CN114618828A - 一种石英晶片清洗烘干系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种石英晶片清洗烘干系统，包括清洗装置，用于清洗石英晶片，所述清洗装置包括：壳体；进料口以及出料口，分别设置在所述壳体的两侧上；提篮，用于装载石英晶片，设置在所述壳体内；夹具，用于夹取所述提篮，活动设置在所述壳体内；烘干装置，用于烘干清洗后的石英晶片，所述烘干装置包括：炉体，其上设置有进口和出口，用于对石英晶片进行冷却；传送装置，用于将石英晶片从清洗装置传送至烘干装置中，其两端分别与所述出料口以及所述进口连接。本方案通过传送装置将清洗完毕的石英晶片从清洗装置传送到烘干装置中，避免石英晶片在转运的过程中受到二次污染。
Description
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种石英晶片清洗烘干系统。
背景技术
随着电子通信终端换代升级，对于压电石英器件也提出了更高的要求，尤其是在稳定性和小型化方面。其中，石英晶片是压电石英器件中非常重要的组件之一，在石英晶片的加工过程中涉及到清洗烘干工序，清洗好后的晶片通过镀膜形成电极电路，若石英晶片清洗烘干效果不佳将会直接影响到镀膜的效果，从而影响到后续成品质量。因此，清洗烘干工序对最终产品质量是决定性因素。
传统的石英晶片清洗烘干方法是先将晶片在镀膜夹具上排完片并清洗，然后人工将石英晶片放入烘箱进行烘干。从清洗完毕转运到烘箱的过程中，清洗干净后的晶片很容易受到二次污染，从而影响后续的成品质量。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种石英晶片清洗烘干系统，用于解决现有技术中清洗完毕的石英晶片转运的过程中受到污染的问题。
为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种石英晶片清洗烘干系统，包括用于清洗石英晶片的清洗装置、用于烘干清洗后的石英晶片的烘干装置以及用于将石英晶片从清洗装置传送至烘干装置中的传送装置，其中，
所述清洗装置包括：壳体，所述壳体的两侧分别设置进料口以及出料口；提篮，设置在所述壳体内，用于装载石英晶体；夹具，活动设置在所述壳体内，用于夹取所述提篮；清洗机构，设置在所述壳体内，包括从进料口向出料口方向依次设置的超声波碱洗槽、第一纯水喷淋漂洗槽、超声波酸洗槽、第二纯水喷淋漂洗槽、兆声波精洗槽以及异丙醇振洗槽；
所述烘干装置包括：炉体，其上设置有进口和出口，并且所述炉体连通有氮气源；传动机构，设置在所述炉体内，用于传送石英晶体；温度控制机构，设置在所述炉体内，用于加热和控制所述炉体内的温度；冷却机构，设置在所述温度控制机构与所述出口之间，用于对石英晶体进行冷却，所述冷却机构包括紫铜管水冷盘和铝翅片散热器，所述紫铜管水冷盘设置在所述铝翅片散热器上；气氛控制机构，设置在所述炉体内，用于调节炉体内氮气气压；至少一台热风风机，设置在所述炉体内，用于驱动炉体内气流循环；
所述传送装置的两端分别与所述出料口以及所述进口连接。
可选地，所述温度控制机构包括沿炉体长度方向排布的多个温区，每个所述温区内分别设置有温控器和热电偶，所述多个温区为从入口向出口依次设置的第一温区、第二温区、第三温区、第四温区以及第五温区，所述第一温区、第二温区、第三温区、第四温区以及第五温区内的温度依次为150±5℃、145±5℃、145±5℃、145±5℃以及150±5℃。
可选地，所述传动机构包括传动辊轮和网带，所述传动辊轮转动连接在所述炉体内，并且所述网带套设在所述传动辊轮上。
可选地，所述传送装置包括传送架、传送带以及传送轮，所述传送架的两端分别与所述清洗装置以及所述烘干装置连接，所述传送轮转动连接在所述传送架上，所述传送带套设在所述传送轮上。
可选地，所述气氛控制机构包括用于控制炉体内气压的减压调节阀门。
可选地，所述超声波碱洗槽内设置有超声波发生器、碱性溶液以及用于检测所述碱性溶液液面高度的高低液位保护机构。
可选地，所述第一纯水喷淋漂洗槽与第二纯水喷淋漂洗槽内分别设置有喷淋管。
可选地，所述超声波酸洗槽内设置有超声波发生器以及酸性溶液。
可选地，所述兆声波精洗槽内设置有兆声波发生器和喷淋管。
可选地，所述异丙醇振洗槽内设置有异丙醇溶液以及超声波发生器。
如上所述，本发明的一种石英晶片清洗烘干系统，具有以下有益效果：
1.本方案通过传送装置将清洗完毕的石英晶片从清洗装置传送到烘干装置中，避免石英晶片在转运的过程中受到二次污染。
2.本方案通过依次设置用于清洗表面污物的超声波碱洗槽、用于冲洗表面污物的第一纯水喷淋漂洗槽、用于中和碱性物质并进一步清洗的超声波酸洗槽、用于冲洗表面污物的第二纯水喷淋漂洗槽、用于清洗细小微粒的兆声波精洗槽以及用于清洗亲油性物质的异丙醇振洗槽，能够提高石英晶体清洗装置的清洗效果，并且清洗机构的各个清洗槽布置顺序使得其能够更有效的去除更多的污物并清洗掉污渍。
3.本方案中通过设置紫铜管水冷盘和铝翅片散热器的配合，使得经过热处理工艺后的石英晶片在出膛时冷却效果更好，降温更快，避免影响到后续的工艺流程。
附图说明
图1为本发明实施例的主视图；
图2为本发明实施例的清洗装置立体图；
图3为本发明实施例的清洗装置主视图；
图4为本发明实施例的烘干装置主视图。
零件标号说明
1-壳体；21-超声波碱洗槽；22-第一纯水喷淋漂洗槽；23-超声波酸洗槽；24-兆声波精洗槽；25-异丙醇振洗槽；26-第二纯水喷淋漂洗槽；3-夹爪；4-提篮；5-传送装置；6-炉体；61-进口；62-出口；63-第一温区；64-第二温区；65-第三温区；66-第四温区；67-第五温区；68-热风风机；69-网带；70-传动辊轮。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本发明可实施的范畴。
请参见图1至图4，本实施例提供一种石英晶片清洗烘干系统，清洗装置包括壳体1，壳体1的左右两侧分别开设有进料口和出料口。壳体1内设置有用于装载待清洗的石英晶体的提篮4和用于夹取提篮4的夹具，夹具包括夹爪3，夹具能够伸缩。在一个实施方式中，夹具水平滑动地设置在壳体1内；在另一个实施方式中，夹具转动地设置在壳体1内。在进料口与出料口之间设置有清洗机构，清洗机构包括从进料口向出料口方向依次设置的用于清洗表面污物的超声波碱洗槽21、用于冲洗表面污物的第一纯水喷淋漂洗槽22、用于中和碱性物质并进一步清洗的超声波酸洗槽23、用于冲洗表面污物的第二纯水喷淋漂洗槽26、用于清洗小于0.2μm的细小微粒的兆声波精洗槽24以及用于清洗亲油性物质的异丙醇振洗槽25。超声波碱洗槽21与进料口连通，异丙醇振洗槽25与出料口连通。固化炉包括炉体6，其上设置有进口61和出口62，并且所述炉体6与外部氮气源连通；传动机构，设置在所述炉6体内，用于传送石英晶片；温度控制机构，设置在所述炉体6内，用于加热和控制加热区的温度；冷却机构，设置在所述温度控制机构与所述出口62之间，用于对石英晶片进行冷却，所述冷却机构包括紫铜管水冷盘和铝翅片散热器，所述紫铜管水冷盘设置在所述铝翅片散热器上；气氛控制机构，设置在所述炉体6内，用于调节炉体内氮气气压；至少一台热风风机，设置在所述炉体6内，用于驱动炉体6内气流循环。炉体6内通入氮气的作用为防止石英晶片在烘烤过程中被氧化。传送装置5，用于将石英晶片从清洗装置传送至烘干装置中，其两端分别与所述清洗装置以及所述烘干装置连接。
进料口内和出料口内分别滑动地设置有拉门，当清洗装置需要进料时，进料口的拉门打开，其余时间进料口的拉门均处于关闭状态；当清洗装置需要出料时，出料口的拉门打开，其余时间出料口的拉门均处于关闭状态。超声波碱洗槽21与进料口之间设置有隔离密封门，异丙醇振洗槽25与出料口之间设置有隔离密封门。出料口的顶部安装用于隔离空气的高效层流罩以及去静电枪；进出料口均设置有同外部机台PLC联网的光电开关，进料时感应，出料时报警。石英晶体放置在提篮中，夹爪3夹取提篮依次在超声波碱洗槽21、第一纯水喷淋漂洗槽22、超声波酸洗槽23、第二纯水喷淋漂洗槽26、兆声波精洗槽24以及异丙醇振洗槽25中对石英晶体进行清洗。
超声波碱洗槽21用于清洗石英晶体上的酸性物质以及附着在表面的污物，超声波碱洗槽21内设置有进水口、排水口、超声波发生器、碱性溶液以及高低液位保护机构，高低液位保护机构包括高低液位报警仪，在超声波碱洗槽21内液位过高或过低时进行报警，壳体1内设置有总排水管道，排水口与总排水管道连通。碱性溶液包括氢氧化钠、乙二胺四乙酸、葡萄糖酸、乙醇以及去离子水组成的混合碱性溶液。
第一纯水喷淋漂洗槽22用于冲洗石英晶体上的表面污物以及超声波碱洗槽21未清洗掉的部分，第二纯水喷淋漂洗槽26用于进一步清洗石英晶体上的表面污物以及超声波酸洗槽23未清洗掉的部分，第一纯水喷淋漂洗槽22设置在超声波酸洗槽23之前，第二纯水喷淋漂洗槽26设置在兆声波精洗槽24之前。第一纯水喷淋漂洗槽22与第二纯水喷淋漂洗槽26内的顶部分别设置有双面的喷淋管，并且两侧的内侧壁上分别设置有两根喷淋管，喷淋管内设置有纯水。喷淋管的角度能够调整，水压也能够调整。第一纯水喷淋漂洗槽22与第二纯水喷淋漂洗槽26均能够快速冲走石英晶体表面的附着物，清洗剂等。第一纯水喷淋漂洗槽22与第二纯水喷淋漂洗槽26的槽面采用三面齿状溢流，能够快速排水，废水直接排入总排水管道。第一纯水喷淋漂洗槽22与第二纯水喷淋漂洗槽26内还分别设置有排污阀，壳体1内设置有排污管道，排污阀与排污管道连通。
超声波酸洗槽23用于中和石英晶体在超声波碱洗槽21内附着的碱性物质，并清洗石英晶体上的污物，超声波酸洗槽23内设置有进水口、排水口、超声波发生器、酸性溶液以及高低液位保护机构，高低液位保护机构包括高低液位报警仪，排水口与总排水管道连通。酸性溶液包括IPA(异丙醇)等弱酸溶液。
兆声波精洗槽24用于清洗小于0.2μm细小微粒，兆声波清洗可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子，起到超声波起不到的作用。兆声波精洗槽24内的上部设置有双面的喷淋管，并且其两侧的内侧壁上分别设置有两根喷淋管，喷淋管内设置有纯水，纯水的温度在55摄氏度至65摄氏度之间。喷淋管的角度能够调整，水压也能够调整。兆声波精洗槽24内也设置有进水口和排水口，排水口与总排水管道连通。槽面采用三面齿状溢流，能够快速排水。兆声波精洗槽24内还设置有排污阀，壳体1内设置有排污管道，排污阀与排污管道连通。
异丙醇振洗槽25内设置有异丙醇水溶液以及超声波发生器，异丙醇振洗槽25用于清洗亲油性物质并有脱水功能。异丙醇能和水自由混合，对亲油性物质的溶解力比乙醇强，异丙醇振洗槽25采用水夹套设计，避免超声波振动使异丙醇温度上升，降低异丙醇的挥发速度。异丙醇振洗槽25内还设置有废液抽取机、加液机及自来水箱，自来水箱设有进水口、排水口，流量可调，排水管道与设备总排水管相连。
炉体6的左侧顶部开设进口61，右侧顶部开设出口62，进口61与出口62连通，进口61的右侧设置过渡段，过渡段长0.35m，不布置加热元件。炉体6上还开设有排气口，需要排除废气时，可打开排气口进行排气。炉体6的内壁上铺设有轻质陶瓷纤维保温材料，热容小，升降温快，因此温度控制灵敏，并且有明显的节能效果。
传动机构包括传动辊轮70和网带69，传动辊轮70转动连接在炉体6内，网带69套设在传动辊轮70上。传动辊轮70包括主动轮、张紧轮、被动轮、拖带管、网带、配重轮以及导向轮，主动轮由直联式齿轮变频减速电机通过链传动驱动，主动轮、张紧轮、被动轮、拖带管、网带、配重轮以及导向轮之间通过网带69传动。主动轮设置在炉体6的右下角，主动轮表面增包橡胶，以提高摩擦力。张紧轮上设置调节螺栓，通过调节张紧轮上的调节螺栓来调节网带在主动轮上的包角及张紧力以达到网带69的有效运行，防止打滑现象发生。被动轮分别安装在进口61与出口62的平台上，通过调节轴承座边的调节螺栓可以调整网带69，避免网带69跑偏。张紧轮上设置有张紧块，张紧块上与网带之间安装有弹簧，有利于网带在运行中起到自适应作用，运行平稳可靠。在进口61与出口62的平台上被动轮的拖带架左右两侧分别设置导向轮，避免网带69跑偏。炉体6上还设置变频调速器进行速度调整，并通过炉体6上的数字仪表显示出网带速度，带速在5-50mm/min内连续可调。
温度控制机构包括第一温区63、第二温区64、第三温区65、第四温区66以及第五温区67，第一温区63、第二温区64、第三温区65、第四温区66以及第五温区67内分别设置有加热元件，第一温区、第二温区、第三温区、第四温区以及第五温区内的温度依次为150±5℃、145±5℃、145±5℃、145±5℃以及150±5℃，每个温区均设置一套独立的测温模块、控温模块及温度超温报警保护模块，分别用于检测和控制各自温区的温度；测温模块包括K型热电偶，控温模块包括专业数字多回路温控器，K型热电偶与专业数字多回路温控器电连接，具有自整定功能、偏差报警、高温上限报警，热电偶失效指示等多项报警保护等功能。当某个温区温度发生超温现象时，相应温区的温度超温报警保护模块立即发出声光报警信号，温度超温报警保护模块的面板上的对应超温报警信号灯点亮，温度超温报警保护模块的蜂鸣器发出报警声，温度超温报警保护模块同时切断对应的交流接触器。当出现报警时用户可根据产品工艺曲线，设置5个温区的温度和网带速度，实现平衡加热，以减少对电网和周边设备的干扰，并延长控制器件的寿命。
冷却系统包括紫铜管水冷盘和铝翅片散热器，紫铜管水冷盘设置在铝翅片散热器上，紫铜管的进水口直径10mm，靠近温度控制机构进水，靠近出口62出水，上下独立并联进水，1台磁力泵提供进水动力，为防止水套结垢，影响冷却效果，冷却水用去离子水或经处理的软水，亦可采用循环水。
气氛控制系统包括用于控制氮气压力的气压减压调节阀门，整个炉体通过外部氮气源通入氮气，可根据实际使用需要进行压力调节。全炉共有7路进气，分别由7路流量计引入。炉体6的进、出口各由1路气体流量计提供氮气，形成氮气气幕。炉体6由5路流量计提供5路氮气，每个温区1路氮气设置在各个温区底部进气。在实际使用时需要先将炉体有效容积内的空气通入氮气进行置换，并经过测量仪器检测炉内氧含量指标，保障进出口气幕正常，不受外界气流干扰，以防止可能存在空气对炉内的干扰。该炉共设置5点氧含量检测点，每温区中间1点。可以在实际使用过程中根据需要通过控制面板的氧含量分析仪器进行测量炉内氧含量具体数值，以方便工艺控制与调整。
热风风机68的数量有5台，分别设置在炉体6的底部，并且间距相等。每台热风风机68分别对应第一温区63、第二温区64、第三温区65、第四温区66以及第五温区67其中的一个。热风风机68能够强制炉体6内气流循环，起到导风、通风的作用，促使炉内温度，气氛均匀。
传送装置5包括传送架、传送带以及传送轮，传送架的左右两端分别与清洗装置的出料口底部以及烘干装置的进口61底部连接，传送轮转动连接在传送架的侧面上，传送带套设在传送轮上，传送轮转动以驱动传送带往复运动。清洗完毕的石英晶片从清洗装置的出料口经过传送带上传送到烘干装置的进口61中，避免被二次污染，并且简化了工艺流程。并且传送架上罩设能够将传送带完全覆盖住的防尘罩，避免灰尘落在传送带上，从而避免在传送带上传送的石英晶片受到灰尘等污染。
如上所述，本实施例的一种石英晶片清洗烘干系统，具有以下有益效果：
1.本方案通过传送装置将清洗完毕的石英晶片从清洗装置传送到烘干装置中，避免石英晶片在转运的过程中受到二次污染。
2.本方案通过依次设置用于清洗表面污物的超声波碱洗槽21、用于冲洗表面污物的第一纯水喷淋漂洗槽22、用于中和碱性物质并进一步清洗的超声波酸洗槽23、用于冲洗表面污物的第二纯水喷淋漂洗槽26、用于清洗细小微粒的兆声波精洗槽24以及用于清洗亲油性物质的异丙醇振洗槽25，能够提高石英晶片清洗装置的清洗效果，并且清洗机构的各个清洗槽布置顺序使得其能够更有效的去除更多的污物并清洗掉污渍。
3.本方案中通过设置紫铜管水冷盘和铝翅片散热器的配合，使得经过热处理工艺后的石英晶片在出膛时冷却效果更好，降温更快，避免影响到后续的工艺流程。
上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
Claims (10)
1.一种石英晶片清洗烘干系统，其特征在于，包括用于清洗石英晶片的清洗装置、用于烘干清洗后的石英晶片的烘干装置以及用于将石英晶片从清洗装置传送至烘干装置中的传送装置，其中，
所述清洗装置包括：壳体，所述壳体的两侧分别设置进料口以及出料口；提篮，设置在所述壳体内，用于装载石英晶体；夹具，活动设置在所述壳体内，用于夹取所述提篮；清洗机构，设置在所述壳体内，包括从进料口向出料口方向依次设置的超声波碱洗槽、第一纯水喷淋漂洗槽、超声波酸洗槽、第二纯水喷淋漂洗槽、兆声波精洗槽以及异丙醇振洗槽；
所述烘干装置包括：炉体，其上设置有进口和出口，并且所述炉体连通有氮气源；传动机构，设置在所述炉体内，用于传送石英晶体；温度控制机构，设置在所述炉体内，用于加热和控制所述炉体内的温度；冷却机构，设置在所述温度控制机构与所述出口之间，用于对石英晶体进行冷却，所述冷却机构包括紫铜管水冷盘和铝翅片散热器，所述紫铜管水冷盘设置在所述铝翅片散热器上；气氛控制机构，设置在所述炉体内，用于调节炉体内氮气气压；至少一台热风风机，设置在所述炉体内，用于驱动炉体内气流循环；
所述传送装置的两端分别与所述出料口以及所述进口连接。
2.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述温度控制机构包括沿炉体长度方向排布的多个温区，每个所述温区内分别设置有温控器和热电偶，所述多个温区为从入口向出口依次设置的第一温区、第二温区、第三温区、第四温区以及第五温区，所述第一温区、第二温区、第三温区、第四温区以及第五温区内的温度依次为150±5℃、145±5℃、145±5℃、145±5℃以及150±5℃。
3.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述传动机构包括传动辊轮和网带，所述传动辊轮转动连接在所述炉体内，并且所述网带套设在所述传动辊轮上。
4.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述传送装置包括传送架、传送带以及传送轮，所述传送架的两端分别与所述清洗装置以及所述烘干装置连接，所述传送轮转动连接在所述传送架上，所述传送带套设在所述传送轮上。
5.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述气氛控制机构包括用于控制炉体内气压的减压调节阀门。
6.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述超声波碱洗槽内设置有超声波发生器、碱性溶液以及用于检测所述碱性溶液液面高度的高低液位保护机构。
7.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述第一纯水喷淋漂洗槽与第二纯水喷淋漂洗槽内分别设置有喷淋管。
8.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述超声波酸洗槽内设置有超声波发生器以及酸性溶液。
9.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述兆声波精洗槽内设置有兆声波发生器和喷淋管。
10.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统，其特征在于：所述异丙醇振洗槽内设置有异丙醇溶液以及超声波发生器。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114951134A (zh) * | 2022-05-19 | 2022-08-30 | 江苏富乐德石英科技有限公司 | 一种石英制品全自动清洗设备及其使用方法 |
| CN115228835A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-10-25 | 上海图灵智算量子科技有限公司 | 晶圆清洁方法 |
| CN115228836A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-10-25 | 上海图灵智算量子科技有限公司 | 晶圆清洁装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003047925A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 処理装置 |
| CN102191988A (zh) * | 2010-03-18 | 2011-09-21 | 江苏恒力达机械有限公司 | 斯特林发动机冷却与散热装置 |
| CN204787753U (zh) * | 2015-05-22 | 2015-11-18 | 重庆鹰谷光电有限公司 | 半导体芯片烘干装置 |
| CN205701589U (zh) * | 2016-04-22 | 2016-11-23 | 开平帛汉电子有限公司 | 产品自动清洗线 |
| CN207779043U (zh) * | 2017-11-26 | 2018-08-28 | 珠海东精大电子科技有限公司 | 一种具有氮气保护功能的石英晶体谐振器烘干线 |
| CN209820039U (zh) * | 2019-03-26 | 2019-12-20 | 昆山基侑电子科技有限公司 | 一种晶圆烘干槽 |
-
2022
- 2022-03-24 CN CN202210301449.6A patent/CN114618828A/zh active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003047925A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 処理装置 |
| CN102191988A (zh) * | 2010-03-18 | 2011-09-21 | 江苏恒力达机械有限公司 | 斯特林发动机冷却与散热装置 |
| CN204787753U (zh) * | 2015-05-22 | 2015-11-18 | 重庆鹰谷光电有限公司 | 半导体芯片烘干装置 |
| CN205701589U (zh) * | 2016-04-22 | 2016-11-23 | 开平帛汉电子有限公司 | 产品自动清洗线 |
| CN207779043U (zh) * | 2017-11-26 | 2018-08-28 | 珠海东精大电子科技有限公司 | 一种具有氮气保护功能的石英晶体谐振器烘干线 |
| CN209820039U (zh) * | 2019-03-26 | 2019-12-20 | 昆山基侑电子科技有限公司 | 一种晶圆烘干槽 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114951134A (zh) * | 2022-05-19 | 2022-08-30 | 江苏富乐德石英科技有限公司 | 一种石英制品全自动清洗设备及其使用方法 |
| CN115228835A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-10-25 | 上海图灵智算量子科技有限公司 | 晶圆清洁方法 |
| CN115228836A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-10-25 | 上海图灵智算量子科技有限公司 | 晶圆清洁装置 |
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