或格子状构造材料18的空隙的涂布工艺有一些限制。

图3示意性地示出了满足本发明主题的另一示例性“卷到卷”系统2。该卷绕装置2由三个辊组20、21和22组成。卷绕系统2包括处理室中的两个自由区域，即第一自由区域27和第二自由区域28，矩阵状或格子状构造材料18穿过第一自由区域27和第二自由区域28来回传输数次。此处仅作为示例示出的屏蔽板29用于屏蔽通量Φ的任何影响，该通量Φ由处理仪器11中生成的场或电流引起，以保护将暴露于直接影响的辊或布置在矩阵状或格子状构造材料18后面的辊免受该影响。

矩阵状或格子状构造材料18在图2的自由区域26以及图3的第一自由区域27和第二自由区域28中来回传输数次。矩阵状或格子状构造材料18彼此以小距离25、布置在彼此之上、在相反方向上移动。因此，在图3中，矩阵状或格子状构造材料18在第一方向(诸如第一传输方向64')和第二传输方向65'(与第一传输方向64'相反)上传输穿过第一自由区域27。此外，图3中的矩阵状或格子状构造材料18在第三方向(诸如第三传输方向66)上和在第四传输方向67(与第三传输方向66相反)上传输穿过第二自由区域28。通过示例，如图3中所示，该过程可以用矩阵状或格子状构造材料18的其他层继续。在第一传输方向和第三传输方向(64'，66)与第二传输方向和第四传输方向(65'，67)之间提供角度，该角度可以在大于0度和小于180度之间的范围内。该角度特别地在30度和150度之间的范围内。在图3的示例中，选择约60度的角度。

在图3的示例中，矩阵状或格子状构造材料18首先在第一传输方向64'上从第一辊组20的大辊23a穿过第一自由区域27移动至第三辊组22的大辊23b。然后，矩阵状或格子状构造材料18在大辊23b上偏转并且在第三传输方向66上从第三辊组22穿过自由区域28传输至第二辊组21的另一个大辊23c。

柔性矩阵状或格子状构造材料18在大辊23c和小辊24a上偏转，并且在第四传输方向67上从第二辊组21的小辊24a第二次穿过第二自由区域28经由小辊24b传输至第三辊组22中的大辊23d。

在第三辊组22中，矩阵状或格子状构造材料18在大辊23d和小辊24c上偏转，并且在第二传输方向65'上从第三辊组22第二次穿过自由区域27传输至第一辊组20中的小辊24d。

在第一辊组21中，矩阵状或格子状构造材料18然后在小辊24d、大辊23e和小辊24e上偏转，并且在第一传输方向64'上第三次穿过自由区域27从第一辊组20再次沿传输至第三辊组22中的小辊24f。

在第三辊组22中，矩阵状或格子状构造材料18随后在小辊24f、大辊23f和另一个大辊23g和小辊24g上偏转，并且在第三传输方向66a上第三次穿过自由区域28从第三辊组22再次传输至第二辊组21中的小辊24h。

在第二辊组21中，矩阵状或格子状构造材料18随后在小辊24h、大辊23h和小辊24i上偏转，并且在第四传输方向67上第四次穿过自由区域28从第二辊组21再次传输至第三辊组22中的小辊24k。

在第三辊组22中，矩阵状或格子状构造材料18随后经由小辊24k、大辊23i和大辊23k和小辊24I偏转，并且在第二传输方向65'上第四次穿过自由区域27从第三辊组22再次传输至第一辊组20中的小辊24m。

在到达小辊24m之后，例如，预期的处理工艺(诸如涂层工艺)完成，并且矩阵状或格子状构造材料18传输至卷取模块39。在图3的示例中，该传输经由大辊23l、23m、23n和23o进行。

不旨在限制于四层的该数量。本领域技术人员可以相应地调整层数。

也未在图3中示出的展开模块38例如布置成使得矩阵状或格子状构造材料18直接或通过未示出的其他辊供给到第一大辊23a。

卷绕系统2也适合于表面处理工艺，诸如用高能离子进行的离子处理，但尤其适合于旨在填充矩阵状或格子状构造材料18中的空隙的涂布工艺。如果需要，它可以用于产生矩阵状或格子状构造材料18的线状和节点状载体元件的包覆涂层的涂布工艺。

图4示意性地示出了另外两个卷绕系统，即图4a中的“卷到卷”系统3和图4b中的“卷到卷”系统4。图4a示出了卷绕系统3，该卷绕系统3设计为使柔性矩阵状或格子状构造材料18在单个层中移动穿过辊系统。辊23布置成使得矩阵状或格子状构造材料18以锐角在每三个辊之间传输。相应地布置三个相应的辊23，两个相邻的上辊和两个相邻的上辊之间的下辊，或者两个相邻的下辊和两个相邻的下辊之间的上辊。在许多应用中，该角度≤10°。

图4b示意性地示出了“卷到卷”系统4，系统4由两组辊20、21组成。原则上，卷绕系统4能够实现四个自由区域，两个自由区域27和两个自由区域28，柔性衬底18或矩阵状或格子状构造材料18穿过四个自由区域来回传输一次。因此，矩阵状或格子状构造材料18在相反方向上在两层中移动穿过自由区域27和28。跨越在矩阵状或格子状构造材料18的层之间的角度再次非常尖锐。在许多应用中，这个角度≤10°。

图4a和图4b中的卷绕系统3和4适合于表面处理工艺，诸如用高能离子进行的离子处理，但尤其适合于覆盖矩阵状或格子状构造材料18的空隙的涂布工艺。跨越图4a中的三个辊23之间或图4b中的层之间的极锐角在对矩阵状或格子状构造材料18的线状和节点状载体元件的部分上(例如边缘上)的涂布工艺期间形成相对较薄的层，其中由处理仪器11发射的涂布材料的粒子的主要方向16表示锐角的一个腿，而移动的矩阵状或格子状构造材料18表示另一腿。

如果将它的传播场或电流作为通量Φ在矩阵状或格子状构造材料18的方向上的预定角度发射的处理仪器11位于矩阵状或格子状构造材料18的顶层之上或底层之下，与矩阵状或格子状构造材料18的固体元件的表面或近表面区域发生相互作用。由于矩阵状或格子状构造材料18的层的小表面积，固体元件在由层占据的总面积中的比例较小。由于矩阵状或格子状构造材料18的几层以小距离彼此抵抗移动的事实，卷绕材料中的有用地暴露于通量Φ的效果的固体的比例显著增加。

图5示意性地示出了由于矩阵状或格子状构造材料18的各个层的重叠而导致的固体的比例的增加。图5a示意性地示出了织物的层的部分，图中示出了大网眼平纹织物，并且对应于矩阵状或格子状构造材料18。图5b示出了两个这样的层时的快照，图5c为三层时，图5d为四层时，图5e为五层时，并且图5f为六层彼此堆叠布置时。可以清楚地看出，当观察矩阵状或格子状构造材料18的上侧或下侧时，彼此堆叠的层越多，由载体元件的固体表面部分填充的视场越多。在此基础上，可以使用在卷绕材料的固体部件上发生的表面处理工艺，因为由于矩阵状或格子状构造材料18的层形成，比穿过该区域传输矩阵状或格子状构造材料18的单层所需的更多的固体材料位于由生成期望的效果的处理仪器11产生的可用通量Φ_可用的空间区域中。

在图6中示意性地和以概括的形式示出了布置5对矩阵状或格子状构造材料18的效果，该布置5的核心是图2中的卷绕系统1，该矩阵状或格子状构造材料18移动穿过卷绕系统1。在大多数情况下，处理固体部件(即它们的表面或它们的近表面区域)的效果被认为是相等的。对图6中的矩阵状或格子状构造材料18的效果由两个相应的处理仪器11触发，它们用作通量30在位于辊系统20和21之间的自由区域26中传播的源。相应的扩展场或发射的相应电流(即通量Φ)撞击在矩阵状或格子状构造材料18上，并且作用在它的固体部件的表面或近表面区域上。两个处理仪器11中的一个布置在自由区域26中的矩阵状或格子状构造材料18的最上层之上，并且第二个布置在矩阵状或格子状构造材料18的最下层之下。通量30的扩展在矩阵状或格子状构造材料18的方向上从处理仪器11的通量出口表面12行进。禁止区14和可用通量13的区域被通量30穿透。由于通量30穿过的区域的范围以其主要方向16为特征(见图1)，因此效果发生在可以由通量自由撞击的矩阵状或格子状构造材料18的层的那些固体部件上。

另外，在矩阵状或格子状构建材料18的表面附近容易发生效果的角度分布。这增加了影响表面或近表面区域的效果。

从两个本质定性上不同的方向的在图1的图示中示意性地并且以抽象的形式示出的两个处理仪器11的使用旨在说明，在技术上和实践上实现对矩阵状或格子状构建材料18的效果是可能的，例如通过处理，从两个原则定性上不同的方向，即在传输的矩阵状或格子状构造材料18之上和下方。术语上侧和下侧原则上意味着存在两个相对侧，其中矩阵状或格子状构造材料18在二个维度上扩展。用作产生效果的通量的源的处理仪器11可以布置在两个空间或自由区域26中，该两个空间或自由区域26跨越由矩阵状或格子状构造材料18的蜿蜒移动形成的层封装件的相反方向。可以在两侧设置引起效果的通量的传播的主要方向16的不同角度，即从顶部和底部，见图1。通量也撞击在设置在顶层和底层之间的层的固体部分上。所采用的处理仪器11的设计(即主要方向16和处理工具11发射它们的场和/或电流的角度以及它们的数量)取决于相当多的不同条件和参数。其中有设计条件、特别处理工艺的要求、处理强度、防止相邻处理介质相互影响以及其他若干条件和参数。

图6中所示的布置5可以用于表面处理工艺，诸如构成卷绕材料的矩阵状或格子状构造材料18的清洁、蚀刻、化学反应过程，例如氧化、硝化或聚合。

如果要用待涂布的材料执行矩阵状或格子状构造材料18(即线状和节点状载体元件)的固体部件的包覆涂布，建议也使用具有图6所示的卷绕系统1的布置5。

这种处理介质11或处理仪器11是用于阴极溅射的装置，诸如平面磁控管、管状磁控管或溅射离子源，或热蒸发器单元，诸如电阻蒸发器、电子束蒸发器、电弧蒸发器或电弧蒸发装置、激光蒸发器等。为了保证线状和节点状载体元件的包覆涂布，必须选择合适的工作压力，工作压力一般在1×10^-3毫巴和5×10^-2毫巴之间的范围内。

应当注意，存在只能从下方向上发射它们的场或电流的处理仪器11。反过来，其他提供了能够在所有空间方向发送场的技术可能性。布置单元时必须考虑这些装置特定的条件。

图7中所示的布置6的核心元件又是来自图2的卷绕装置1。将参考图7描述影响矩阵状或格子状构造材料18的两个重要方面。

一方面，意图以示意性和抽象的方式示出，矩阵状或格子状构造材料18可以在非常特定的、固定的角度31(例如角度α)下受到影响。当确定角度α(即角度31)时，该角度31在通量的优选方向16(即主要方向16)和矩阵状或格子状构造材料18的层堆叠件的移动方向32的幅度之间，重要的是要注意矩阵状或格子状构造材料18在有用通量13的范围内移动。因此必须注意绝对确保矩阵状或格子状构造材料18不会与禁止区14的区域接触。

另一方面，旨在以示意和抽象的方式示出，在各种应用中可能出现的情况或技术要求，最初由处理仪器11引起的效果可能会受到第二效果的影响，因此，第二效果应称为次要效果，并且应理解为影响效果。将称为影响效果仪器的第二处理仪器33用作次要效果的影响源。该源发出第二场或第二电流，第二场或第二电流的通量34(即第二通量34)也产生效果。通常，该第二通量34同样从仪器33的通量出口表面出现以影响效果。这种发射的特定通量34的特定特征在于它与通量13相互作用，通量13的影响源是处理仪器11，并且通过它的通量出口表面12发射，既不产生效果，也不引起矩阵状或格子状构造材料18的固体部件的表面或近表面区域上的反应，意指预期效果，即处理。换言之，次要效果不提供影响矩阵状或格子状构造材料18的中间或直接贡献。基于与从处理仪器11发射的通量的相互作用，次要效果导致仅影响矩阵状或格子状构造材料18的固体部件的表面或近表面区域上的该效果。相互作用可以导致效果的强度增加、保持不变或降低。它取决于影响仪器33和相关通量34的参数。然而，两种通量13和34之间的相互作用总是会引起影响矩阵状或格子状构造材料18的固体部件的表面或接近表面的区域的效果具有另一个附加方向。通常，取决于第二通量34及其角度分布36，优选方向16及其角度分布17产生新的角度分布。

在极端情况下，新的角度分布中的次要方向35可以支配甚至完全掩盖主要方向16。这样，可以将效果在一定程度上带入层堆叠件的内部，即带入朝向彼此移动的矩阵状或格子状构造材料18的蜿蜒层的自由区域，并且影响位于层中的固体部件，能够相应地有效地处理矩阵状或格子状构造材料18。

如果通量是粒子流并且效果是层的堆积，然后是涂布工艺结果。涂层的组分，即要沉积的粒子，即使它们可以穿透到卷绕材料的蜿蜒移动层的自由空间中，也只能沉积在可能的那些点处。分离的粒子只能沉积或粘附在固体部件上。在特定情况下，这些是矩阵状或格子状构造材料18的线状或节点状载体元件，它也可以已经具有包覆涂层。这意味着只有为涂层产生的这部分粒子有助于涂布效果。所有其他粒子实际上都丢失了。为此，提出层移动和效果生成通量13的传播的主要方向之间的相对锐角α，以便具有尽可能多的可用于沉积的线状元件的面积。此外，一方面，各个层的叠加本质上构建了固体部件的壁，这极大地限制了涂层粒子穿透彼此抵靠移动的整个蜿蜒层，另一方面，极大地降低了用于涂布工艺的比例丢失。从而可以确保显著大比例的分离的粒子沉积在矩阵状或格子状构造材料18的空隙中。

在图7中，处理仪器11布置在以蜿蜒方式相对于彼此移动的矩阵状或格子状构造材料18的层之上。然而，它们也可以布置在下方。

特别地，如果具有或不具有包覆涂层的线状载体元件以及具有或不具有包覆涂层的其余载体元件，将用一种或多种材料涂布，使得覆盖矩阵状或格子状构造材料18的自由空间区域，而不必努力用用于涂布的物质覆盖填充整个体积，然后可以使用在图8中示意性和以抽象形式示出的布置7，特别是图8a所示的布置7a和图8b所示的布置7b。重要的是要注意这些图仅是说明性的，即它们仅示出了涂布的原理。使用的涂布单元的类型和数量以及它们的特定布置最终取决于相应的条件。例如，这样的条件是用于单元的安装的可用空间的大小、防止相互干扰、待涂布的矩阵状或格子状构造材料18的材料特性等。

使用图8中概述的原理涂布载体元件或包覆涂布的载体元件，特别是线状载体元件。如果以足够的强度进行涂布工艺，则形成可以延伸至下一个载体元件的薄层，而不需要接触或粘附到载体元件。然而，层的这种扩展导致了区域范围的影响，也就是说，跨越在载体元件之间或包覆涂布的载体元件之间的自由空间由该层覆盖而不填充整个体积。然而，形成了覆盖包覆层。在这种情况下，在形成多个覆盖层的情况下肯定会出现一系列，这些覆盖层整体覆盖自由空间并且因此导致自由空间区域的完全覆盖包覆。

当要在矩阵状或格子状构造材料18之上和/或下方产生层结构时，总是使用这种方法。这随后可以使用传统的涂布工艺来实施。

图9示意性地并且以抽象的形式示出了布置8，该布置8以图的形式示出了构建矩阵状或格子状构造材料18的层的方法。装置8被分成两部分。如图8中的布置7a所示，第一局部布置37a用于封闭用作柔性衬底18的矩阵状或格子状构造材料18的空隙，其中待涂布的材料呈覆盖物的形式。第二局部布置37b对应于利用处理仪器11的传统涂布结构，使得顶部和/或底侧可以基于与传统膜处理一起使用的技术在真空中用一种或多种物质涂布。

在图10中，图2中示意性示出的装置1集成在“卷到卷”真空处理系统9的简单实施例中。真空处理系统9具有模块化结构并且由展开模块38、处理模块40和卷取模块39组成。每个模块具有泵喷嘴41，泵喷嘴41允许各个室或模块用泵系统42排空，泵系统42可以由部件阀、高真空和前级泵的各种组合组成。相邻的模块的每个经由公共开口连接，该公共开口必须与外部密封，即与大气压力密封。因此，各个模块之间没有集成锁，使得室系统也可以仅使用一个泵系统排空，该泵系统由真空泵管道进料、阀、前级真空泵和高真空泵组成。

在图10a中，作为示例，四个处理仪器11安装在真空处理系统9的处理模块40中。在图10a的情况下，这些单元是离子源11，它发射线性加速的高能离子，用于处理以蜿蜒方式移动的矩阵状或格子状构造材料18的固体部件的表面。

在图10b和图10c中，作为示例，在真空处理系统9的处理模块40中使用两个处理仪器11。在这种情况下，这些单元是阴极溅射装置11，即在图10b中体现为平面磁控管11，在图10c中体现为管状磁控管11，它们用于在以蜿蜒的方式移动的矩阵状或格子状构造材料18之上和下方执行涂布工艺。这种布置用于实现对矩阵状或格子状构造材料18的线状和节点状载体元件的包覆涂布。引起包覆涂布的该工艺的其他必要条件(诸如工作压力的参数)将根据工艺要求进行设置。

在所有三个模块中，即在展开模块38中、在处理模块40中和在卷取模块39中，存在基本相当的压力条件，尽管每个室可以单独地泵出。压力范围由处理仪器11的要求确定。图10旨在反映用于矩阵状或格子状构造材料18的根据本发明的卷绕装置可能的处理选项的可变性，在这种情况下是来自图2的布置1。

图11示出了各种系统配置10a、10b和10c，它们都表示“卷到卷”真空处理系统，给出了各种示例来说明有效处理矩阵状或格子状构造材料18的原理。所有系统具有展开模块38和卷取模块39。所有模块都可以单独地排空，因为每个模块都具有泵连接41，在每种情况下都适合于特定功能的泵系统42连接到泵连接41。

图11a示意性地和以抽象的方式示出了“卷到卷”真空处理系统10a，用于用涂布材料对矩阵状或格子状构造材料18的空隙进行内部填充。

第一处理步骤发生在模块43中。该步骤体现了离子处理。通过采用离子源11，用高能离子处理矩阵状或格子状构造材料18的固体部件的表面。同时，可以发生活化工艺。为了能够将离子源11转移到它们的工作范围，在该模块中必须可设置在1*10^-04毫巴和8*10^-04毫巴之间的范围内的工作压力。然而，在展开模块38中，通常只需要10^-01毫巴或甚至更高的范围内的压力值，即，展开模块38和模块43之间的压力差非常大。出于这个原因，建议在两个模块之间安装可单独地泵出的锁定室51。锁定室51包含提供非常高水平的密封性的辊锁。结果，即使在大压力差的情况下，也可以在很大程度上防止从展开模块38到模块43的破坏性气体交换。

用于在模块43中传输矩阵状或格子状构造材料18的卷绕装置对应于图2中示意性示出的卷绕装置1。该装置能够使矩阵状或格子状构造材料18以蜿蜒的方式移动经过示例性的四个离子源11，即层堆叠件的上方两个和下方两个。

为了尽可能避免模块44和模块43之间的气体交换，在这两个室之间安装了锁定室52，这次以狭缝锁为例。两个模块之间的工作压力范围差小于模块43和展开模块38之间的差。因此，如图11a所示，在模块43和44之间使用狭缝锁52足够用于许多应用。图2中示意性示出的卷绕装置1也安装在模块44中。使用四个管状磁控管11，其中两个磁控管11布置在层堆叠件之上，两个磁控管11布置在层堆叠件下方，其中，以蜿蜒的方式传输矩阵状或格子状构造材料18，生成矩阵状或格子状构造材料18的线状和节点状载体元件的包覆涂层。由于磁控管可以在1*10^-03毫巴到约5*10^-01毫巴的范围内工作，因此可以很容易地理解为什么模块44和模块43之间的压力差低于展开模块38和模块43之间的压力差。

在模块45中，安装了真空电弧喷涂装置11作为处理仪器11。可以使用这些单元用材料填充由已经在模块44中包覆地涂布的矩阵状或格子状构造材料18的线状和节点状载体元件跨越的空隙。为此目的，矩阵状或格子状构造材料18经由图3中的卷绕装置2传输。在由三组辊20、21和22组成的卷绕装置2中，形成两个层堆叠件，其中矩阵状或格子状构造材料18以蜿蜒的方式移动经过处理介质。用于执行填充空隙的涂布工艺的真空电弧喷涂装置11布置在每个层侧上。除了主要方向(即由真空电弧喷涂装置11生成的粒子通量的优选方向)之外，使用第二处理介质33(在本申请中为气体喷嘴33)以生成另一个优选方向，称为次级方向，用于生成的粒子通量的部分。由于在矩阵状或格子状构造材料18的表面附近发生的其他相互作用过程，所生成的粒子经历额外的角度分布。基于涂布工艺期间发生的这些相互作用过程，用从真空电弧喷涂装置11喷涂的涂布材料填充空隙。

真空电弧喷涂的工作压力在10⁺⁰²毫巴和10⁺⁰³毫巴之间，这意味着操作涂布单元的模块44和模块45中的工作压力之间的差也非常大。出于这个原因，在模块44和模块45之间安装辊锁，卷绕材料穿过辊锁传输。在许多应用中，甚至需要带有辊锁的锁定室51，然后必须将锁定室51安装在这两个模块之间。

由于卷取模块39一般没有特别要求，它的压力范围可以适应模块45中的压力范围。因此，在这两个模块之间安装狭缝锁58就完全足够了。

图11b示意性地示出了“卷到卷”真空处理系统10，用于涂布矩阵状或格子状构造材料18的顶部和底部。在模块46中，图8示意性地示出的卷绕装置7a用一种或多种材料涂布特别地具有或不具有包覆涂层的线状载体元件以及剩余的载体元件，使得覆盖矩阵状或格子状构造材料18的空隙，而不必用用于涂布的物质填充整个体积。如果涂布工艺进行得足够强烈，则形成可以延伸到下一个载体元件的层。层的这种扩展表示了区域覆盖对象。这意味着，在载体元件之间或在覆盖有包覆涂层的载体元件之间打开的自由空间由该构建的层覆盖。由于这种涂布工艺通常需要大量的涂布材料，因此在例如集成模块47之前，依次布置模块46类型的若干模块是有意义的。

为了产生用于矩阵状或格子状构造材料18的覆盖包覆层，管状磁控管11用于图11b中的模块46中，管状磁控管11沉积或释放或溅射利用跨越相应的锐角沉积的材料，例如，通过移动矩阵状或格子状构造材料18和三个偏转辊，诸如左上偏转辊53、左下偏转辊54和右侧的相邻的上偏转辊55。图11b示意性地示出了五个示例性管状磁控管。磁控管以这样的方式布置，使得待溅射材料的粒子优选地基本上在由矩阵状或格子状构造材料18跨越的平面内移动。优选地≤10°的锐角确保：特别地，线状载体元件以这样的方式涂布，使得在粒子从处理仪器11(即从管状磁控管)撞击的方向上，在固体元件上构建层。取决于工作压力的幅度，该相应的薄沉积的层也可以具有相对显著的多孔结构，该相应的薄沉积的层的厚度由载体元件的宽度预先确定。通过足够强烈的涂布工艺，逐渐形成的层开始封闭由线状载体元件跨越的自由空间。该模块中的工作压力例如在从1*10^-03毫巴到约5*10^-01毫巴的范围内。

在模块47中，用相同的材料或另一种材料涂布载体元件之间的空隙。该材料通过使用电子束蒸发装置11进行蒸发，由此产生的材料的蒸发粒子穿透到涂有薄层或已经少量涂布的矩阵状或格子状构造材料18中。在任何情况下，蒸汽流59可以完全穿透蜿蜒的矩阵状或格子状构造材料18的概率非常小，基本上接近于零。

图2中的卷绕装置1再次用作用于卷绕材料的传输系统，它执行矩阵状或格子状构造材料18在相反方向上的蜿蜒移动，使得电子束蒸发装置11可以用于填充矩阵状或格子状构造材料18的空隙。电子束蒸发装置11布置在层的堆叠件下方，仅是因为电子束被射入涂布材料所在的坩埚中，其中涂布材料从坩埚中蒸发。因此，坩埚表示了实际源。所有附加装置未示出，例如空心阴极，空心阴极的等离子体激活蒸发云。

电子束汽化装置11操作的工作压力范围在10^-05毫巴和10^-01毫巴之间。取决于具体的压力范围，建议使用锁定室51(如图10b示意性所示)或其他连接装置(诸如辊锁或狭缝锁)。

在模块48中进行类似于传统膜涂布的涂布工艺。在相应的大涂布辊56上涂布矩阵状或格子状构造材料18的每侧。在图10b的情况下，要沉积的材料用电子束蒸发器装置11蒸发，在矩阵状或格子状构造材料18的两侧上构建由蒸发材料组成的层。模块48中的工作压力范围再次在10^-05毫巴和10^-01毫巴之间，但通常对应于模块47中相同材料蒸发时的普遍压力。因此，不需要在模块47和模块48之间安装执行锁定功能的连接装置。充其量，在某些情况下可能需要狭缝锁。

如果卷取模块39中的压力值比模块48高，建议安装锁定室51，如图10b所示，以便在模块48和卷取模块39之间获得干净的分离。如果卷取模块39中的压力大致对应于模块48中的压力，那么其他连接装置(诸如狭缝锁)就足够了。

为了能够用待涂布材料快速封闭空隙，为了能够用另一种材料进行表面覆盖涂布，可以使用图11c中示意性地示出的“卷到卷”真空处理系统10。

基于热喷涂方法借助真空电弧装置封闭矩阵状或格子状构造材料18的空隙。这个过程需要相应大量的待沉积材料。真空电弧热喷涂技术可实现满足此要求的沉积速率。然而，与其他真空涂布工艺相比，这种涂布工艺产生的层具有相当粗糙的结构，在涂布工艺期间形成的结构元件的尺寸达到10微米。然而，使用这种涂布技术，可以有利地相对快速地封闭空隙。

对于真空电弧喷涂工艺，矩阵状或格子状构造材料18经由图4b中使用的类型的卷绕装置4在模块49中传输。真空电弧喷涂的工作压力在10⁺⁰²毫巴和10⁺⁰³毫巴之间，并且因此与其他真空涂布工艺相比是非常高的范围。由于模块50中的工作压力通常在10^-05毫巴和10^-01毫巴之间的范围内，因此建议在模块49和模块50之间安装锁定室52作为辊锁，锁定室52可以单独地泵出。如图11c所示，如果在两个室中都需要相应大的气体吞吐量，则在大多数应用中仍然证明有必要将锁定室安装为狭缝锁。

当辊锁安装为锁定室52时，则可以在模块50中使用各种涂布方法，这些涂布方法也用于箔涂层。通过图11c中的示例，使用管状磁控管11涂布矩阵状或格子状构造材料18的两侧。

图12示出了矩阵状或格子状构造材料18的线状载体元件上的层状结构的两种变体的基本图。

在图12中，矩阵状或格子状构造材料18在左侧区域中单独示出，在该示例中，矩阵状或格子状构造材料18由所谓的纬纱60和经纱61组成，由它们构建表示一种形式的构造材料18的织物。

图12的中间部分示出了由未示出的处理仪器11从矩阵状或格子状构造材料18的一侧产生的效果。示出了处理仪器11的主要方向16。图12的中间部分示出了从顶部到底部的层的涂布或生长的进展。

可以看出，待涂布的材料开始构建或粘附到线状载体元件，该载体元件在此对应于矩阵状或格子状构造材料18的纬纱60。当涂布时间足够长时，由线状和节点状载体元件跨越的整个三维自由空间被覆盖，而在该工艺中没有填充空隙。

层62首先在线状载体元件上开始生长。层62的这种生长例如持续到三维空隙(例如机织织物中的网孔)被越来越多地覆盖。在中间图示的下部，生长以这样的方式进展，使得层62在矩阵状或格子状构造材料18的下一个线状载体元件上扩展，而不必与该附加载体元件接触。同时，在该附加载体元件上形成了单独的层62。如在图12的中间图示的下部可以看出，层62的重叠63出现，导致矩阵状或格子状构造材料18的空隙被覆盖。

图12的右侧部分示出了两个未示出的处理仪器11从矩阵状或格子状构造材料18上的两侧操作的效果。在每种情况下，例如从矩阵状或格子状构造材料18之上或下方，示出了两个处理仪器11的优选方向16。再次从顶部到底部示出了形成在线状载体元件上的层62的结构的进展。在这种情况下，在每个线状载体元件上形成两个层62，线状载体元件在此也对应于纬纱60。在层62的生长进展之后，该第二变体也产生覆盖物63。

这种具有覆盖物63的层结构可以例如利用根据图2、图3和图8的布置来实现。随后可以像膜一样使用现有技术已知的方法进一步处理或涂布以这种方式覆盖的矩阵状或格子状构造材料18。

图13示出了填充矩阵状或格子状构造材料18的空隙的示意图，在该示例中，矩阵状或格子状构造材料18由所谓的纬纱60和经纱61组成。因此，空隙是纬纱60和经纱61之间的区域。

例如，可以通过使用根据图7的布置来填充矩阵状或格子状构造材料18中的空隙。

如图7所示，这里使用两个处理仪器11。在这种情况下，第一处理仪器11负责实际效果，即材料沉积。在图7中具有附图标记33的第二处理仪器11旨在利用其次级通量34产生在次级方向35上对准的第二或次级效果，次级效果影响在由处理仪器11发射的粒子的第一优选方向16上扩展的可用通量13，即它们在矩阵状或格子状构造材料18上的沉积。

这种效果导致由处理仪器11发射的粒子连续填充由图13的矩阵状或格子状构造材料18的示例性线状和节点状载体元件跨越的空隙，其中沉积的粒子粘附到已经以不同角度附接的粒子或层。在这种情况下，也可以仅部分填充空隙，如图13中由矩阵状或格子状构造材料18的网格中心中的剩余空隙示出的。

参考列表

1 卷绕装置；“卷到卷”系统；

2 附加“卷到卷”系统；卷绕装置；卷绕系统

3 附加“卷到卷”系统；卷绕装置；卷绕系统

4 附加“卷到卷”系统；卷绕装置；卷绕系统

5 布置

6 布置

7 卷绕装置；布置

8 布置

9 “卷到卷”真空处理系统

10 系统配置；“卷到卷”真空处理系统

11 处理工具；处理源；

11a 离子源

11b 平面磁控管

11c 管状磁控管

11d 真空电弧喷涂装置

11e 电子束蒸发器

11f 电子束蒸发装置

12 通量出口表面

13 可用通量；空间范围

14 禁止区；禁止空间区域

15 包含的通量传播的范围的长度；通量扩展

16 主要方向；优选方向；通量传播

17 角度分布

18 柔性衬底；矩阵状或格子状构造材料

19 卷绕方向

20 第一辊组；辊系统；汽缸组

21 第二辊组；辊系统；汽缸组

22 第三辊组；辊系统；汽缸组

23 较大的汽缸；较大的辊

24 较小的汽缸；较小的辊

25 距离；小距离；长度的幅度

26 自由区域

27 第一自由区域

28 第二自由区域

29 屏蔽板

30 通量Φ的传播；通量Φ的扩展

31 角度

32 卷绕材料的层封装件的移动的方向的幅度

33 影响仪器；第二处理工具；气体喷嘴

34 次要通量；第二通量；通量

35 次要方向；第二方向；进一步优选的方向

36 独特的角度分布；角度分布

37a 第一子组件

37b 第二子组件

38 展开模块

39 卷取模块

40 处理模块

41 泵喷嘴

42 泵系统

43 离子处理模块

44 使用管状磁控管进行多层涂布的模块

45 使用真空电弧喷涂装置的涂布模块

46 使用管状磁控管以平坦角度进行涂布的模块

47 使用电子束蒸发器的多层涂布模块

48 使用电子束蒸发器的传统膜涂布布置的模块

49 使用真空电弧喷涂装置的涂布模块的变体

50 使用管状磁控管的传统膜涂布布置的模块

51 锁定室，辊锁

52 锁定室，狭缝锁

53 左上偏转辊

54 左下偏转辊

55 右侧的相邻上偏转辊

56 大涂布辊

57 辊锁

58 狭缝锁

59 蒸气通量

60 纬纱

61 经纱

62 层

63 重叠

64、64' 第一传输方向

65、65' 第二传输方向

66 第三传输方向

67 第四传输方向

权利要求书(按照条约第19条的修改)

1.一种用于处理柔性衬底(18)的方法，其中，用于用处理仪器(11)处理的柔性衬底(18)移动穿过真空处理系统的可排空处理区域，其特征在于，柔性衬底(18)是柔性矩阵状或格子状构造材料(18)，柔性衬底(18)的第一层在第一传输方向(64)上传输，并且柔性衬底(18)的至少一个第二层在与第一传输方向(64)相反的第二传输方向(65)上与柔性衬底(18)的第一层平行并且与柔性衬底(18)的第一层的距离在1mm和10mm之间特别地为2.5mm传输穿过可排空处理区域中的自由区域(26)，其中，至少一个处理仪器(11)的至少一个可用通量(13)同时穿透柔性衬底(18)的第一层和第二层，同时这些层在相反方向上传输穿过自由区域(26)。

2.一种用于处理柔性衬底(18)的方法，其中，用于用处理仪器(11)处理的柔性衬底(18)移动穿过真空处理系统的可排空处理区域，其特征在于，柔性衬底(18)是柔性矩阵状或格子状构造材料，柔性衬底(18)的第一层在第一传输方向(64')上传输穿过第一自由区域(27)，并且随后在与第一传输方向(64')不同的第三传输方向(66)上传输穿过第二自由区域(28)，使柔性衬底(18)偏转并且在与第三传输方向(66)相反的第四传输方向(67)上在平行于柔性衬底(18)的第一层的柔性衬底(18)的至少一个第二层中传输穿过第二自由区域(28)，并且随后在与第一传输方向(64')相反的第二传输方向(65')上传输穿过可排空处理区域中的第一自由区域(27)，其中，至少一个处理仪器(11)的至少一个可用通量(13)同时穿透承载柔性衬底(18)的第一层和第二层的柔性衬底(18)的第一层和第二层，同时这些层在相反方向上传输穿过第一自由区域(27)和/或在相反方向上传输穿过第二自由区域(28)。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使柔性衬底(18)偏转数次并且在柔性衬底(18)的至少四个、优选平行的层中传输穿过自由区域(26)或自由区域(27、28)，至少四个、优选平行的层之间的距离在1mm和10mm之间，特别地为2.5mm。

4.根据权利要求2或3中任一项所述的方法，其特征在于，在第一传输方向(64')和第三传输方向(66)之间以及在第二传输方向(65')和第四传输方向(67)之间所成的角度在大于0度和小于180度之间的范围内。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，由线状和节点状载体元件组成的构造材料(18)用作柔性衬底(18)。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，由线状和节点状载体元件组成的织物样构造材料(18)用作柔性衬底(18)，线状和节点状载体元件由纬纱(60)和经纱(61)形成。

7.根据权利要求5或6中任一项所述的方法，其特征在于，柔性衬底(18)提供有线状和节点状载体元件的包覆涂层，和/或填充柔性衬底(18)中的空隙。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，层(62)通过在柔性衬底(18)的方向上的处理仪器(11)的至少一侧上的通量传播(16)而生长，以这样的方式开始于柔性衬底(18)的纬纱(60)，使得覆盖表示纬纱(60)和经纱(61)之间的区域的柔性衬底(18)的空隙。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，通过使用与具有次级通量(34)的影响仪器(33)配合的具有可用通量(13)的处理仪器(11)填充表示纬纱(60)和经纱(61)之间的区域的柔性衬底(18)中的空隙。

10.一种用于实施用于处理柔性衬底的根据权利要求1所述的方法的真空处理系统，其中，真空处理系统包括至少一个展开模块(38)、卷取模块(39)以及布置在具有一个或多个处理仪器(11)的这些模块(38、39)之间的可排空处理区域，其特征在于，布置第一组辊(20)和第二组辊(21)，在每组辊(20、21)中，布置有用于使柔性衬底(18)偏转的具有较小直径的多个辊(24)和具有较大直径的多个辊(23)，具有至少一个处理仪器(11)的至少一个自由区域(26)布置在第一组辊(20)和第二组辊(21)之间，柔性衬底(18)在相反方向上传输穿过自由区域(26)而不改变方向，并且其中，辊组(20、21)布置成使得柔性衬底(18)在第一传输方向(64)和第二传输方向(65)上在至少两个、优选地相互平行的层中在相反方向上传输，至少两个、优选地相互平行的层之间的间距在1mm和10mm之间，特别地为2.5mm。

11.一种用于实施用于处理柔性衬底的根据权利要求2所述的方法的真空处理系统，真空处理系统具有至少一个展开模块(38)、卷取模块(39)以及布置在具有一个或多个处理仪器(11)的这些模块(38、39)之间的可排空处理区域，其特征在于，布置第一组辊(20)、第二组辊(21)和第三组辊(22)，第一自由区域(27)布置在第一组辊(20)和第三组辊(22)之间，并且第二自由区域(28)布置在第二组辊(21)和第三组辊(22)之间，其中，辊组(20、21、22)以这样的方式布置，使得柔性衬底(18)在相反方向上在至少两个、优选地相互平行的层中传输穿过第一自由区域(27)和第二自由区域(28)并且不改变方向，至少一个处理仪器(11)布置在自由区域(27、28)中，至少两个、优选地相互平行的层之间的间距在1mm和10mm之间，特别地为2.5mm。

12.根据权利要求10或11所述的真空处理系统，其特征在于，在自由区域(26、27、28)中，第一处理仪器(11)布置在间距在1mm和10mm之间特别地为2.5mm并且在相反方向上移动的柔性衬底(18)的优选地相互平行的层的第一侧之上，并且另外的第二处理仪器(11)布置在间距在1mm和10mm之间特别地为2.5mm并且在相反方向上移动的柔性衬底(18)的优选地相互平行的层的与第一侧相对的第二侧之上。

13.根据权利要求10至12中任一项所述的真空处理系统，其特征在于，在自由区域(26、27、28)中，第一处理仪器(11)布置在间距在1mm和10mm之间特别地为2.5mm并且在相反方向上移动的柔性衬底(18)的优选地相互平行的层的第一侧之上，并且另外的第二处理仪器(33)布置在间距在1mm和10mm之间特别地为2.5mm并且在相反方向上移动的柔性衬底(18)的优选地相互平行的层的同一侧之上，其中，第一处理仪器(11)具有相对于柔性衬底(18)的表面以角度α定向的优选方向(16)，并且第二处理仪器(33)具有相对于柔性衬底(18)的表面成与角度α不同的角度的优选方向(35)。

14.根据权利要求10至13中任一项所述的真空处理系统，其特征在于，处理仪器(11)具有离子源(11a)、平面磁控管(11b)、管状磁控管(11c)、真空电弧喷涂装置(11d)、电子束蒸发器(11e)、电子束蒸发装置(11f)或电弧蒸发装置。

Claims (15)

1.一种用于处理柔性衬底(18)的方法，其中，用于用处理仪器(11)处理的柔性衬底(18)移动穿过真空处理系统的可排空处理区域，其特征在于，柔性衬底(18)是柔性矩阵状或格子状构造材料(18)，柔性衬底(18)的第一层在第一传输方向(64)上传输，并且柔性衬底(18)的至少一个第二层在与第一传输方向(64)相反的第二传输方向(65)上与柔性衬底(18)的第一层平行并且紧密间隔地传输穿过可排空处理区域中的自由区域(26)，其中，至少一个处理仪器(11)的至少一个可用通量(13)同时穿透柔性衬底(18)的第一层和第二层，同时这些层在相反方向上传输穿过自由区域(26)。

2.一种用于处理柔性衬底(18)的方法，其中，用于用处理仪器(11)处理的柔性衬底(18)移动穿过真空处理系统的可排空处理区域，其特征在于，柔性衬底(18)是柔性矩阵状或格子状构造材料，柔性衬底(18)的第一层在第一传输方向(64')上传输穿过第一自由区域(27)，并且随后在与第一传输方向(64')不同的第三传输方向(66)上传输穿过第二自由区域(28)，使柔性衬底(18)偏转并且在与第三传输方向(66)相反的第四传输方向(67)上在平行于柔性衬底(18)的第一层的柔性衬底(18)的至少一个第二层中传输穿过第二自由区域(28)，并且随后在与第一传输方向(64')相反的第二传输方向(65')上传输穿过可排空处理区域中的第一自由区域(27)，其中，至少一个处理仪器(11)的至少一个可用通量(13)同时穿透承载柔性衬底(18)的第一层和第二层的柔性衬底(18)的第一层和第二层，同时这些层在相反方向上传输穿过第一自由区域(27)和/或在相反方向上传输穿过第二自由区域(28)。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使柔性衬底(18)偏转数次并且在柔性衬底(18)的至少四个紧密间隔的、优选平行的层中传输穿过自由区域(26)或自由区域(27、28)。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，柔性衬底(18)的紧密间隔的、优选平行的层的彼此之间的距离在1mm和10mm之间，特别地为2.5mm。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的方法，其特征在于，在第一传输方向(64')和第三传输方向(66)之间以及在第二传输方向(65')和第四传输方向(67)之间所成的角度在大于0度和小于180度之间的范围内。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，由线状和节点状载体元件组成的矩阵状或格子状构造材料(18)用作柔性衬底(18)，其中，这种构造材料(18)的特征在于它们的特别的机械特性，诸如它们的刚度或强度、它们的密度、它们的硬度或它们的耐磨性。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，由线状和节点状载体元件组成的织物样矩阵状或格子状构造材料(18)用作柔性衬底(18)，线状和节点状载体元件由纬纱(60)和经纱(61)形成。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其特征在于，柔性衬底(18)提供有线状和节点状载体元件的包覆涂层，和/或填充柔性衬底(18)中的空隙。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，层(62)通过在柔性衬底(18)的方向上的处理仪器(11)的至少一侧上的通量传播(16)而生长，以这样的方式开始于柔性衬底(18)的纬纱(60)，使得覆盖表示纬纱(60)和经纱(61)之间的区域的柔性衬底(18)的空隙。

10.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，通过使用与具有次级通量(34)的影响仪器(33)配合的具有可用通量(13)的处理仪器(11)填充表示纬纱(60)和经纱(61)之间的区域的柔性衬底(18)中的空隙。

11.一种用于实施用于处理柔性衬底的方法的真空处理系统，其中，真空处理系统包括至少一个展开模块(38)、卷取模块(39)以及布置在具有一个或多个处理仪器(11)的这些模块(38、39)之间的可排空处理区域，其特征在于，布置第一组辊(20)和第二组辊(21)，在每组辊(20、21)中，布置有用于使柔性衬底(18)偏转的具有较小直径的多个辊(24)和具有较大直径的多个辊(23)，具有至少一个处理仪器(11)的至少一个自由区域(26)布置在第一组辊(20)和第二组辊(21)之间，柔性衬底(18)在相反方向上传输穿过自由区域(26)而不改变方向，并且其中，辊组(20、21)布置成使得柔性衬底(18)在第一传输方向(64)和第二传输方向(65)上在优选地彼此平行布置的至少两个紧密间隔的层中在相反方向上传输。

12.一种用于实施用于处理柔性衬底的方法的真空处理系统，真空处理系统具有至少一个展开模块(38)、卷取模块(39)以及布置在具有一个或多个处理仪器(11)的这些模块(38、39)之间的可排空处理区域，其特征在于，布置第一组辊(20)、第二组辊(21)和第三组辊(22)，第一自由区域(27)布置在第一组辊(20)和第三组辊(22)之间，并且第二自由区域(28)布置在第二组辊(21)和第三组辊(22)之间，其中，辊组(20、21、22)以这样的方式布置，使得柔性衬底(18)在相反方向上在至少两个紧密间隔的、优选地相互平行的层中传输穿过第一自由区域(27)和第二自由区域(28)并且不改变方向，至少一个处理仪器(11)布置在自由区域(27、28)中。

13.根据权利要求11或12所述的真空处理系统，其特征在于，在自由区域(26、27、28)中，第一处理仪器(11)布置在相反方向上移动的柔性衬底(18)的紧密间隔的、优选地相互平行的层的第一侧之上，并且另外的第二处理仪器(11)布置在相反方向上移动的柔性衬底(18)的紧密间隔的、优选地相互平行的层的与第一侧相对的第二侧之上。

14.根据权利要求11至13中任一项所述的真空处理系统，其特征在于，在自由区域(26、27、28)中，第一处理仪器(11)布置在相反方向上移动的柔性衬底(18)的紧密间隔的、优选地相互平行的层的第一侧之上，并且另外的第二处理仪器(33)布置在相反方向上移动的柔性衬底(18)的紧密间隔的、优选地相互平行的层的同一侧之上，其中，第一处理仪器(11)具有相对于柔性衬底(18)的表面以角度α定向的优选方向(16)，并且第二处理仪器(33)具有相对于柔性衬底(18)的表面成与角度α不同的角度的优选方向(35)。

15.根据权利要求11至14中任一项所述的真空处理系统，其特征在于，处理仪器(11)具有离子源(11a)、平面磁控管(11b)、管状磁控管(11c)、真空电弧喷涂装置(11d)、电子束蒸发器(11e)、电子束蒸发装置(11f)或电弧蒸发装置。

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