CN114577121A - 基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,包括:光源、偏振调制器件、亚波长介质纳米线、介质基底、油镜物镜、偏振分离器件以及后焦面探测器;经过偏振调制器件调制的入射光与亚波长介质纳米线相互作用后能在介质基底激发定向传输的表面波,如玻璃表面的衰逝场和多层介质膜基底表面的布洛赫表面波。表面波具有以横向波矢大于k0在表面传播的同时向基底泄露的特点,在基片下用高数值孔径油镜物镜能收集到信号并在后焦面成像。偏振分离器件能更有效地将需要的偏振信号分离出来,减小背景噪声的同时提取散射信号。本发明具有与光源功率稳定性无关、分辨率高、能够多维信息提取和无损测量的优点。
Description
技术领域
本发明属于高灵敏度的形貌检测领域,特别涉及一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置。
背景技术
显微技术和传感技术是人们对微小物体形貌进行检测的最直接的手段,其中传统光学显微技术是所有显微技术中最直观也是最常用的一种显微技术,但受限于衍射极限,分辨率被限制在半波长附近,难以满足现今对分辨率的要求。近年来,一些超分辨光学显微技术被提出并走向成熟,包括表面波显微技术、共聚焦显微技术、受激辐射荧光淬灭显微技术、以及结构光显微技术;电子显微技术用电子替代光子实现高分辨率的成像,比如:透射电子显微镜、扫描电子显微镜;扫描探针显微技术依靠原子线度的极细针尖在样品表面上方扫描得到样品形貌,比如:原子力显微镜、近场光学显微镜。而传感技术通过对与微小物体尺度相关联的物理量进行测量来高精度的反演出微纳结构的形貌,比如:散射强度测量技术、散射方向测量技术以及共振光谱测量技术。这些技术在实际应用中针对性的解决了一些问题但都有其局限性,其存在的问题为:
1、分辨率不足。表面波显微镜和共聚焦显微技术对分辨率的提高较为有限,分辨率仍然限制在波长量级。
2、成本高。扫描探针显微技术和电子显微技术都需要造价昂贵的控制反馈系统作为支撑,而受激辐射荧光焠灭显微技术需要在共聚焦系统支撑下才能实现,同时对荧光分子,激发光源具有较高的要求。
3、样品有特殊要求。受激辐射荧光淬灭显微技术和结构光显微技术都需要荧光标记;扫描探针显微技术需要特制的探针进行点扫描且对粗糙度有要求;电子显微技术需要对不导电的样品进行镀膜等操作,会破坏样品。
4、传感技术的局限。传统的传感技术只能测量一个维度的变化,比如:正方形截面纳米线的边长。对于长方形的纳米线不能得到二维截面信息,宽度和高度。同时,散射强度测量技术的测量精度会受到光源功率波动的影响,共振光谱测量技术要求待测物体有明显的共振峰和谷分布。
发明内容
为克服传统形貌检测技术在分辨率较低、成本高、可能损坏样品以及维度信息受限的不足,本发明提出一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置。其结构简单,介质基底易于获得,可重复性高,能实现光学无损检测亚波长介质纳米线形貌的功能。
本发明实现上述目的的技术方案如下:
一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,包括光源、偏振调制器件、介质基底、油镜物镜、偏振分离器件以及后焦面探测器;其中,所述的偏振调制器件用于将准直后的激光调制为任意的入射偏振并保持功率稳定;由所述光源发出的激光经过偏振调制器件调制出有一定偏振角的线偏光照射在介质基底上的亚波长介质纳米线上,相互作用后激发所述介质基底所支持的表面波,经过散射耦合激发的表面波在表面传输的同时泄露进入油镜物镜后,被油镜物镜收集成像,由偏振分离器件分离提取出特定的偏振信号并成像于后焦面探测器处,从而得到一定偏振角所对应的后焦面像。
进一步地,表面波被所述亚波长介质纳米线散射激发。
进一步地,所述的偏振调制器件由一个线偏振片和半波片组成,线偏振片设置在半波片前方,有效地调制激发光的偏振方向,并保持强度不变。
进一步地,所述的偏振分离器件由涡旋半波片、第一透镜、第二透镜和偏振片按照先后顺序组成;由所述涡旋半波片来将s偏振和p偏振的光分离到平行或垂直于偏振片,同时第一透镜、第二透镜用于将油镜物镜的后焦面像成像到后焦面探测器上并记录。
进一步地,所述的半波片以0.5°为间隔进行旋转精细调制入射光偏振。
进一步地,所述的介质基底为玻璃基底或多层介质膜基底。
进一步地,所述玻璃基底为普通的盖玻片,所述多层介质膜基底是在玻璃上生长的交替的高折射率介质Si3N4和低折射率介质SiO2组成的多层薄膜。
本发明和现有的形貌检测技术相比的优势为:
1、与光源功率稳定性无关。由于与亚波长介质纳米线形貌相关的物理量都是通过比值获得的,与入射光源功率没有直接的数值关系,从而对光源稳定性没有特殊依赖关系。
2、分辨率高。该系统在宽度小于150 nm的亚波长介质纳米线能实现10 nm变化的分辨。
3、多维信息提取。该系统能获得亚波长介质纳米线的高度和宽度信息。
4、无损测量。整个测量过程不会对样品造成损伤。
附图说明
图1为本发明一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置示意图。
图2a,图2b,图2c,图2d为亚波长介质纳米线在两种介质基底的结构切面示意图以及最大定向表面波的后焦面像,其中,图2a、图2c为多层介质膜基底的结构切面示意图及最大定向表面波的实验后焦面像,图2b、图2d为玻璃基底的结构切面示意图及最大定向表面波的实验后焦面像。
图3a,图3b,图3c,图3d为利用本发明的检测装置在两种介质基底上激发最大定向传输的偏振角与纳米线宽度对应的曲线图,其中,图3a为多层介质膜基底上厚度为55 nm的曲线图,图3b为玻璃基底上厚度为55 nm的曲线图,图3c为s偏振入射多层介质膜基底的计算后焦面像,图3d为s偏振入射多层介质膜基底的不同高度对应的高度比值图。
附图标记含义为:1为光源;2为偏振调制器件;3为亚波长介质纳米线;4为介质基底;5为油镜物镜;6为偏振分离器件;7为后焦面探测器;8为线偏振片;9为半波片;10为涡旋半波片;11为第一透镜;12为第二透镜;13为偏振片;14为高折射率Si3N4层;15为低折射率SiO2层;16为有高折射率顶层的多层膜结构;17为玻璃。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。此外,下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
如图1、图2a、图2b、图2c、图2d所示,本发明的基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,包括光源1、偏振调制器件2、亚波长介质纳米线3、介质基底4、油镜物镜5、偏振分离器件6、后焦面探测器7、线偏振片8、半波片9、涡旋半波片10、第一透镜11、第二透镜12、偏振片13、高折射率Si3N4层14、低折射率SiO2层15、有高折射率顶层的多层膜结构16和玻璃17。其中,所述偏振调制器件2由线偏振片8和半波片9组成,且线偏振片8设置在半波片9前方。亚波长介质纳米线3置于介质基底4上方,而介质基底4是玻璃基底或者支持布洛赫表面波的多层介质膜基底。如图2b所示,玻璃基底由玻璃17组成。如图2a所示,多层介质膜基底由玻璃17和在玻璃17上方生长的有高折射率顶层的多层膜结构16构成,有高折射率顶层的多层膜结构16在玻璃17上方按照128 nm厚的高折射率Si3N4层14和135 nm厚的低折射率SiO2层15的顺序重复4次,并在最后一层低折射率SiO2层15上方额外生长一层24nm厚的高折射率Si3N4层14。偏振分离器件6由涡旋半波片10、第一透镜11、第二透镜12和偏振片13按照先后顺序组成。由光源1发出的激光经过偏振调制器件2调制出有一定偏振角的线偏光照射在介质基底4上的亚波长介质纳米线3上,相互作用后激发所述介质基底4所支持的表面波,经过散射耦合激发的表面波在表面传输的同时泄露进入油镜物镜5后,被油镜物镜5收集成像,由偏振分离器件6分离提取出特定的偏振信号并成像于后焦面探测器7处,从而得到一定偏振角β所对应的后焦面像。图2c、图2d是通过偏振调制器件2调节入射偏振角β,在两种介质基底中一系列后焦面像中定向性最大的后焦面像,称此时的入射偏振角为最大定向偏振角,其中,L表示在介质基底4表面向亚波长介质纳米线3左侧传输并泄露的表面波;R表示在介质基底4表面向亚波长介质纳米线3右侧传输并泄露的表面波。
其中,所述光源1提供632.8 nm的光束作为入射光。所述偏振调制器件2用于调制出任意偏振方向的线偏振光束,将准直后的激光调制为任意的入射偏振以及保持功率稳定。所述亚波长介质纳米线3是通过EBL(电子束光刻)、RIE(反应离子束刻蚀)等手段加工的亚波长Si3N4纳米线。所述介质基底4的多层介质膜基底是Si3N4与SiO2的介质交替层。所述油镜物镜5的数值孔径为1.49,用于收集传播光信号和表面波信号。所述偏振分离器件6用于将需要的偏振信号分离出来,减小背景噪声的同时提取散射信号。所述后焦面探测器7用于记录后焦面像。所述的偏振调制器件2由一个线偏振片8和半波片9组成,可以有效地调制激发光的偏振方向,并保持强度不变。所述的偏振分离器件6由涡旋半波片10来将s偏振和p偏振的光分离到平行或垂直于偏振片13,同时第一透镜11和第二透镜12用于将油镜物镜5的后焦面像成像到后焦面探测器7上并记录。所述的半波片9以0.5°为间隔进行旋转精细调制入射光偏振。所述介质基底4采用的玻璃基底为普通的盖玻片,采用的多层介质膜基底是在玻璃上生长的交替的高折射率介质Si3N4和低折射率介质SiO2组成的多层薄膜,为通过调整结构参数设计支持特定偏振、特定激发角的布洛赫表面波模式的结构。
通过在同一片基底上加工等高不等宽的系列亚波长介质纳米线,取出不同宽度纳米线对应的最大定向偏振角,能够绘制图3a,图3b,图3c,图3d所示的曲线图。其中,图3a是有高折射率顶层的多层介质膜结构16的实验结果(有误差的点线)与计算结果图(实线),图3b是玻璃基底的实验结果与计算结果图。这些曲线是明显单调的,且能区分宽度差为10 nm左右的亚波长介质纳米线。图3c是s偏振(β=0°)入射有高折射率顶层的多层膜结构16所对应的计算后焦面分布图,其中UAR表示在介质基底4表面亚波长介质纳米线3的散射光直接透射的部分。图3d是s偏振(β=0°)入射有高折射率顶层的多层膜结构16所对应的不同高度纳米线的高度比值图,从上到下对应的纳米线高度分别是20 nm,30 nm,40 nm,50 nm,55nm,60 nm,70 nm和80 nm。高度比值是图3c中L和R区域的总强度与UAR区域中的总强度比值,其中UAR区域只取数值孔径0.95~1的部分。因为纳米线的宽度和高度均小于成像系统的最小分辨率,所以本发明的检测装置不仅能通过亚波长介质纳米线3实现表面波的定向传输,也能通过表面波的定向性测量亚波长介质纳米线3的形貌。
本发明技术方案的原理为:在介质基底4表面存在沿表面传输的表面波,对应玻璃基底是衰逝场,对应多层介质膜基底是布洛赫表面波;偏振调制器件2调控的线偏振入射光与亚波长介质纳米线3相互作用,通过散射耦合能有效激发定向传输的表面波;直接透射的散射光信号和泄露的大波矢表面波信号都能被油镜物镜5收集;偏振分离器件6将s偏振的信号分离出来并将后焦面成像于后焦面探测器7的位置。同时,对于同一根纳米线,不同的线偏振光能激发不同定向性的表面波,通过人为调节入射光的线偏振状态能找到最大定向性的表面波。此外,因为不同宽度的亚波长介质纳米线3散射激发最大定向性表面波的线偏振角是不同的,所以可以通过旋转偏振角测量表面波定向性来获得亚波长介质纳米线3的宽度。由于s偏振的入射光对所有亚波长介质纳米线3都是激发对称传输的表面波,此时后焦面收集表面波的成分和横向波矢小于k0(k0为自由空间的传播波矢)的散射光成分的比值能直接反演出亚波长介质纳米线3的高度,从而使得本发明的检测装置实现了对亚波长介质纳米线3的无损、高精度、具有可重复性的远场光学检测方法。
本发明未详细阐述的部分属于本领域公知技术。本领域的技术人员容易理解,以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,其特征在于:包括光源(1)、偏振调制器件(2)、亚波长介质纳米线(3)、介质基底(4)、油镜物镜(5)、偏振分离器件(6)以及后焦面探测器(7);其中,所述的偏振调制器件(2)用于将准直后的激光调制为任意的入射偏振激光并保持功率稳定;由所述光源(1)发出的激光经过偏振调制器件(2)调制出有一定偏振角的线偏光照射在介质基底(4)上的亚波长介质纳米线(3)上,相互作用后激发所述介质基底(4)所支持的表面波,经过散射耦合激发的表面波在表面传输的同时泄露进入油镜物镜(5)后,被油镜物镜(5)收集成像,由偏振分离器件(6)分离提取出特定的偏振信号并成像于后焦面探测器(7)处,从而得到一定偏振角所对应的后焦面像。
2.根据权利要求1所述的一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,其特征在于:表面波被所述亚波长介质纳米线(3)散射激发。
3.根据权利要求1所述的一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,其特征在于:所述的偏振调制器件(2)由一个线偏振片(8)和半波片(9)组成,线偏振片(8)设置在半波片(9)前方,有效地调制激发光的偏振方向,并保持强度不变。
4.根据权利要求1所述的一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,其特征在于:所述的偏振分离器件(6)由涡旋半波片(10)、第一透镜(11)、第二透镜(12)和偏振片(13)按照先后顺序组成;由所述涡旋半波片(10)来将s偏振和p偏振的光分离到平行或垂直于偏振片(13),同时第一透镜(11)、第二透镜(12)用于将油镜物镜(5)的后焦面像成像到后焦面探测器(7)上并记录。
5.根据权利要求3所述的一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,其特征在于:所述的半波片(9)以0.5°为间隔进行旋转精细调制入射光偏振。
6.根据权利要求1所述的一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,其特征在于:所述的介质基底(4)为玻璃基底或多层介质膜基底。
7.根据权利要求6所述的一种基于表面波定向性检测亚波长介质纳米线形貌的检测装置,其特征在于:所述玻璃基底为普通的盖玻片,所述多层介质膜基底是在玻璃上生长的交替的高折射率介质Si3N4和低折射率介质SiO2组成的多层薄膜。
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