CN114697413B - 显示组件及其制备方法、电子设备 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种显示组件及其制备方法、电子设备。其中，所述显示模组包括显示屏和盖板，所述显示屏具有相邻设置的显示区和黑边区；所述盖板覆盖于所述显示屏上，具有第一表面和第二表面，所述第一表面配置为靠近所述显示屏设置，所述第二表面配置为远离所述显示屏设置；其中，所述第二表面设有微纳纹理，所述微纳纹理在所述显示屏厚度方向的正投影与所述黑边区重合。通过上述方式，可减少电子设备显示屏的视觉黑边的尺寸，获得更大的视觉屏占比，提高产品的表现力。

Description

显示组件及其制备方法、电子设备
技术领域
本申请涉及电子设备的显示组件技术领域，特别是涉及一种显示组件及其制备方法、电子设备。
背景技术
为了防止电子产品屏幕从边缘漏光，同时遮蔽屏幕边缘的走线，往往需要在屏幕周围丝印一圈黑色油墨，该区域称为BM区，俗称“黑边”。然而，黑边的存在对电子产品的外观表现力影响较大。
发明内容
本申请主要解决的技术问题是提供一种显示组件及其制备方法、电子设备，能够减小电子设备的视觉黑边，满足用户的使用需求。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种显示组件，所述显示组件包括显示屏和盖板，所述显示屏具有相邻设置的显示区和黑边区；所述盖板覆盖于所述显示屏上，具有第一表面和第二表面，所述第一表面配置为靠近所述显示屏设置，所述第二表面配置为远离所述显示屏设置；其中，所述第二表面设有微纳纹理，所述微纳纹理在所述显示屏厚度方向的正投影与所述黑边区重合。
为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显示组件的制备方法，包括：提供一显示屏，所述显示屏具有相邻设置的显示区和黑边区；提供一盖板，所述盖板具有第一表面和第二表面；在所述第二表面上与所述黑边区对应的位置处形成微纳纹理，以及将所述盖板覆盖在所述显示屏上，以使所述第一表面与所述显示屏接触，并使所述微纳纹理覆盖所述黑边区。
为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种电子设备，包括壳体和显示组件，所述壳体定义有容置空间；所述显示组件容置于所述容置空间内；其中，所述显示组件为上述显示组件，且所述显示组件与所述壳体连接。
本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供的显示组件包括显示屏和盖板，所述显示屏具有相邻设置的显示区和黑边区；所述盖板覆盖于所述显示屏上，具有第一表面和第二表面，所述第一表面配置为靠近所述显示屏设置，所述第二表面配置为远离所述显示屏设置；其中，所述第二表面设有微纳纹理，所述微纳纹理在所述显示屏厚度方向的正投影与所述黑边区重合。由于盖板包括微纳纹理，且微纳纹理所述显示屏厚度方向的正投影与所述黑边区重合，可使显示屏发出的光通过所述微纳纹理折射进入人的眼睛，使得人的眼睛能够在黑边区能够看见显示屏影像的虚像，进而在视觉效果上获得更大的屏占比以及更小的黑边，提高产品的表现力，且由于本发明直接在盖板的第二表面上对应黑边区的位置处设置微纳纹理，因此能够在不增加盖板厚度的情况下降低视觉可见黑边，使得手机更加轻薄。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请一实施例提供的电子设备的后视图。
图2是本申请一实施例提供的电子设备的正视图。
图3是图2中显示组件沿线III-III的剖面示意图。
图4是本申请提供的显示组件能够减小视觉屏占比的原理图。
图5是本申请另一实施例提供的盖板的结构示意图。
图6是本申请另一实施例提供的盖板的结构示意图。
图7是本申请另一实施例提供的盖板的结构示意图。
图8是本申请另一实施例提供的盖板的结构示意图。
图9是本申请另一实施例提供的盖板的结构示意图。
图10是本申请另一实施例提供的盖板的结构示意图。
图11是本申请另一实施例提供的盖板的制备方法的流程示意图。
图12是图11中步骤S30的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请的描述中，需要理解的是，属于“中心”、“中间”“内”、“外”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位和位置关系，仅仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或者两个以上，除非另有明确具体的限定。
本申请提供一种电子设备1，请参阅图1-图2，在一实施方式中，电子设备1包括显示组件10及壳体20。其中，该壳体20定义有容置空间21，显示组件10设置于该容置空间21内，该壳体20能够起到保护显示组件10(例如，主板、电池等)的作用。
具体地，电子设备1可以是手机、平板电脑、笔记本电脑、智能手环或智能手表等，此处不做限定。
同时参考图3和图4，在一实施例中，显示组件10包括盖板11和显示屏12，盖板11覆盖于显示屏12上，显示屏12至少部分收容于容置空间21内，且盖板11与壳体20固连接。在一实施例中，显示屏12具有相邻设置的显示区121和黑边区(Black Matrix，BM区)123，显示区121可用于显示信息，并可为用户提供交互界面。需要说明的是，这里的黑边区123是指物理黑边区，即设置油墨的区域，用于防止电子设备显示屏从边缘漏光，同时遮蔽显示屏边缘的走线。在一实施例中，显示屏12采用LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示)屏用于显示信息，LCD屏可以为TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)屏幕或IPS(In-PlaneSwitching，平面转换)屏幕或SLCD(Splice Liquid Crystal Display，拼接专用液晶显示)屏幕。
在一实施方式中，盖板11具有第一表面111和第二表面112。其中，第一表面111配置为靠近显示屏12设置；第二表面112配置为远离显示屏12设置。
其中，盖板11的材质为玻璃、陶瓷或塑胶，本申请一些实施例中，盖板11的材质为玻璃。一些实施例中，盖板11的厚度为0.6～1.0mm，例如0.6mm，0.62mm，0.65mm，0.68mm，0.7mm，0.72mm，0.75mm，0.78mm，0.8mm，0.82mm，0.85mm，0.88mm，0.9mm，0.92mm，0.95mm，0.98mm或1.0mm，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。厚度是指物体相对的两个表面之间的具体，盖板11的厚度为第一表面111与第二表面112之间的距离。本申请中盖板11的厚度比常规减小视觉黑边的电子设备中的盖板的厚度(通常为1.8mm左右)要小得多，从而可以满足电子设备轻薄化的要求。
第二表面112设有微纳纹理113，微纳纹理113在显示屏12的厚度方向的正投影与与黑边区123重合。
一些实施例中，请一并参见图4，微纳纹理113包括多个微纳米结构1130，且多个微纳米结构1130在显示屏12的厚度方向的正投影与与黑边区123重合，因而多个微纳米结构能够对显示屏12发出的光产生折射和反射，使得显示屏12发出的光能够通过多个微纳米结构1130折射进入人的眼睛，使人的眼睛能够在黑边区123能够看见显示屏12影像的虚像，进而在视觉效果上获得更大的屏占比以及更小的黑边，提高产品的表现力。多个微纳米结构1130尺寸和形状可以相同也可以不同，本申请一些实施例中多个微纳米结构1130尺寸和形状相同。
一些实施例中，参见图5-9，多个微纳米结构1130可以为设置在第二表面112的多个凹槽1131或多个凸起1134。一些实施例中，多个凹槽1131是盖板11自第二表面112向盖板11内部凹陷形成的。一些实施例中，多个微纳米结构1130为盖板11自第二表面112向远离第一表面111的方向凸起形成的。一些实施例中，微纳纹理113与盖板11可以为一体结构，一些实施例中，微纳纹理113与盖板11也可以为分体结构。每个微纳米结构1130(如凹槽1131或凸起1134)包括至少一表面1132。
表面1132可以为平面也可以为曲面。一些实施例中，参见图7，当表面1132为平面时，表面1132与第二表面112的夹角θ为钝角或锐角。一些实施例中，参见图8，当表面1132为曲面时，表面1132上至少一点的切平面与第二表面112的夹角为钝角或锐角。只有当表面1132与第二表面112的夹角θ为锐角或钝角时，显示屏12产生的光才能通过黑边区123对应的微纳米结构1130的表面1132进入人的眼睛，否则显示屏12产生的光直接反射到黑边区123导致该微纳纹理113的作用失效。每个微纳米结构1130沿盖板11厚度方向的截面的形状为三角形或弧形，或多个微纳米结构1130沿盖板11厚度方向的截面的形状为波浪线形，所述三角形可以为直角三角形，如图3所示。所述三角形也可以为普通三角形，如图5所示。。
每个凹槽1131的深度h1或凸起1134的高度h2大于等于0.76μm且小于等于300μm，具体地，一些实施例中，参见图5-6，每个凹槽1131的深度h1大于等于0.76μm且小于等于300μm，由于可见光的波长在380～760nm，当深度h1低于760nm，即0.76μm时，则部分可见光会直接通过多个微纳米结构1130，并不会产生明显的折射现象，导致微纳纹理113的作用失效；当深度h1大于300μm时，由于盖板11的厚度为0.6～1.0mm，则盖板11的结构强度会大幅度下降。
一些实施例中，每个凹槽1131的宽度d1大于等于7.6μm且小于等于300μm，当宽度d1小于7.6μm，即小于10倍可见光波长时，多个微纳米结构1130会产生衍射光栅效应，导致折射出的光出现彩色条纹，影响外观效果，当每个凹槽1131的宽度d1大于300μm时，则盖板11的结构强度会大幅度下降。
一些实施例中，参见图9，每个凸起1134的高度h2大于等于0.76μm且小于等于300μm。由于可见光的波长在380～760nm，当高度h2低于760nm，即0.76μm时，则部分可见光会直接通过多个微纳米结构1130，并不会产生明显的折射现象，导致微纳纹理113的作用失效；当高度h2大于300μm时，由于盖板11的厚度为为0.6～1.0mm，则盖板11的结构强度会大幅度下降。
一些实施例中，每个凸起1134的宽度d2大于等于7.6μm且小于等于300μm。当宽度d2小于7.6μm，即小于10倍可见光波长时，多个微纳米结构1130会产生衍射光栅效应，导致折射出的光出现彩色条纹，影响外观效果，当每个凸起1134的宽度d2大于300μm时，则盖板11的结构强度会大幅度下降。
此外，波浪线形微纳纹理中的每个微纳米结构1130(如凹槽1131或凸起1134)的过渡角R的取值应大于0.76μm，可见光的波长在380～760nm，当R1角低于760nm时，则部分可见光会直接通过多个微纳米结构1130，并不会产生明显的折射现象，导致微纳纹理113失效。
一些实施例中，参见图10，显示模组10可进一步包括保护层116，所述保护层116至少设置于微纳纹理113远离第一表面111的一侧，用于保护微纳纹理113。
本申请还提供上述显示组件的制备方法。请参阅图11，在一实施方式中，该显示组件制备方法可以包括如下步骤。
步骤S10：提供一显示屏，显示屏具有相邻设置的显示区和黑边区。
步骤S20：提供一盖板，盖板具有第一表面和第二表面。
其中，第一表面配置为靠近显示屏设置，第二表面配置为远离显示屏设置。
具体地，盖板的材质可为玻璃、陶瓷或塑胶，本申请一些实施例中，盖板的材质为玻璃。盖板11的厚度为0.6～1.0mm，本申请一些实施例中，盖板的厚度为0.8mm，可以满足电子设备轻薄化的要求。
步骤S30：在第二表面上与黑边区对应的位置处形成微纳纹理。
这里的“对应”是指微纳纹理在显示屏厚度方向的正投影与黑边区重合。其中，形成微纳纹理的方式不限可以为蚀刻、镭雕、喷涂、压印、贴膜或沉积等。一些实施例中，形成微纳纹理的方式为蚀刻的方式，通过该方法形成的微纳纹理结构可控、且操作简单。
具体地，一些实施例中，参阅图12，通过蚀刻方法形成微纳纹理的方法包括：
步骤S31：在第二表面均匀涂覆一层光刻胶。
步骤S32：将光刻胶制作成预设的微纳结构。
具体地，可以通过灰度曝光显影或者光刻的方式将光刻胶制作成预设的微纳结构，预设的微纳结构可以设置在黑边区对应的位置，使部分第二表面通过光刻胶的预设的微纳结构暴露出来。另一些实施例中，除了部分第二表面通过所述光刻胶的预设的微纳结构暴露出来，还可以将显示区上的光刻胶去除，使对应显示区的第二表面暴露出来。
步骤S33：对盖板及光刻胶进行蚀刻。
可以通过刻蚀剂对盖板及光刻胶进行蚀刻，其中刻蚀剂可以根据光刻胶的材质和盖板的材质进行选择，本申请一些实施例中，刻蚀剂为氢氟酸和硝酸的混合物。刻蚀剂可刻蚀通过光刻胶的微纳结构暴露的盖板，从而可在盖板的第二表面制备微纳纹理，微纳纹理包括多个微纳米结构。
当部分第二表面仅仅通过光刻胶的预设的微纳结构暴露出来时，通过刻蚀剂刻蚀制得的多个微纳米结构为多个凹槽。一些实施例中，每个凹槽的深度大于等于0.76μm且小于等于300μm，宽度大于等于7.6μm且小于等于300μm。
每个凹槽包括至少一表面。该表面可以为平面也可以为曲面。当该表面为平面时，该表面与第二表面的夹角为钝角或锐角。当该表面为曲面时，该表面上至少一点的切平面与第二表面的夹角为钝角或锐角。每个凹槽沿盖板厚度方向的截面的形状为三角形或弧形，或多个凹槽沿盖板厚度方向的截面的形状为波浪线形波浪线形，其中波浪线形微纳纹理中的每个凹槽的过渡R角的取值应大于0.76μm。
当部分第二表面通过光刻胶的预设的微纳结构暴露出来以及对应显示区的区域暴露出来时，通过刻蚀剂刻蚀制得的多个微纳米结构为多个凸起。一些实施例中，每个凸起的高度大于等于0.76μm且小于等于300μm，宽度大于等于7.6μm且小于等于300μm。每个凸起包括至少一表面。该表面可以为平面也可以为曲面。当该表面为平面时，该表面与第二表面的夹角为钝角或锐角。当该表面为曲面时，该表面上至少一点的切平面与第二表面的夹角为钝角或锐角。凸起沿盖板厚度方向的截面的形状为三角形或弧形，或多个凸起沿盖板厚度方向的截面的形状为波浪线形，其中波浪线形微纳纹理中的每个凸起的过渡R角的取值应大于0.76μm。
此外，还可以通过激光雕刻、镀膜、喷涂或贴膜片的方式制备多个凸起。
所述方法还可以进一步包括至少在微纳纹理远离第一表面的一侧形成保护层。
保护层用于保护微纳纹理，防止由于摩擦、撞击等原因损坏微纳纹理使该微纳纹理的作用失效。保护层的材质可为二氧化硅等硬质材料也可为透明的聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene glycolterephthalate，简称PET)等软质材料，PET在较宽的温度范围内具有优良的物理机械性能，长期使用温度可达120℃，电绝缘性优良，甚至在高温高频下，其电性能仍较好，抗蠕变性，耐疲劳性，耐摩擦性、尺寸稳定性都很好。
步骤S40：将盖板覆盖在显示屏上，以使第一表面与显示屏接触，并使微纳纹理覆盖黑边区。
上述本实施方式中并不限定各步骤的顺序，在实际应用时，可根据产品结构等需求选择合适的顺序制作。
通过上述实施例，可以减少电子设备显示屏的视觉黑边的尺寸，获得更大的视觉屏占比，提高产品的表现力，且本发明能够在不增加盖板厚度的情况下降低视觉可见黑边，使得手机更加轻薄。
需要指出的是，本申请上述盖板组件的制备方法能够用于制作上述显示组件实施方式中的显示组件，该制备方法中所涉及到的各层结构的位置、材质、尺寸、功能等可与本申请上述显示组件的实施方式中对应相同，相关详细内容请参阅上述实施方式，此处不再赘述。
以上仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (11)

1.一种显示组件，其特征在于，包括：
显示屏，具有相邻设置的显示区和黑边区；
盖板，覆盖于所述显示屏上，具有第一表面和第二表面，所述第一表面配置为靠近所述显示屏设置，所述第二表面配置为远离所述显示屏设置；
其中，所述第二表面设有微纳纹理，所述微纳纹理在所述显示屏厚度方向的正投影与所述黑边区重合；所述微纳纹理与所述盖板为一体结构，所述微纳纹理包括多个微纳米结构，所述多个微纳米结构能够对所述显示屏发出的光产生折射和反射以减小视觉黑边；
所述多个微纳米结构为设置在所述第二表面的多个凹槽或多个凸起；
每个微纳米结构包括至少一表面，所述表面为平面或曲面；
当所述表面为平面时，所述表面与所述第二表面的夹角为钝角或锐角；
当所述表面为曲面时，所述表面上至少一点的切平面与所述第二表面的夹角为钝角或锐角。
2.根据权利要求1所述的显示组件，其特征在于，所述盖板的材质为玻璃、陶瓷或塑胶，其中，所述盖板的厚度为0.6~1.0mm。
3.根据权利要求1所述的显示组件，其特征在于，每个微纳米结构的宽度大于等于7.6μm且小于等于300μm，所述凹槽的深度或所述凸起的高度大于等于0.76μm且小于等于300μm。
4.根据权利要求1所述的显示组件，其特征在于，每个微纳米结构沿所述盖板厚度方向的截面的形状为三角形或弧形，或所述多个微纳米结构沿所述盖板厚度方向的截面的形状为波浪线形，其中波浪线形微纳纹理中的每个微纳米结构的过渡R角的取值大于0.76μm。
5.根据权利要求1所述的显示组件，其特征在于，进一步包括一保护层至少设置于所述微纳纹理远离所述第一表面的一侧，用于保护所述微纳纹理。
6.一种显示组件的制备方法，其特征在于，包括：
提供一显示屏，所述显示屏具有相邻设置的显示区和黑边区；
提供一盖板，所述盖板具有第一表面和第二表面；
在所述第二表面上与所述黑边区对应的位置处形成微纳纹理；以及
将所述盖板覆盖在所述显示屏上，以使所述第一表面与所述显示屏接触，并使所述微纳纹理覆盖所述黑边区；所述微纳纹理与所述盖板为一体结构，所述微纳纹理包括多个微纳米结构，所述多个微纳米结构能够对所述显示屏发出的光产生折射和反射以减小视觉黑边；
所述多个微纳米结构为设置在所述第二表面的多个凹槽或多个凸起；
每个微纳米结构包括至少一表面，所述表面为平面或曲面；
当所述表面为平面时，所述表面与所述第二表面的夹角为钝角或锐角；
当所述表面为曲面时，所述表面上至少一点的切平面与所述第二表面的夹角为钝角或锐角。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第二表面上与所述黑边区对应的位置处形成微纳纹理的步骤中，通过蚀刻、镭雕、喷涂、压印、镀膜、贴膜或沉积的方式在所述第二表面形成所述微纳纹理。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第二表面上与所述黑边区对应的位置处形成微纳纹理的步骤进一步包括：
在所述第二表面均匀涂覆一层光刻胶；
将光刻胶制作成预设的微纳结构；以及
对所述盖板及光刻胶进行蚀刻。
9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，每个微纳米结构的宽度大于等于7.6μm且小于等于300μm，所述凹槽的深度或所述凸起的高度大于等于0.76μm且小于等于300μm。
10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述微纳米结构沿所述盖板厚度方向的截面的形状为三角形或弧形，或所述多个微纳米沿所述盖板厚度方向的截面的形状为波浪线形，其中波浪线形微纳纹理中的每个微纳米结构的过渡R角的取值大于0.76μm。
11. 一种电子设备，其特征在于，包括：
壳体，定义有容置空间；以及
显示组件，容置于所述容置空间内；
其中，所述显示组件为权利要求1-5任意一项所述的显示组件，且所述显示组件与所述壳体连接。
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