CN114420736A - 显示面板及显示装置 - Google Patents

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CN114420736A
CN114420736A CN202210072514.2A CN202210072514A CN114420736A CN 114420736 A CN114420736 A CN 114420736A CN 202210072514 A CN202210072514 A CN 202210072514A CN 114420736 A CN114420736 A CN 114420736A
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China
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grating
sub
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unit
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CN202210072514.2A
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毛大龙
赵剑
刘子正
陈鹏
陈卓
余豪
袁东旭
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BOE Technology Group Co Ltd
Wuhan BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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BOE Technology Group Co Ltd
Wuhan BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本申请涉及一种显示面板及显示装置的制备方法。所述显示面板,包括:衬底、像素单元与触控检测单元。像素单元与触控检测单元位于衬底上,触控检测单元包括多个第一子光栅检测单元与多个第二子光栅检测单元,第一子光栅检测单元沿第一方向延伸,第二子光栅检测单元沿第二方向延伸,第一方向与第二方向互相交叉,第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元均包括光栅结构,设置在像素单元的周侧,接收像素单元射向周侧的光,传输通道,接收经过光栅结构的光并向外传输。根据本申请的实施例,可以提高显示面板的触控灵敏度。

Description

显示面板及显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展,超高清显示和大尺寸触控显示技术不断发展融合提供了更好的显示面板产品。
然而,这些显示面板的触控灵敏度较差。
发明内容
本申请提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法,以解决相关技术中的不足。
根据本申请实施例的第一方面,提供一种显示面板,
包括衬底以及位于衬底上的像素单元和触控检测单元,所述触控检测单元包括多个第一子光栅检测单元与多个第二子光栅检测单元,所述第一子光栅检测单元沿第一方向延伸,第二子光栅检测单元沿第二方向延伸,所述第一方向与第二方向互相交叉,所述第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元均包括:
光栅结构,设置在所述像素单元的周侧,接收所述像素单元射向周侧的光;
传输通道,接收经过所述光栅结构的光并向外传输。
在一个实施例中,相邻的像素单元之间均设置有所述第一子光栅检测单元的一部分或所述第二子光栅检测单元的一部分。
在一个实施例中,所述显示面板还包括数据线与光栅扫描线,所述第一子光栅检测单元与所述第二子光栅检测单元在所述衬底上的投影位于所述数据线与所述光栅扫描线在所述衬底上的投影内。
在一个实施例中,所述第一子光栅检测单元中的光栅结构所允许经过的光的波长与所述第二子光栅检测单元中的光栅结构所允许经过的光的波长不同。
在一个实施例中,只有波长为500nm-800nm的光能够通过所述光栅结构。
在一个实施例中,所述第一子光栅检测单元与所述第二子光栅检测单元均还包括光栅支撑层与光栅衬底层,所述传输通道位于所述光栅衬底层与所述光栅支撑层之间,所述光栅结构位于所述光栅支撑层内;
所述传输通道的折射率大于所述光栅支撑层与所述光栅衬底层的折射率。
在一个实施例中,所述传输通道的表面上设置有多个斜面结构,所述多个斜面结构沿所述传输通道的长度方向间隔排列。
在一个实施例中,所述斜面结构包括三角形斜面结构或梯形斜面结构。
在一个实施例中,所述第一子光栅检测单元的光栅支撑层与所述第二子光栅检测单元的光栅支撑层位于同一层,所述第一子光栅检测单元的传输通道与所述第二子光栅检测单元的传输通道位于同一层,所述第一子光栅检测单元的光栅衬底层与所述第二子光栅检测单元的光栅衬底层位于同一层。
在一个实施例中,所述光栅支撑层的材料包括氮化硅或氧化硅,所述传输通道的材料包括氧化铟锡,所述光栅衬底层的材料包括氮化硅或氧化硅。
在一个实施例中,所述显示面板还包括阴极层与像素定义层,所述光栅支撑层、传输通道与光栅衬底层均设置在所述阴极层与所述像素定义层之间。
根据上述实施例可知,由于在显示面板上设置触控检测单元,触控检测单元包括多个第一子光栅检测单元与多个第二子光栅检测单元,第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元的延伸方向互相交叉,第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元包括光栅结构,并且,光栅结构设置在像素单元的周侧。这样,可以使像素单元发出的光入射至触控检测单元后经过光栅的滤波只保留特定波长的光,并且,触控检测单元可以使经过光栅的滤波保留的特定波长的光在触控检测单元中传输,从而,由于触控检测单元受外力时光栅支撑层的光栅的排列周期的变化可以使传输通道中光的波长发生变化,进而,通过检测光的波长变化可以得到触控信息。并且,由于光的传播速度快,光波导的传输效率高,从而,在触控检测单元传输光能够提高触控信息的传播速度,进而,可以提高显示面板的触控灵敏度。
根据本申请实施例的第二方面,提供一种显示装置,包括上述任一种显示面板。还包括:
波导传输单元,所述波导传输单元包括第一子波导传输单元与第二子波导传输单元,所述第一子波导传输单元连接所有所述第一子光栅检测单元的一端,所述第二子波导传输单元连接所有所述第二子光栅检测单元的一端;
光电转换单元,配置为将所述波导传输单元传输的光信号转换为电信号,所述光电转换单元包括第一光电转换单元与第二光电转换单元,所述第一子波导传输单元的一端连接至所述第一光电转换单元,所述第二子波导传输单元的一端连接至所述第二光电转换单元;
控制芯片,配置为接收所述光电转换单元输出的电信号,并根据所述电信号确定触控点的位置。
在一个实施例中,所述第一子波导传输单元包括多条传输线路,各个第一子光栅检测单元分别连接至不同的所述传输线路;
所述第二子波导传输单元包括多条传输线路,各个第二子光栅检测单元分别连接至不同的所述传输线路。
在一个实施例中,所述波导传输单元包括波导支撑层、波导传输层与波导衬底层,所述波导支撑层与所述光栅支撑层的材料相同且位于同一层,所述波导传输层与所述传输通道的材料相同且位于同一层,所述波导衬底层与所述光栅衬底层的材料相同且位于同一层。
根据上述实施例可知,触控检测单元获得的光信号会通过波导传输单元传输给光电转换单元,由光电转换单元将光信号转换为电信号并传输给控制芯片,从而,可以使控制芯片根据电信号确定是哪个第一子光栅检测单元与哪个第二子光栅检测单元传输的光的波长发生了变化以确定触控点的纵向位置与横向位置,进而,可以通过确定触控点的纵向位置与横向位置最终确定触控点的位置。并且,由于光的传播速度快,光波导的传输效率高,从而,在触控检测单元传输光能够提高触控信息的传播速度,进而,可以提高显示面板的触控灵敏度。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本申请。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本申请的实施例,并与说明书一起用于解释本申请的原理。
图1是根据本申请实施例示出的一种显示面板的俯视图;
图2是根据本申请实施例示出的一种显示面板的剖视图;
图3是根据本申请实施例示出的一种触控检测单元的结构示意图;
图4是根据本申请实施例示出的另一种触控检测单元的结构示意图;
图5是根据本申请实施例示出的一种显示装置的结构示意图;
图6是根据本申请实施例示出的一种显示面板制备方法的流程图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置和方法的例子。
本申请实施例提供一种显示面板,该显示面板,如图1所示,包括:呈阵列排布的多个像素单元11、触控检测单元12、数据线13、栅极扫描线14与衬底15。如图2所示,每一像素单元11包括发光层111与阳极112。像素单元11的上方设置有封装层21、光提取层(CPL)22与阴极层23,触控检测单元12与像素定义层24设置在像素单元11的周侧,共同限定了像素单元11的区域,像素单元11的下方设置有驱动电路层25。光提取层22能够增加发光效率。其中,图1为该显示面板的俯视图,图2为图1中的单个像素单元沿剖面线AA的剖视图。
如图1与图2所示,触控检测单元12位于像素定义层24背向驱动电路层25的一侧,触控检测单元12包括多个第一子光栅检测单元121与多个第二子光栅检测单元122,第一子光栅检测单元沿第一方向Y延伸,第二子光栅检测单元沿第二方向X延伸,第一方向Y与第二方向X互相交叉。第一子光栅检测单元121与第二子光栅检测单元122设置在像素单元11的周侧,其中,位于显示面板四周边界处的像素单元11被第一子光栅检测单元121与第二子光栅检测单元122部分包围,其余非位于边界处的像素单元11被两个第一子光栅检测单元121与两个第二子光栅检测单元122包围。每一第一子光栅检测单元121与每一第二子光栅检测单元122均包括光栅结构126,请结合图3,光栅结构126由多个光栅1261与光栅间隙1262周期性顺序排列组成,多个光栅1261沿其所在的第一子光栅检测单元121或第二子光栅检测单元122的延伸方向顺序排列。栅极扫描线14与数据线13位于驱动电路层25中,其中,栅极扫描线14连接各像素单元11对应的驱动电路层25中的栅极,数据线13连接各像素单元11对应的驱动电路层25中的源极或漏极。每一第一子光栅检测单元121与每一第二子光栅检测单元122均还包括光栅支撑层123、传输通道124与光栅衬底层125,传输通道124位于光栅衬底层125上,光栅支撑层123位于传输通道124背向光栅衬底层125的一侧。如图3所示,光栅结构126位于光栅支撑层123,并且,方向X或Y上顺序排列,传输通道124的折射率大于光栅支撑层123与光栅衬底层125的折射率。并且,在第一子光栅检测单元121与第二子光栅检测单元122的交叉点处,光栅支撑层123中可以不设置光栅1261。在本实施例中,光栅结构126位于光栅支撑层123中,但不限于此,在其他实施例中,光栅结构126可以位于光栅衬底层125中,或者,光栅结构126可以同时位于光栅支撑层123与光栅衬底层125。在本实施例中,触控检测单元12位于像素定义层24背向驱动电路层25的一侧,但不限于此,在其他实施例中,触控检测单元12可以位于显示面板的出光方向上的其他位置,只要像素单元11发出的光能够到达触控检测单元12即可,例如,触控检测单元12可以位于阴极层23与光提取层22之间,但不限于此。
如图3所示,像素单元11发出的多个方向的光入射至触控检测单元12后,其中一些特定波长的入射光31能够入射至光栅支撑层123中的光栅结构126并在光栅支撑层123背向传输通道124一侧边界处反射为反射光32并离开光栅结构126,反射光32入射至光栅支撑层123与传输通道124的边界时发射折射,从而,使反射光32发生折射后产生的折射光33进入传输通道124,并且,由于传输通道124的折射率大于光栅支撑层123与光栅衬底层125的折射率,折射光33进入传输通道124后可以在传输通道124与光栅支撑层123的交界面以及传输通道124与光栅衬底层125的交界面处形成全反射,从而,可以形成光波导的效果,进而,可以使进入传输通道124的折射光33在传输通道124中传输,并且,由于光栅支撑层123与光栅衬底层125的膜厚、折射率与材质等因素的限制,光栅支撑层123与光栅衬底层125不会起到传输光的作用,其中,部分来自像素单元11的光会不经光栅结构126直接入射至传输通道124,但是,由于传输通道124与像素单元11的接触面积很小,并且,光栅支撑层123与像素单元11的接触面积大,使得直接入射至传输通道124的光相对于经过光栅结构126再入射至传输通道124的光非常微弱,因此基本不会造成影响。在触控检测单元12受到外力时,光栅支撑层123中的光栅结构126的排列周期会发生变化,使经过光栅结构126滤波的光的波长发生变化,可以使传输通道124中传输光的波长发生变化,从而,通过检测传输通道124中传输的光的波长变化并结合传输通道124中传输的光的波长、光栅1261的排列周期与触控检测单元12的折射率之间的线性关系可以得到光栅1261的排列周期的变化值,进而,可以根据光栅1261的排列周期的变化值得到按压的力度数据。其中,传输通道124中传输的光的波长(λ)、光栅1261的排列周期(L)与触控检测单元12的折射率(n)之间的线性关系为:λ=2nL。
在本实施例中,由于在显示面板上设置触控检测单元,触控检测单元包括第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元,第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元均包括光栅结构且设置在像素单元的周侧。这样,触控检测单元能够起到检测触控的作用,并且,由于光的传播速度快,光波导的传输效率高,从而,在触控检测单元传输光能够提高触控信息的传播速度,进而,可以提高显示面板的触控灵敏度。
在一些实施例中,相邻的像素单元11之间均设置有第一子光栅检测单元121的一部分或第二子光栅检测单元122的一部分,其中,位于显示面板四周边界处的像素单元11被第一子光栅检测单元121与第二子光栅检测单元122部分包围,其余非位于边界处的像素单元11被两条第一子光栅检测单元121与两条第二子光栅检测单元122包围。这样,由于每一像素单元11都被第一子光栅检测单元121与第二子光栅检测单元122至少部分围绕,因此,在每两个像素单元之间都设置有子光栅检测单元(即,第一或第二子光栅检测单元),从而,可以提高检测单元的密集度以提高检测的密集度,进而,可以更加精准地区分不同位置的触控信息,可以提高检测单元的检测精度。
在一些实施例中,可以不设置像素定义层24而直接用触控检测单元12代替像素定义层24的功能。这样,由于简化了显示面板的结构,从而可以简化显示面板的制备工序,降低制备难度。
在一些实施例中,触控检测单元12位于像素定义层24背向驱动电路层25的一侧,且触控检测单元12在衬底15上的投影位于数据线13与栅极扫描线14在衬底15上的投影内。这样,可以避免触控检测单元12遮挡像素单元11发出的朝向封装层21的光,从而,可以在设置触控检测单元12的同时确保不影响显示面板的开口率与透过率,进而,可以在设置触控检测单元12的同时确保显示面板的正常显示。
在一些实施例中,光栅支撑层123的折射率可以为1.1-1.3,例如,光栅支撑层123的折射率可以为1.1,或者,光栅支撑层123的折射率可以为1.2,或者,光栅支撑层123的折射率可以为1.3,但不限于此。传输通道124的折射率可以为1.8-2.1,例如,传输通道124的折射率可以为1.8,或者,传输通道124的折射率可以为1.9,或者,传输通道124的折射率可以为2.0,或者,传输通道124的折射率可以为2.1,但不限于此。光栅衬底层125的折射率可以为1.1-1.3,例如,光栅衬底层125的折射率可以为1.1,或者,光栅衬底层125的折射率可以为1.2,或者,光栅衬底层125的折射率可以为1.3,但不限于此。优选的,光栅支撑层123的折射率可以为1.3,传输通道124的折射率可以为1.8,光栅衬底层125的折射率可以为1.2,但不限于此。
在一些实施例中,可以调节光栅支撑层123、传输通道124与光栅衬底层125的折射率与厚度,从而,可以达到控制触控检测单元12允许通过的光的波长在预设范围内的效果。例如,可以先固定光栅支撑层123、传输通道124与光栅衬底层125的折射率,再调节光栅支撑层123、传输通道124与光栅衬底层125的厚度,但不限于此。光栅支撑层123的厚度可以为500-1000埃米,例如,光栅支撑层123的厚度可以为500埃米,或者,光栅支撑层123的厚度可以为600埃米,或者,光栅支撑层123的厚度可以为700埃米,或者,光栅支撑层123的厚度可以为800埃米,或者,光栅支撑层123的厚度可以为900埃米,或者,光栅支撑层123的厚度可以为1000埃米,但不限于此。传输通道124的厚度可以为400-500埃米,例如,传输通道124的厚度可以为400埃米,或者,传输通道124的厚度可以为450埃米,或者,传输通道124的厚度可以为500埃米,但不限于此。光栅衬底层125的厚度可以为300-800埃米,例如,光栅衬底层125的厚度可以为300埃米,或者,光栅衬底层125的厚度可以为400埃米,或者,光栅衬底层125的厚度可以为500埃米,或者,光栅衬底层125的厚度可以为600埃米,或者,光栅衬底层125的厚度可以为700埃米,或者,光栅衬底层125的厚度可以为800埃米,但不限于此。优选的,光栅支撑层123的厚度可以为1000埃米,传输通道124的厚度可以为400埃米,光栅衬底层125的厚度可以为600埃米,但不限于此。
在一些实施例中,只有波长为500-800nm的光能够经过光栅结构126并在光栅支撑层123背向(远离)传输通道124的边界处(即,光栅支撑层123与阴极层23的边界处)发射反射,例如,只有波长为500nm的光能够经过光栅结构126并在光栅支撑层123背向传输通道124的边界处发射反射,或者,只有波长为600的光能够经过光栅结构126并在光栅支撑层123背向传输通道124的边界处发射反射,或者,只有波长为700nm的光能够经过光栅结构126并在光栅支撑层123背向传输通道124的边界处发射反射,或者,只有波长为800nm的光能够经过光栅结构126并在光栅支撑层123背向传输通道124的边界处发射反射,但不限于此。其中,优选的,只有波长接近600nm(比如,波长在580nm-620nm范围内)的光能够经过光栅结构126并在光栅支撑层123背向传输通道124的边界处发射反射,但不限于此。这样,由于在自然光(即,外界的环境光)中波长为500nm-800nm的光的能量很微弱,并且,触控检测单元12只允许波长为500nm-800nm的光通过,因此,触控检测单元12中的光主要是像素单元11发出的波长为500nm-800nm的光,从而,可以避免自然光的变化对触控检测单元12中的光产生串扰或干涉等影响,进而,可以提高检测的精度。同时,当触控检测单元12只允许波长接近600nm(比如,波长在580nm-620nm范围内)的光通过时,可以最大限度避免自然光的变化对触控检测单元12的影响,可以进一步提高检测的灵敏度。
在一些实施例中,通过调整光栅支撑层123中顺序排列的光栅1261的周期可以控制光栅支撑层123滤去特定波长之外的光,只保留波长为500nm-800nm的光。而通过调整光栅支撑层123、传输通道124与光栅衬底层125的厚度与折射率可以确保光栅支撑层保留的特定波长的光可以入射至传输通道124,并可以确保可以在传输通道124中传输。光在传输通道124中的传输主要通过全反射的形式来实现。传输通道124与光栅支撑层123、光栅衬底层125在折射率方面的明显差异有利于实现上述全反射。并且,通过调整光栅支撑层123中顺序排列的光栅126的周期以及调整光栅支撑层123、传输通道124与光栅衬底层125的厚度与折射率可以使触控检测单元12适应更多场景的不同需求,从而,可以使触控检测单元12具备较广的应用范围。
在一些实施例中,第一子光栅检测单元121与第二子光栅检测单元122中传输的光的波长不同(第一子光栅检测单元121与第二子光栅检测单元122所允许透过的光的波长不同),例如,第一子光栅检测单元121中传输的光的波长为595nm-600nm,第二子光栅检测单元122中传输的光的波长为585-590nm,但不限于此。这样,可以对第一子光栅检测单元121中传输的光与第二子光栅检测单元122中传输的光做出区分,从而,可以更便于确定触控点的纵向位置与横向位置,进而,可以提升检测的灵敏度。
在一些实施例中,像素单元11包括发光层111,触控检测单元12与发光层111位于同一层。这样,由于触控检测单元12位于像素单元11的周围且与发光层111位于同一层,可以最大限度地使发光层发出的光入射至触控检测单元12,从而,可以减少光线在传播路径上的耗散,提高发光层入射至触控检测单元12的光的强度,进而,可以提高触控检测单元12内部的光的强度,提升检测的灵敏度。
在一些实施例中,如图4所示,在方向X或Y上上,传输通道124的朝向光栅支撑层123的表面上设置有多个斜面结构127,多个斜面结构127沿传输通道124的长度方向间隔排列,其中,斜面结构127可以为梯形斜面结构,或者,斜面结构127可以为三角形斜面结构,但不限于此。这样,入射至光栅结构126的光41在光栅支撑层123背向传输通道124的一侧的边界处反射为反射光42,由于设置了斜面结构127,可以使反射光42尽量以垂直于斜面结构127的角度入射,可以避免反射光42在从光栅支撑层123入射至传输通道124时在传输通道124与光栅支撑层123的交界面上发生折射,从而,可以避免反射光42在传输通道124与光栅支撑层123的交界面上发生折射时产生的损耗,进而,可以提高传输效率。图4所示的传输通道124朝向光栅支撑层123的表面上设置有多个的斜面结构是一种实施例,在其他实施例中,可以在传输通道124朝向光栅衬底层125的表面上设置多个的斜面结构,或者,可以在传输通道124朝向光栅支撑层123的表面以及传输通道124朝向光栅衬底层125的表面上都设置多个的斜面结构,但不限于此。这样,可以进一步提高传输效率。
在一些实施例中,光栅支撑层123的材料包括氮化硅或氧化硅,例如,光栅支撑层123的材料可以为氮化硅,或者,光栅支撑层123的材料可以为氧化硅,但不限于此。传输通道124的材料包括氧化铟锡,例如,传输通道124的材料可以为氧化铟锡,但不限于此。光栅衬底层125的材料包括氮化硅或氧化硅,例如,光栅衬底层125的材料可以为氮化硅,或者,光栅衬底层125的材料可以为氧化硅,但不限于此。
在一些实施例中,触控检测单元12还可以应用于液晶(LCD)触控显示面板以及Mini-LED触控显示面板等触控显示面板上,在这些方案中,触控检测单元12仍位于栅极扫描线与数据线背向衬底的一侧,并且至少部分围绕像素单元。
本申请的实施例还提出了一种显示装置,包括上述任一实施例所述的显示面板。该显示装置,如图5所示,包括:波导传输单元51、光电转换单元52、控制芯片53与数据传输线54。
波导传输单元51包括第一子波导传输单元511与第二子波导传输单元512,第一子波导传输单元511连接所有第一子光栅检测单元121的一端,第二子波导传输单元512连接所有第二子光栅检测单元122的一端,光电转换单元52包括第一光电转换单元521与第二光电转换单元522,第一子波导传输单元511与第二子波导传输单元512的一端分别连接至第一光电转换单元521与第二光电转换单元522,光电转换单元52将波导传输单元51传输的光信号转换为电信号,并通过数据传输线54将电信号输出给控制芯片53,控制芯片53接收光电转换单元52的通过传输线54输出的电信号,并根据该电信号确定触控的位置。
按压显示面板时,触控检测单元12中的光栅1261的排列周期发生变化从而使得从光栅支撑层123入射至传输通道124中的光的波长发生变化,其中,第一子光栅检测单元121与第二子光栅检测单元122分别将纵向与横向的光信号传输给波导传输单元51,第一子光栅检测单元121的光信号传输给第一子波导传输单元511,第二子光栅检测单元122的光信号传输给第二子波导传输单元512。第一光电转换单元521将第一子波导传输单元511的光信号转换为电信号,第二光电转换单元522将第二子波导传输单元512的光信号转换为电信号,控制芯片53接收电信号后将电信号与预设值进行比较,确认是哪一个第一子光栅检测单元121传输的光的波长发生了变化以确定触控点的横向位置,通过确认是哪一个第二子光栅检测单元122传输的光的波长发生了变化以确定触控点的纵向位置,从而,通过确定触控点的纵向位置与横向位置确定触控点的位置。在同时有多个第一子光栅检测单元121与多个第二子光栅检测单元122传输的波长发生变化时,控制芯片53会通过判定哪个第一子光栅检测单元121与哪个第二子光栅检测单元122传输的光的波长变化最大来进一步确定触控点的纵向位置与横向位置。当同时存在多个触控点时,控制芯片53会通过内置的算法依次识别每个触控点的位置。
本实施例中,触控检测单元获得的光信号会通过波导传输单元传输给光电转换单元,由光电转换单元将光信号转换为电信号并传输给控制芯片,从而,可以使控制芯片根据电信号确定是哪个第一光栅检测单元与哪个第二光栅检测单元传输的光的波长发生了变化以确定触控点的纵向位置与横向位置,进而,可以通过确定触控点的纵向位置与横向位置最终确定触控点的位置。并且,由于光的传播速度快,光波导的传输效率高,从而,在触控检测单元传输光能够提高触控信息的传播速度,进而,可以提高显示面板的触控灵敏度。
在一些实施例中,第一子波导传输单元511与第二子波导传输单元512包括多条传输线路,每一第一子光栅检测单元121的分别连接至第一子波导传输单元511中不同的传输线路,并通过对应的传输线路将光信号传输给第一光电转换单元521,每一第二子光栅检测单元122的光信号分别连接至第二子波导传输单元512中不同的传输线路,并通过对应的传输线路将光信号传输给第二光电转换单元522。这样,发生波长变化的光可以分别传输至控制芯片53,控制芯片53可以通过检测具体是哪一个第一子光栅检测单元121与哪一个第二子光栅检测单元122传输过来的信号确定触控点的纵向与横向位置,从而,控制芯片53可以确定触控点的位置。
在一些实施例中,可以根据像素单元11的数量对各第一子光栅检测单元121与各第二子光栅检测单元122进行编码设置,若显示面板上的像素单元11是按M*N的形式设置的,即位于横向方向上的像素单元11为M个,位于纵向方向上的像素单元11为N个,则可以将多个第一子光栅检测单元设置为X1至Xm,将多个第二子光栅检测单元设置为Y1至Yn,以(X1,Y1)对应1号像素单元11,以此类推,使每一坐标编码对应每一像素单元11。这样,控制芯片可以通过识别坐标编码快速获得触控点的位置,从而,可以提高显示面板的触控灵敏度。
在一些实施例中,像素单元11、触控检测单元12与波导传输单元51的一部分位于衬底15的同一侧,光电转换单元52、控制芯片53与波导传输单元51的另一部分位于衬底15背向像素单元11的一侧。这样,可以使光电转换单元52与控制芯片53以及像素单元11与触控检测单元12位于衬底15的两侧,从而,可以减少显示面板空间的占用。
在一些实施例中,波导传输单元51包括波导支撑层、波导传输层与波导衬底层,波导支撑层与光栅支撑层的材料相同且位于同一层,波导传输层与传输通道的材料相同且位于同一层,波导衬底层与光栅衬底层的材料相同且位于同一层。这样,在制备显示面板时可以同时制备触控检测单元12与波导传输单元51,从而,可以简化工艺。在其他实施例中,波导传输单元51可以仅包括波导传输层,波导传输层与传输通道的材料相同。
本申请的实施例还提出了一种显示面板的制备方法,如图6所示,该制备方法可以包括以下步骤:601-606。
在步骤601中,在像素定义层上进行沉积,同时形成第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元的光栅衬底层。
在步骤602中,在光栅衬底层背向像素定义层的一侧进行沉积,同时形成第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元的传输通道。
在步骤603中,在传输通道背向光栅衬底层的一侧进行沉积,同时形成第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元的光栅支撑层。
在步骤604中,在光栅支撑层背向传输通道的表面进行干刻,在垂直于由光栅支撑层指向传输通道的方向上形成周期性排列的矩形凹槽。
在步骤605中,在光栅支撑层背向传输通道的一侧沉积光栅材料。
在步骤606中,在光栅支撑层背向传输通道的表面上进行湿刻,去除光栅支撑层背向传输通道的表面上的光栅材料,同时,保留矩形凹槽中的光栅材料,从而,形成触控检测单元。
在本实施例中,由于仅需要通过在制备显示面板时在像素定义层上进行沉积与刻蚀即可得到触控检测单元,这样,可以通过较为简单的工艺实现在制备显示面板的同时制备触控检测单元,从而,可以简化工艺。并且,由于触控检测单元是通过沉积直接形成于显示面板上的,因此,相较于其他需要额外添加检测单元的方案,本实施例不需要额外添加生产设备,简化了工艺。
在一些实施例中,在沉积传输通道124时,可以先沉积形成第一光栅检测单元121的传输通道124,再沉积形成第二光栅检测单元122的传输通道124,或者,可以先沉积形成第二光栅检测单元122的传输通道124,再沉积形成第一光栅检测单元121的传输通道124。这样,可以在沉积时对纵向的第一光栅检测单元121与横向的第二光栅检测单元122做出区分。
需要说明的是,本实施例中的显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
其中,上述流程所采用的形成工艺例如可包括:沉积等成膜工艺和刻蚀等构图工艺。
需要指出的是,在附图中,为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解,当元件或层被称为在另一元件或层“上”时,它可以直接在其他元件上,或者可以存在中间的层。另外,可以理解,当元件或层被称为在另一元件或层“下”时,它可以直接在其他元件下,或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外,还可以理解,当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时,它可以为两层或两个元件之间唯一的层,或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
在本申请中,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上,除非另有明确的限定。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后,将容易想到本申请的其它实施方案。本申请旨在涵盖本申请的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本申请的一般性原理并包括本申请未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本申请的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是,本申请并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本申请的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (14)

1.一种显示面板,其特征在于,包括衬底以及位于衬底上的像素单元和触控检测单元,所述触控检测单元包括多个第一子光栅检测单元与多个第二子光栅检测单元,所述第一子光栅检测单元沿第一方向延伸,第二子光栅检测单元沿第二方向延伸,所述第一方向与第二方向互相交叉,所述第一子光栅检测单元与第二子光栅检测单元均包括:
光栅结构,设置在所述像素单元的周侧,接收所述像素单元射向周侧的光;
传输通道,接收经过所述光栅结构的光并向外传输。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,相邻的像素单元之间均设置有所述第一子光栅检测单元的一部分或所述第二子光栅检测单元的一部分。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括数据线与光栅扫描线,所述第一子光栅检测单元与所述第二子光栅检测单元在所述衬底上的投影位于所述数据线与所述光栅扫描线在所述衬底上的投影内。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一子光栅检测单元中的光栅结构所允许经过的光的波长与所述第二子光栅检测单元中的光栅结构所允许经过的光的波长不同。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,只有波长为500nm-800nm的光能够通过所述光栅结构。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一子光栅检测单元与所述第二子光栅检测单元均还包括光栅支撑层与光栅衬底层,所述传输通道位于所述光栅衬底层与所述光栅支撑层之间,所述光栅结构位于所述光栅支撑层内;
所述传输通道的折射率大于所述光栅支撑层与所述光栅衬底层的折射率。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述传输通道的表面上设置有多个斜面结构,所述多个斜面结构沿所述传输通道的长度方向间隔排列。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述斜面结构包括三角形斜面结构或梯形斜面结构。
9.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一子光栅检测单元的光栅支撑层与所述第二子光栅检测单元的光栅支撑层位于同一层,所述第一子光栅检测单元的传输通道与所述第二子光栅检测单元的传输通道位于同一层,所述第一子光栅检测单元的光栅衬底层与所述第二子光栅检测单元的光栅衬底层位于同一层。
10.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述光栅支撑层的材料包括氮化硅或氧化硅,所述传输通道的材料包括氧化铟锡,所述光栅衬底层的材料包括氮化硅或氧化硅。
11.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括阴极层与像素定义层,所述光栅支撑层、传输通道与光栅衬底层均设置在所述阴极层与所述像素定义层之间。
12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至11任一种显示面板,还包括:
波导传输单元,所述波导传输单元包括第一子波导传输单元与第二子波导传输单元,所述第一子波导传输单元连接所有所述第一子光栅检测单元的一端,所述第二子波导传输单元连接所有所述第二子光栅检测单元的一端;
光电转换单元,配置为将所述波导传输单元传输的光信号转换为电信号,所述光电转换单元包括第一光电转换单元与第二光电转换单元,所述第一子波导传输单元的一端连接至所述第一光电转换单元,所述第二子波导传输单元的一端连接至所述第二光电转换单元;
控制芯片,配置为接收所述光电转换单元输出的电信号,并根据所述电信号确定触控点的位置。
13.根据权利要求12所述的显示装置,其特征在于,所述第一子波导传输单元包括多条传输线路,各个第一子光栅检测单元分别连接至不同的所述传输线路;
所述第二子波导传输单元包括多条传输线路,各个第二子光栅检测单元分别连接至不同的所述传输线路。
14.根据权利要求12所述的显示装置,其特征在于,所述波导传输单元包括波导支撑层、波导传输层与波导衬底层,所述波导支撑层与所述光栅支撑层的材料相同且位于同一层,所述波导传输层与所述传输通道的材料相同且位于同一层,所述波导衬底层与所述光栅衬底层的材料相同且位于同一层。
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