CN114303917B - 一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，该方法包括以下步骤：容器选择与基质栽培，苗木栽植，栽植后至萌芽前的管理，萌芽期的管理，新稍期的管理，新稍停长期的管理，落叶后树体结构参数，休眠期的管理，开始升温至萌芽前的管理，萌芽期至谢花期的管理，谢花期至成熟期的管理。本发明采用设施容器高密度栽植甜樱桃1年生苗木，经过18个月栽培管理，单株产量为0.8‑1.2公斤，亩产量667‑1000公斤；具有早成形，早结果，早丰产等特点，为设施甜樱桃产业发展提供了一种集约、丰产、高效的方法。
Description
技术领域
本发明涉及农业技术领域，具体来说，涉及一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法。
背景技术
目前甜樱桃设施栽培主要采用异地移栽盛果期大树或在盛果期樱桃园就地建设施的两种方法。山东、辽宁和陕西等地区广泛采用株距2.5-3.5米，行距3.5-4.5米的栽培密度，常见甜樱桃树形有自由纺锤形、小冠疏层形和西班牙丛枝形等。
现有的栽培技术对盛果期甜樱桃大树的质量要求高，需要耗费人力专门去选择购买此类大树，且需要远距离运输，运输期间常出现根系受冻害、枝干受伤等问题，为了提高移栽成活率需要大量疏剪花芽，大树移栽当年甜樱桃亩产量需控制在200-300公斤，对设施栽培甜樱桃早期经济效益造成了较大影响。因此，如何保障设施栽培甜樱桃第一年较高产量和好的果实品质成为值得重视的一个紧要问题，急需研发设施甜樱桃提早结果丰产的技术。
针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
针对相关技术中的问题，本发明提出一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
为此，本发明采用的具体技术方案如下：
一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，该方法包括以下步骤：
容器选择与基质栽培：容器选择PVC材质且为黑色带底盘的控根容器，且基质选择以无害化处理的水洗牛粪为主要原料并按比例混合河沙及蛭石，备用；
苗木栽植：选择吉塞拉6号砧木嫁接的1年生甜樱桃苗木，并在12月10日进行栽植；
栽植后至萌芽前的管理：甜樱桃苗木栽植后将苗木整株放置在包含日光的温室内，且放置密度为株距50cm，行距160cm，每亩栽植833株，同时对每个控根容器完成2个长度为10cm的滴箭的放置处理，滴箭出水流量设置为3L/小时，并使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
萌芽期的管理：若甜樱桃苗木的芽体变绿，则将甜樱桃苗木定干至高度100cm，并使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
新稍期的管理：对甜樱桃苗木的侧枝新稍及中心领导新稍进行剪除，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理；
新稍停长期的管理：对每株甜樱桃苗木施用20g磷酸二氢钾，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理，其中，该时期设置温室内白天温度≤28℃，夜间温度≥15℃，空气湿度60％，基质湿度55％；
落叶后树体结构参数：树高150cm，主干着生8-12个结果枝，且结果枝长为25-30cm，粗度为0.8-1.3cm，开张角度为70-80度，每个结果枝叶花芽数量为5-8个；
休眠期的管理：设定11月20日开始进入休眠管理时间，该时期白天覆盖保温遮光棉被，夜间卷起保温遮光棉被；
开始升温至萌芽前的管理：设定12月25日开始进入升温管理时间，该时期使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
萌芽期至谢花期的管理：使用滴管系统且间隔7-10天对每株甜樱桃苗木补充20克水溶性复合肥，在盛花期喷施复配植物生长调节剂，同时间隔15-18天后再喷一次，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理；
谢花期至成熟期的管理：使用滴管系统且间隔7-10天对每株甜樱桃苗木补充30克磷酸二氢钾+5克中微量元素肥料，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理。
进一步的，所述容器选择时，容器的直径为40cm，高度为40cm，壁厚为0.8mm；
所述基质选择时，水洗牛粪的颗粒大小为2.0mm-6.0mm，且水洗牛粪、河沙及蛭石之间的比例为5.5：1：1.5。
进一步的，所述苗木栽植时，苗木规格为嫁接口处粗度≥1.5cm，苗木高度≥150cm。
进一步的，所述栽植后至萌芽前的管理时，温室内白天温度≤20℃，夜间温度≥8℃，空气湿度≥50％，基质湿度70％。
进一步的，所述将甜樱桃苗木定干至高度100cm时，定干处与第1个叶芽的距离≥2.5cm，且将定干处下面第2、第3、第5及第6叶芽抹除，并保留第4及第7叶芽，对第10叶芽及其下面叶芽均涂抹复配植物生长调节剂，其中，复配植物生长调节剂的有效成分浓度分别为6-BA(550mg/Kg)+GA(65mg/Kg)；该时期设置温室内白天温度≤23℃，夜间温度≥10℃，空气湿度60％，基质湿度65％。
进一步的，所述对甜樱桃苗木的侧枝新稍及中心领导新稍进行剪除还包括以下步骤：
若侧枝新稍生长至10cm，则在新稍的中部放置重量为25g的不锈钢夹子，并利用重力作用增大新稍与主干的夹角至60-70度；
若侧枝新稍生长至20cm，则将顶端新稍剪除0.3-0.5cm；
若侧枝新稍分别生长至25cm和30cm，则将甜樱桃苗木全株叶片喷施1500mg/Kg浓度多效唑；
若中心领导新稍分别生长至20cm、30cm和40cm，则均将顶端新稍剪除0.3-0.5cm；
其中，该时期设置温室内白天温度≤25℃，夜间温度≥12℃，空气湿度为60％，基质湿度为65％。
进一步的，所述休眠期的管理时，白天设置温室内温度≤7℃，夜间设置温室内温度≤4℃，空气湿度≥50％，基质湿度60％。
进一步的，所述开始升温至萌芽前的管理时，该时期的温室内白天温度为18-20℃，夜间温度为5-8℃，空气湿度为80％，基质湿度为75％。
进一步的，所述萌芽期至谢花期的管理时，该时期设置温室白天温度为16-18℃，夜间温度为在8-10℃，空气湿度为65％，基质湿度为60％；
所述水溶性复合肥中氮：磷：钾含量比例为15：15：15；
所述复配植物生长调节剂的有效成分浓度分别为GA(75mg/Kg)+6-BA(15mg/Kg)+IBA(6mg/Kg)。
进一步的，所述谢花期至成熟期的管理时，该时期设置白天温度为22-25℃，夜间温度为12-15℃，空气湿度为60％，基质湿度为70％；
所述中微量元素肥料内铁：钙：镁：锌含量比例为1：2：1：1。
本发明的有益效果为：本发明采用设施容器高密度栽植甜樱桃1年生苗木，经过18个月栽培管理，单株产量为0.8-1.2公斤，亩产量667-1000公斤。具有早成形，早结果，早丰产等特点，为设施甜樱桃产业发展提供了一种集约、丰产、高效的方法。本发明的方法明显提高了甜樱桃苗木成活率、侧枝数量和花芽数量，为第2年的果实产量形成奠定基础，且栽培的甜樱桃有机质及矿质营养丰富，果实单果重和可溶性固形物含量都明显高于常规栽培模式。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本发明实施例的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法的流程图。
具体实施方式
为进一步说明各实施例，本发明提供有附图，这些附图为本发明揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本发明的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
根据本发明的实施例，提供了一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法。
现结合附图和具体实施方式对本发明进一步说明，如图1所示，根据本发明实施例的设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，该方法包括以下步骤：
S1、容器选择与基质栽培：容器选择PVC材质且为黑色带底盘的控根容器，且基质选择以无害化处理的水洗牛粪为主要原料并按比例混合河沙及蛭石，备用；
其中，所述容器选择时，容器的直径为40cm，高度为40cm，壁厚为0.8mm；
所述基质选择时，水洗牛粪的颗粒大小为2.0mm-6.0mm，且水洗牛粪、河沙及蛭石之间的比例为5.5：1：1.5。
S2、苗木栽植：选择吉塞拉6号砧木嫁接的1年生甜樱桃苗木，并在12月10日进行栽植；
其中，所述苗木栽植时，苗木规格为嫁接口处粗度≥1.5cm，苗木高度≥150cm。
S3、栽植后至萌芽前的管理：甜樱桃苗木栽植后将苗木整株放置在包含日光的温室内，且放置密度为株距50cm，行距160cm，每亩栽植833株，同时对每个控根容器完成2个长度为10cm的滴箭的放置处理，滴箭出水流量设置为3L/小时，并使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
其中，所述栽植后至萌芽前的管理时，温室内白天温度≤20℃，夜间温度≥8℃，空气湿度≥50％，基质湿度70％。
S4、萌芽期的管理：若甜樱桃苗木的芽体变绿，则将甜樱桃苗木定干至高度100cm，并使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
其中，所述将甜樱桃苗木定干至高度100cm时，定干处与第1个叶芽的距离≥2.5cm，且将定干处下面第2、第3、第5及第6叶芽抹除，并保留第4及第7叶芽，对第10叶芽及其下面叶芽均涂抹复配植物生长调节剂，其中，复配植物生长调节剂的有效成分浓度分别为6-BA(550mg/Kg)+GA(65mg/Kg)；该时期设置温室内白天温度≤23℃，夜间温度≥10℃，空气湿度60％，基质湿度65％。
S5、新稍期的管理：对甜樱桃苗木的侧枝新稍及中心领导新稍进行剪除，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理；
其中，所述对甜樱桃苗木的侧枝新稍及中心领导新稍进行剪除还包括以下步骤：
若侧枝新稍生长至10cm，则在新稍的中部放置重量为25g的不锈钢夹子，并利用重力作用增大新稍与主干的夹角至60-70度；
若侧枝新稍生长至20cm，则将顶端新稍剪除0.3-0.5cm；
若侧枝新稍分别生长至25cm和30cm，则将甜樱桃苗木全株叶片喷施1500mg/Kg浓度多效唑；
若中心领导新稍分别生长至20cm、30cm和40cm，则均将顶端新稍剪除0.3-0.5cm；
其中，该时期设置温室内白天温度≤25℃，夜间温度≥12℃，空气湿度为60％，基质湿度为65％。
S6、新稍停长期的管理：此时是花芽分化形成的关键期，务必停止施用氮肥。对每株甜樱桃苗木施用20g磷酸二氢钾，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理；
其中，所述新稍停长期的管理时，该时期设置温室内白天温度≤28℃，夜间温度≥15℃，空气湿度60％，基质湿度55％。
S7、落叶后树体结构参数：树高150cm左右，主干着生8-12个结果枝，且结果枝长为25-30cm，粗度为0.8-1.3cm，开张角度为70-80度，每个结果枝叶花芽数量为5-8个；
S8、休眠期的管理：此时是满足植株叶芽和花芽需冷量的关键期。设定11月20日开始进入休眠管理时间，该时期白天覆盖保温遮光棉被，夜间卷起保温遮光棉被；
其中，所述休眠期的管理时，白天设置温室内温度≤7℃，夜间设置温室内温度≤4℃，空气湿度≥50％，基质湿度60％。
S9、开始升温至萌芽前的管理：植株休眠结束。设定12月25日开始进入升温管理时间，该时期使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
其中，所述开始升温至萌芽前的管理时，该时期的温室内白天温度为18-20℃，夜间温度为5-8℃，空气湿度为80％，基质湿度为75％。
S10、萌芽期至谢花期的管理：使用滴管系统且间隔7-10天对每株甜樱桃苗木补充20克水溶性复合肥，在盛花期喷施复配植物生长调节剂，同时间隔15-18天后再喷一次，以提高座果率，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理；
其中，所述萌芽期至谢花期的管理时，该时期设置温室白天温度为16-18℃，夜间温度为在8-10℃，空气湿度为65％，基质湿度为60％；
所述水溶性复合肥中氮：磷：钾含量比例为15：15：15；
所述复配植物生长调节剂的有效成分浓度分别为GA(75mg/Kg)+6-BA(15mg/Kg)+IBA(6mg/Kg)。
S11、谢花期至成熟期的管理：使用滴管系统且间隔7-10天对每株甜樱桃苗木补充30克磷酸二氢钾+5克中微量元素肥料，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理。
其中，所述谢花期至成熟期的管理时，该时期设置白天温度为22-25℃，夜间温度为12-15℃，空气湿度为60％，基质湿度为70％；
所述中微量元素肥料内铁：钙：镁：锌含量比例为1：2：1：1。
实施例1
试验园设在山东省烟台市福山区高疃镇前法卷村。栽培甜樱桃品种为“美早”，砧木为吉塞拉6号。采用1年生甜樱桃单干苗木于2020年12月栽植在黑色带底盘的控根容器，控根容器规格为直径40cm，高度40cm，壁厚0.8mm。栽培密度为株距50cm，行距160cm。设施类型为南北走向的钢架结构日光温室。
为了研发甜樱桃苗木栽植1年时间高质量花芽形成的技术，本实施例以设施环境调控、水分和矿质营养精确使用、复配植物生长调节剂和结果枝开角调控相结合的综合管理方法为例，研究了甜樱桃‘美早’苗木生长动态特性及花芽形成质量，对照为同一地块内采用常规田间苗木栽培。
在同一地块内采用两种栽培管理模式：“设施容器栽培模式”和“田间栽培模式”，其他田间管理措施一致。分别于定植后第30天，第150天和落叶休眠时间调查苗木生长情况(表1)，评价两种栽培管理模式的差异。
表1栽培管理模式对甜樱桃苗木生长和花芽形成的影响
该结果表明，常规栽培管理模式1年生甜樱桃苗木不能形成有效侧枝数和花芽数，有机营养消耗主要用于侧枝长度和主干粗度的建成。而采用设施容器栽培管理模式，明显提高了甜樱桃苗木成活率、侧枝数量和花芽数量，为第2年的果实产量形成奠定基础。因此采用设施容器栽培1年生甜樱桃苗木综合管理技术，促使甜樱桃苗木在1年内形成有效结果枝和花芽，可以在设施甜樱桃生产中进行应用。
实施例2
试验园设在山东省烟台市福山区高疃镇前法卷村和孙家疃村。前发卷村试验园栽培甜樱桃品种有“美早”、“黑珍珠”和“珊瑚香槟”，砧木为吉塞拉6号。采用经过设施容器栽培管理模式培养1年的甜樱桃苗木，栽培密度为株距50cm，行距160cm。设施类型为东西走向的钢架结构日光温室。孙家疃村试验园栽培甜樱桃品种有“美早”、“黑珍珠”和“水晶”，砧木为大青叶。采用异地移栽的8年生结果树，树形为自由纺锤形，栽培密度为株距2.8m，行距3.5m。设施类型为东西走向的钢架结构日光温室，温室面积均为1.5亩。两个实验基地结束休眠开始升温的时间均为2021年1月1日。
在相同结构与面积的日光温室，采用两种栽培模式：“高密度容器小细纺锤栽培模式”和“常规裸根自由纺锤栽培模式”，其他田间管理措施一致。分别于定植后第40天和果实成熟期调查树体生长结果情况(表2)，评价两种栽培模式的差异。
表2栽培模式对甜樱桃树体与果实发育的影响
该结果表明，采用高密度容器小细纺锤栽培模式，折合每亩产量近800公斤，而传统大树移栽进设施，当年甜樱桃产量仅367公斤。由于容器小细纺锤模式采用混合基质培养，有机质及矿质营养丰富，因此，果实单果重和可溶性固形物含量都明显高于常规栽培模式。
综上所述，本发明采用设施容器高密度栽植甜樱桃1年生苗木，经过18个月栽培管理，单株产量为0.8-1.2公斤，亩产量667-1000公斤。具有早成形，早结果，早丰产等特点，为设施甜樱桃产业发展提供了一种集约、丰产、高效的方法。本发明的方法明显提高了甜樱桃苗木成活率、侧枝数量和花芽数量，为第2年的果实产量形成奠定基础，且栽培的甜樱桃有机质及矿质营养丰富，果实单果重和可溶性固形物含量都明显高于常规栽培模式
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
容器选择与基质栽培：容器选择PVC材质且为黑色带底盘的控根容器，且基质选择以无害化处理的水洗牛粪为主要原料并按比例混合河沙及蛭石，备用；
苗木栽植：选择吉塞拉6号砧木嫁接的1年生甜樱桃苗木，并在12月10日进行栽植；
栽植后至萌芽前的管理：甜樱桃苗木栽植后将苗木整株放置在包含日光的温室内，且放置密度为株距50cm，行距160cm，每亩栽植833株，同时对每个控根容器完成2个长度为10cm的滴箭的放置处理，滴箭出水流量设置为3L/小时，并使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
萌芽期的管理：若甜樱桃苗木的芽体变绿，则将甜樱桃苗木定干至高度100cm，并使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
定干处与第1个叶芽的距离≥2.5cm，且将定干处下面第2、第3、第5及第6叶芽抹除，并保留第4及第7叶芽，对第10叶芽及其下面叶芽均涂抹复配植物生长调节剂，其中，复配植物生长调节剂的有效成分浓度分别为6-BA（550mg/Kg）+GA（65mg/Kg）；该时期设置温室内白天温度≤23℃，夜间温度≥10℃，空气湿度60%，基质湿度65%；
新稍期的管理：对甜樱桃苗木的侧枝新稍及中心领导干新稍进行剪除，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理；
新稍停长期的管理：对每株甜樱桃苗木施用20g磷酸二氢钾，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理，其中，该时期设置温室内白天温度≤28℃，夜间温度≥15℃，空气湿度60%，基质湿度55%；
落叶后树体结构参数：树高150cm，主干着生8-12个结果枝，且结果枝长为25-30cm，粗度为0.8-1.3cm，开张角度为70-80度，每个结果枝叶花芽数量为5-8个；
休眠期的管理：设定11月20日开始进入休眠管理时间，该时期白天覆盖保温遮光棉被，夜间卷起保温遮光棉被；
开始升温至萌芽前的管理：设定12月25日开始进入升温管理时间，该时期使用0.006mm厚度的无色地膜对控根容器的上端口进行全部覆盖处理；
萌芽期至谢花期的管理：使用滴管系统且间隔7-10天对每株甜樱桃苗木补充20克水溶性复合肥，在盛花期喷施复配植物生长调节剂，同时间隔15-18天后再喷一次，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理；
谢花期至成熟期的管理：使用滴管系统且间隔7-10天对每株甜樱桃苗木补充30克磷酸二氢钾+5克中微量元素肥料，并使用0.008mm厚度的黑色地膜对控根容器的上端口和侧面进行全部覆盖处理；
所述对甜樱桃苗木的侧枝新稍及中心领导干新稍进行剪除还包括以下步骤：
若侧枝新稍生长至10cm，则在新稍的中部放置重量为25g的不锈钢夹子，并利用重力作用增大新稍与主干的夹角至60-70度；
若侧枝新稍生长至20cm，则将顶端新稍剪除0.3-0.5cm；
若侧枝新稍分别生长至25cm或30cm，则将甜樱桃苗木全株叶片喷施1500mg/Kg浓度多效唑；
当中心领导干新稍分别生长至20cm、30cm或40cm，则均将顶端新稍剪除0.3-0.5cm；
其中，该时期设置温室内白天温度≤25℃，夜间温度≥12℃，空气湿度为60%，基质湿度为65%。
2.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，其特征在于，容器选择：容器的直径为40cm，高度为40cm，壁厚为0.8mm；
基质选择：水洗牛粪的颗粒大小为2.0mm-6.0mm，且水洗牛粪、河沙及蛭石之间的比例为5.5：1：1.5。
3.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，其特征在于，苗木栽植：苗木规格为嫁接口处粗度≥1.5cm，苗木高度≥150cm。
4.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，其特征在于，栽植后至萌芽前的管理：温室内白天温度≤20℃，夜间温度≥8℃，空气湿度≥50%，基质湿度70%。
5.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，其特征在于，休眠期的管理：白天设置温室内温度≤7℃，夜间设置温室内温度≤4℃，空气湿度≥50%，基质湿度60%。
6.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，其特征在于，开始升温至萌芽前的管理：该时期的温室内白天温度为18-20℃，夜间温度为5-8℃，空气湿度为80%，基质湿度为75%。
7.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，其特征在于，萌芽期至谢花期的管理：该时期设置温室白天温度为16-18℃，夜间温度为在8-10℃，空气湿度为65%，基质湿度为60%；
所述水溶性复合肥中氮：磷：钾含量比例为15：15：15；
所述复配植物生长调节剂的有效成分浓度分别为GA（75mg/Kg）+6-BA（15mg/Kg）+IBA（6mg/Kg）。
8.根据权利要求1所述的一种设施栽培樱桃高密度早丰产的管理方法，其特征在于，谢花期至成熟期的管理：该时期设置白天温度为22-25℃，夜间温度为12-15℃，空气湿度为60%，基质湿度为70%；
所述中微量元素肥料内铁：钙：镁：锌含量比例为1：2：1：1。
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