CN114290223A - 一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，包括自服务型间歇运动式控尘机构、柔性化无源抛光收卷集成机构、坐立触发式供源机构、主容纳外壳和支撑脚。本发明属于纳米晶带材加工领域，具体是指一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置；本发明有效解决了目前市场上用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置功能单一、难以自动实现纳米晶带材的抛光和收卷、难以在运作时自动对粉尘进行控制、可调节性差的问题。

Description

一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置

技术领域

本发明属于纳米晶带材加工技术领域，具体是指一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置。

背景技术

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。纳米晶带材生产的过程中需要打磨，使其表面光滑。

现有的用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置都采用现有的抛光设备直接对纳米晶带材进行抛光，而实际上纳米晶带材较为轻薄，采用常规抛光方式直接加工操作容易导致纳米晶带材破损，难以在保护纳米晶带材本身的情况下对其进行抛光，且现有的打磨抛光装置在工作过程中容易产生粉尘，无法在运行时自动对粉尘进行处理，且抛光时的残渣颗粒也不易收集，故需要提出一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置。

发明内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本发明提供了一种在无动力源时自动实现多种功能的、操作方便、节能环保的用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，有效解决了目前市场上用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置功能单一、难以自动实现纳米晶带材的抛光和收卷、难以在运作时自动对粉尘进行控制、可调节性差的问题。

本发明采取的技术方案如下：本发明提供了一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，包括自服务型间歇运动式控尘机构、柔性化无源抛光收卷集成机构、坐立触发式供源机构、主容纳外壳和支撑脚，支撑脚固接于主容纳外壳的侧壁上，坐立触发式供源机构设于主容纳外壳上，柔性化无源抛光收卷集成机构设于主容纳外壳上，自服务型间歇运动式控尘机构设于主容纳外壳上。

作为优选地，自服务型间歇运动式控尘机构包括过渡化自服务体、过渡化通孔、支撑骨架、介质生成齿环、运动式介质生成架、介质生成小孔、平衡杆、端部平衡重块、内侧传动齿、间歇摆杆、间歇滑动珠、降落重块、连接绳、连接轮、缠绕柱、间歇转动棘轮和棘轮间歇滑槽，过渡化通孔贯穿设于主容纳外壳的侧壁上，过渡化通孔设有两组，支撑骨架固接于主容纳外壳的外壁上，内侧传动齿分布于支撑骨架内的两侧，平衡杆的中心点铰接于主容纳外壳的外壁上，运动式介质生成架的中心铰接于平衡杆的两端，运动式介质生成架设有两组，介质生成齿环固接于运动式介质生成架上，介质生成小孔贯穿阵列设于运动式介质生成架上，内侧传动齿和介质生成齿环之间啮合连接，过渡化自服务体的一端贯穿过渡化通孔且弯曲延伸至主容纳外壳内，过渡化自服务体的另一端卡接于平衡杆上，过渡化自服务体上下设有两组，端部平衡重块固接于平衡杆的两端，间歇摆杆固接于平衡杆的底部，间歇摆杆对称设有两组，间歇滑动珠固接于间歇摆杆的底部，连接轮转动设于主容纳外壳的外壁上，间歇转动棘轮转动设于主容纳外壳的外壁上，缠绕柱固接于间歇转动棘轮上，连接绳的一端缠绕设于缠绕柱上，连接绳的另一端穿过于连接轮上，降落重块设于连接绳的一端，棘轮间歇滑槽设于间歇转动棘轮的各个边上，间歇滑动珠和棘轮间歇滑槽之间嵌合滑动连接。

进一步地，坐立触发式供源机构包括充水囊、坐立支撑架、Y型管、分支端、出水端、坐立接触板、坐立升降导向杆、无源水轮和水轮转轴，坐立支撑架固接于主容纳外壳的外壁上，充水囊固接于坐立支撑架上，坐立升降导向杆固接于坐立支撑架上，坐立接触板贯穿滑动设于坐立升降导向杆上，充水囊、坐立支撑架、坐立接触板和坐立升降导向杆设有两组，Y型管贯穿固接于主容纳外壳的侧壁上，分支端分两组设于Y型管上，出水端设于Y型管上，分支端贯穿于坐立支撑架且连通设于充水囊上，水轮转轴贯穿转动设于主容纳外壳上，无源水轮设于水轮转轴上。

其中，柔性化无源抛光收卷集成机构包括收卷圆盘、粘性层、上方抛光辊、上方抛光支架、下方抛光辊、下方抛光支架、防飞溅支架、倾斜导向侧边、进入孔、进出孔和纳米晶带材本体，收卷圆盘固接于水轮转轴的端部，粘性层设于收卷圆盘上，防飞溅支架固接于主容纳外壳上，倾斜导向侧边设于防飞溅支架的两侧，进入孔设于防飞溅支架上，进出孔设于防飞溅支架上，上方抛光支架固接于防飞溅支架的内壁上，下方抛光支架固接于防飞溅支架的内壁上，上方抛光辊转动设于上方抛光支架上，下方抛光辊转动设于下方抛光支架上，上方抛光辊和下方抛光辊交错设置，纳米晶带材本体的一端穿过于进入孔，纳米晶带材本体的另一端穿过于进出孔且设于粘性层上，纳米晶带材本体的一面摩擦贴合设于上方抛光辊上，纳米晶带材本体的另一面摩擦贴合设于下方抛光辊上。

为了防止充水囊中的水不慎流出，出水端上设有防漏塞。

为了使柔性化无源抛光收卷集成机构正常运作，出水端对准于无源水轮上，确保能带动无源水轮转动。

为了提升本发明方案的使用效率，柔性化无源抛光收卷集成机构分两组镜像设于主容纳外壳的两侧，自服务型间歇运动式控尘机构分两组镜像设于主容纳外壳的外壁上。

为了实现自服务型间歇运动式控尘机构的自动化控制，过渡化自服务体由水溶纸材料制成，过渡化自服务体遇水后融化，过渡化自服务体经多次折叠卷曲制成，过渡化自服务体实现了主容纳外壳中无水时卡住平衡杆和主容纳外壳中有水时吸水融化并触发整个自服务型间歇运动式控尘机构运作的效果。

其中，运动式介质生成架呈米字形。

为了减轻无源水轮的负载，收卷圆盘由泡沫塑料材质制成。

采用上述结构本发明取得的有益效果如下：本发明提供了一种在无动力源时自动实现多种功能的、操作方便、节能环保的用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，有效解决了目前市场上用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置功能单一、难以自动实现纳米晶带材的抛光和收卷、难以在运作时自动对粉尘进行控制、可调节性差的问题，其有益效果如下：

(1)通过基于自服务原理设置的自服务型间歇运动式控尘机构，在不借助任何传感器以及传统驱动设备的情况下，仍然实现了效果显著的粉尘控制的效果，巧妙地利用了过渡化自服务体遇到主容纳外壳中的水后很快融化变软的特性，实现了在主容纳外壳无水时能够卡住平衡杆，而主容纳外壳中有水时吸水融化并触发整个自服务型间歇运动式控尘机构运作的智能化效果，克服了只有采用传感器配合动力源才能实现自动化控制的技术偏见。

(2)通过设置柔性化无源抛光收卷集成机构，将利用抛光设备对纳米晶带材进行抛光操作的方式作出逆向思维上的改变，利用拉动纳米晶带材时纳米晶带材与上下交错设置的多组上方抛光辊和下方抛光辊充分接触的运动过程，巧妙地实现了纳米晶带材的双面抛光效果，本发明基于动态化原理，将常规情况下静态状态的纳米晶带材的抛光转换为动态的运动过程，创造性地实现了较为柔性的间接抛光效果，解决了既要对纳米晶带材进行抛光，又不能因抛光过程导致纳米晶带材本身破损的矛盾性技术难题。

(3)通过坐立触发式供源机构的设置，在不借助额外动力源的情况下，仅利用操作人员坐在坐立接触板上的作用力作为触发柔性化无源抛光收卷集成机构运作的动力，通过Y型管对喷出的水流束进行集中和加压，使得无源水轮可较为快速的转动，从而通过无源水轮触发整个柔性化无源抛光收卷集成机构运作进行运作，实现了现有技术难以解决的纳米晶带材抛光的动力来源问题。

(4)通过柔性化无源抛光收卷集成机构的设置，在实现抛光的同时，也在不借助额外动力源的情况下实现了纳米晶带材的自动收卷，在生产车间内十分便于对刚生产出的纳米晶带材进行处理，有利于进行后续的其他操作。

(5)泡沫塑料材质的收卷圆盘质量较轻，无源水轮的转动力完全可以带动收卷圆盘进行转动，且设置了两组的柔性化无源抛光收卷集成机构使得本装置的抛光过程运行效率更高，能够使两名操作人员在坐立接触板上同时操作，极大地节约了使用成本和操作时间。

(6)自服务型间歇运动式控尘机构、柔性化无源抛光收卷集成机构、坐立触发式供源机构的设置，利用结构简单且功能丰富的结构，实现了机构的免维护，不需电源的节能环保的设计使得本发明的运行和制造成本很低，具有开阔的适用范围和前景。

(7)主容纳外壳中留下的水还起到了收集抛光残渣颗粒和防止粉尘飘散的效果，进一步保障了周围操作人员的健康问题，且主容纳外壳中留下的水能起到一定的降温效果，对抛光后纳米晶带材的表面进行一定程度的降温处理。

(8)抛光过程中的残渣颗粒直接沿着倾斜的的倾斜导向侧边落入主容纳外壳中，辅助残渣进行收集，节省了操作步骤。

附图说明

图1为本发明提供的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置的主视结构示意图；

图2为本发明提供的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置的剖面图；

图3为本发明提供的自服务型间歇运动式控尘机构的结构示意图；

图4为本发明提供的自服务型间歇运动式控尘机构的剖面示意图；

图5为本发明提供的过渡化自服务体融化后的自服务型间歇运动式控尘机构的运行状态示意图；

图6为本发明提供的坐立触发式供源机构的俯视示意图；

图7为本发明提供的坐立触发式供源机构的俯视剖面图；

图8为图4的A部分的局部放大图；

图9为图4的B部分的局部放大图。

其中，1、自服务型间歇运动式控尘机构，2、柔性化无源抛光收卷集成机构，3、坐立触发式供源机构，4、主容纳外壳，5、支撑脚，6、过渡化自服务体，7、过渡化通孔，8、支撑骨架，9、介质生成齿环，10、运动式介质生成架，11、介质生成小孔，12、平衡杆，13、端部平衡重块，14、内侧传动齿，15、间歇摆杆，16、间歇滑动珠，17、降落重块，18、连接绳，19、连接轮，20、缠绕柱，21、间歇转动棘轮，22、棘轮间歇滑槽，23、充水囊，24、坐立支撑架，25、Y型管，26、分支端，27、出水端，28、坐立接触板，29、坐立升降导向杆，30、无源水轮，31、水轮转轴，32、收卷圆盘，33、粘性层，34、上方抛光辊，35、上方抛光支架，36、下方抛光辊，37、下方抛光支架，38、防飞溅支架，39、倾斜导向侧边，40、进入孔，41、进出孔，42、纳米晶带材本体，43、防漏塞。

附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

如图1-图2所示，本发明提供了一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，包括自服务型间歇运动式控尘机构1、柔性化无源抛光收卷集成机构2、坐立触发式供源机构3、主容纳外壳4和支撑脚5，支撑脚5固接于主容纳外壳4的侧壁上，坐立触发式供源机构3设于主容纳外壳4上，柔性化无源抛光收卷集成机构2设于主容纳外壳4上，自服务型间歇运动式控尘机构1设于主容纳外壳4上。

如图1、图3-图5、图8和图9所示，自服务型间歇运动式控尘机构1包括过渡化自服务体6、过渡化通孔7、支撑骨架8、介质生成齿环9、运动式介质生成架10、介质生成小孔11、平衡杆12、端部平衡重块13、内侧传动齿14、间歇摆杆15、间歇滑动珠16、降落重块17、连接绳18、连接轮19、缠绕柱20、间歇转动棘轮21和棘轮间歇滑槽22，过渡化通孔7贯穿设于主容纳外壳4的侧壁上，过渡化通孔7设有两组，支撑骨架8固接于主容纳外壳4的外壁上，内侧传动齿14分布于支撑骨架8内的两侧，平衡杆12的中心点铰接于主容纳外壳4的外壁上，运动式介质生成架10的中心铰接于平衡杆12的两端，运动式介质生成架10设有两组，介质生成齿环9固接于运动式介质生成架10上，介质生成小孔11贯穿阵列设于运动式介质生成架10上，内侧传动齿14和介质生成齿环9之间啮合连接，过渡化自服务体6的一端贯穿过渡化通孔7且弯曲延伸至主容纳外壳4内，过渡化自服务体6的另一端卡接于平衡杆12上，过渡化自服务体6上下设有两组，端部平衡重块13固接于平衡杆12的两端，间歇摆杆15固接于平衡杆12的底部，间歇摆杆15对称设有两组，间歇滑动珠16固接于间歇摆杆15的底部，连接轮19转动设于主容纳外壳4的外壁上，间歇转动棘轮21转动设于主容纳外壳4的外壁上，缠绕柱20固接于间歇转动棘轮21上，连接绳18的一端缠绕设于缠绕柱20上，连接绳18的另一端穿过于连接轮19上，降落重块17设于连接绳18的一端，棘轮间歇滑槽22设于间歇转动棘轮21的各个边上，间歇滑动珠16和棘轮间歇滑槽22之间嵌合滑动连接。

如图1、图2、图6和图7所示，坐立触发式供源机构3包括充水囊23、坐立支撑架24、Y型管25、分支端26、出水端27、坐立接触板28、坐立升降导向杆29、无源水轮30和水轮转轴31，坐立支撑架24固接于主容纳外壳4的外壁上，充水囊23固接于坐立支撑架24上，坐立升降导向杆29固接于坐立支撑架24上，坐立接触板28贯穿滑动设于坐立升降导向杆29上，充水囊23、坐立支撑架24、坐立接触板28和坐立升降导向杆29设有两组，Y型管25贯穿固接于主容纳外壳4的侧壁上，分支端26分两组设于Y型管25上，出水端27设于Y型管25上，分支端26贯穿于坐立支撑架24且连通设于充水囊23上，水轮转轴31贯穿转动设于主容纳外壳4上，无源水轮30设于水轮转轴31上。

如图1、图2所示，柔性化无源抛光收卷集成机构2包括收卷圆盘32、粘性层33、上方抛光辊34、上方抛光支架35、下方抛光辊36、下方抛光支架37、防飞溅支架38、倾斜导向侧边39、进入孔40、进出孔41和纳米晶带材本体42，收卷圆盘32固接于水轮转轴31的端部，粘性层33设于收卷圆盘32上，防飞溅支架38固接于主容纳外壳4上，倾斜导向侧边39设于防飞溅支架38的两侧，进入孔40设于防飞溅支架38上，进出孔41设于防飞溅支架38上，上方抛光支架35固接于防飞溅支架38的内壁上，下方抛光支架37固接于防飞溅支架38的内壁上，上方抛光辊34转动设于上方抛光支架35上，下方抛光辊36转动设于下方抛光支架37上，上方抛光辊34和下方抛光辊36交错设置，纳米晶带材本体42的一端穿过于进入孔40，纳米晶带材本体42的另一端穿过于进出孔41且设于粘性层33上，纳米晶带材本体42的一面摩擦贴合设于上方抛光辊34上，纳米晶带材本体42的另一面摩擦贴合设于下方抛光辊36上。

如图2所示，为了防止充水囊23中的水不慎流出，出水端27上设有防漏塞43，为了使柔性化无源抛光收卷集成机构2正常运作，出水端27对准于无源水轮30上，确保能带动无源水轮30转动。

如图1、图2所示，为了提升本发明方案的使用效率，柔性化无源抛光收卷集成机构2分两组镜像设于主容纳外壳4的两侧，自服务型间歇运动式控尘机构1分两组镜像设于主容纳外壳4的外壁上。

为了实现自服务型间歇运动式控尘机构1的自动化控制，过渡化自服务体6由水溶纸材料制成，过渡化自服务体6遇水后融化，过渡化自服务体6经多次折叠卷曲制成，过渡化自服务体6实现了主容纳外壳4中无水时卡住平衡杆12和主容纳外壳4中有水时吸水融化并触发整个自服务型间歇运动式控尘机构1运作的效果。

如图8所示，运动式介质生成架10呈米字形。

如图1所示，为了减轻无源水轮30的负载，收卷圆盘32由泡沫塑料材质制成。

具体使用时，首先把生产出的纳米晶带材本体42端部穿过进入孔40，再绕过上方抛光辊34和下方抛光辊36，接着穿过进出孔41，使得纳米晶带材本体42的端部粘在粘性层33上，事先向充水囊23中充入足量的水，取下防漏塞43，然后使两名工作人员坐在坐立接触板28上，于是坐立接触板28沿着坐立升降导向杆29滑动降落，于是坐立接触板28对充水囊23进行挤压，使得充水囊23中的水通过Y型管25的两组分支端26喷出，并经过出水端27喷至无源水轮30上，于是无源水轮30转动，而此时充水囊23中喷出的水经过无源水轮30后全部积攒于主容纳外壳4内，无源水轮30又带动水轮转轴31转动，于是收卷圆盘32转动，使得纳米晶带材本体42沿着上方抛光辊34、下方抛光辊36持续运动，此时纳米晶带材本体42的两面与上方抛光辊34、下方抛光辊36充分摩擦接触，达到抛光的目的，但这种抛光过程仅是利用收卷圆盘32拉动纳米晶带材本体42收卷时的力进行的，不易使轻薄的纳米晶带材本体42发生破损，纳米晶带材本体42最后逐渐缠绕在收卷圆盘32上进行收集，可见，通过坐立触发式供源机构3的设置，在不借助额外动力源的情况下，仅利用操作人员坐在坐立接触板28上的作用力作为触发柔性化无源抛光收卷集成机构2运作的动力，通过Y型管25对喷出的水流束进行集中和加压，使得无源水轮30可较为快速的转动，从而通过无源水轮30触发整个柔性化无源抛光收卷集成机构2运作进行运作，实现了现有技术难以解决的纳米晶带材抛光的动力来源问题，通过设置柔性化无源抛光收卷集成机构2，将利用抛光设备对纳米晶带材进行抛光操作的方式作出逆向思维上的改变，利用拉动纳米晶带材时纳米晶带材与上下交错设置的多组上方抛光辊34和下方抛光辊36充分接触的运动过程，巧妙地实现了纳米晶带材的双面抛光效果，本发明基于动态化原理，将常规情况下静态状态的纳米晶带材的抛光转换为动态的运动过程，创造性地实现了较为柔性的间接抛光效果，解决了既要对纳米晶带材进行抛光，又不能因抛光过程导致纳米晶带材本身破损的矛盾性技术难题；初始状态时经多次折叠卷曲制成的过渡化自服务体6能够卡住平衡杆12使其不转动，而此时的过渡化自服务体6很快吸收了主容纳外壳4内的一部分水，于是过渡化自服务体6很快就融化变软，不再阻挡平衡杆12的运动轨迹，使得平衡杆12能够自由转动，由于降落重块17的重力作用，使得降落重块17逐渐下落，于是降落重块17连接的连接绳18沿着连接轮19进行滚动，带动缠绕柱20转动，此时带动间歇转动棘轮21进行顺时针转动，使得右侧的间歇滑动珠16沿着棘轮间歇滑槽22进行滑动，再沿着左上方相邻的棘轮间歇滑槽22进行滑动，于是通过右侧的间歇滑动珠16将右侧的间歇摆杆15抬起，使得平衡杆12沿着其中心点进行转动，此时右侧的间歇滑动珠16逐渐脱离棘轮间歇滑槽22，且此时平衡杆12的右端翘起，而左侧的间歇摆杆15随着平衡杆12的摆动逐渐使得左侧的间歇滑动珠16贴合滑动于棘轮间歇滑槽22上，而间歇转动棘轮21继续进行顺时针转动，于是左侧的间歇滑动珠16沿着棘轮间歇滑槽22滑动，逐渐将左侧的间歇摆杆15抬起，此时左侧的间歇滑动珠16渐渐脱离棘轮间歇滑槽22，而此时平衡杆12的左端翘起，于是又使得右侧的间歇滑动珠16沿着棘轮间歇滑槽22进行滑动，如此循环往复，使得平衡杆12间歇地往复翻转，直至降落重块17落在地面上，平衡杆12便不会运动，而平衡杆12往复翻转时，两端的介质生成齿环9沿着两侧的内侧传动齿14进行啮合滚动，于是使得两组介质生成齿环9往复转动，使得运动式介质生成架10往复转动，事先在运动式介质生成架10和介质生成小孔11上涂上足量的制备好的泡泡液，于是往复转动的运动式介质生成架10使得介质生成小孔11与空气充分接触，迅速生成大量的泡泡，对抛光时产生的粉尘进行湿润，于是粉尘降落至主容纳外壳4中的水中，不会再次飞扬，而主容纳外壳4中初始状态无水，自服务型间歇运动式控尘机构1不会工作，可见，通过基于自服务原理设置的自服务型间歇运动式控尘机构1，在不借助任何传感器以及传统驱动设备的情况下，仍然实现了效果显著的粉尘控制的效果，巧妙地利用了过渡化自服务体6遇到主容纳外壳4中的水后很快融化变软的特性，实现了在主容纳外壳4无水时能够卡住平衡杆12，而主容纳外壳4中有水时吸水融化并触发整个自服务型间歇运动式控尘机构1运作的智能化效果，克服了只有采用传感器配合动力源才能实现自动化控制的技术偏见，最后，抛光过程中的残渣也会经过倾斜导向侧边39进入主容纳外壳4中，而纳米晶带材本体42被收卷在收卷圆盘32上，便于后续对其进行处理。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

以上对本发明及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本发明的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：包括自服务型间歇运动式控尘机构(1)、柔性化无源抛光收卷集成机构(2)、坐立触发式供源机构(3)、主容纳外壳(4)和支撑脚(5)，所述支撑脚(5)固接于主容纳外壳(4)的侧壁上，所述坐立触发式供源机构(3)设于主容纳外壳(4)上，所述柔性化无源抛光收卷集成机构(2)设于主容纳外壳(4)上，所述自服务型间歇运动式控尘机构(1)设于主容纳外壳(4)上。

2.根据权利要求1所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述自服务型间歇运动式控尘机构(1)包括过渡化自服务体(6)、过渡化通孔(7)、支撑骨架(8)、介质生成齿环(9)、运动式介质生成架(10)、介质生成小孔(11)、平衡杆(12)、端部平衡重块(13)、内侧传动齿(14)、间歇摆杆(15)、间歇滑动珠(16)、降落重块(17)、连接绳(18)、连接轮(19)、缠绕柱(20)、间歇转动棘轮(21)和棘轮间歇滑槽(22)，所述过渡化通孔(7)贯穿设于主容纳外壳(4)的侧壁上，所述过渡化通孔(7)设有两组，所述支撑骨架(8)固接于主容纳外壳(4)的外壁上，所述内侧传动齿(14)分布于支撑骨架(8)内的两侧，所述平衡杆(12)的中心点铰接于主容纳外壳(4)的外壁上，所述运动式介质生成架(10)的中心铰接于平衡杆(12)的两端，所述运动式介质生成架(10)设有两组，所述介质生成齿环(9)固接于运动式介质生成架(10)上，所述介质生成小孔(11)贯穿阵列设于运动式介质生成架(10)上，所述内侧传动齿(14)和介质生成齿环(9)之间啮合连接，所述过渡化自服务体(6)的一端贯穿过渡化通孔(7)且弯曲延伸至主容纳外壳(4)内，所述过渡化自服务体(6)的另一端卡接于平衡杆(12)上，所述过渡化自服务体(6)上下设有两组，所述端部平衡重块(13)固接于平衡杆(12)的两端，所述间歇摆杆(15)固接于平衡杆(12)的底部，所述间歇摆杆(15)对称设有两组，所述间歇滑动珠(16)固接于间歇摆杆(15)的底部，所述连接轮(19)转动设于主容纳外壳(4)的外壁上，所述间歇转动棘轮(21)转动设于主容纳外壳(4)的外壁上，所述缠绕柱(20)固接于间歇转动棘轮(21)上，所述连接绳(18)的一端缠绕设于缠绕柱(20)上，所述连接绳(18)的另一端穿过于连接轮(19)上，所述降落重块(17)设于连接绳(18)的一端，所述棘轮间歇滑槽(22)设于间歇转动棘轮(21)的各个边上，所述间歇滑动珠(16)和棘轮间歇滑槽(22)之间嵌合滑动连接。

3.根据权利要求2所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述坐立触发式供源机构(3)包括充水囊(23)、坐立支撑架(24)、Y型管(25)、分支端(26)、出水端(27)、坐立接触板(28)、坐立升降导向杆(29)、无源水轮(30)和水轮转轴(31)，所述坐立支撑架(24)固接于主容纳外壳(4)的外壁上，所述充水囊(23)固接于坐立支撑架(24)上，所述坐立升降导向杆(29)固接于坐立支撑架(24)上，所述坐立接触板(28)贯穿滑动设于坐立升降导向杆(29)上，所述充水囊(23)、坐立支撑架(24)、坐立接触板(28)和坐立升降导向杆(29)设有两组，所述Y型管(25)贯穿固接于主容纳外壳(4)的侧壁上，所述分支端(26)分两组设于Y型管(25)上，所述出水端(27)设于Y型管(25)上，所述分支端(26)贯穿于坐立支撑架(24)且连通设于充水囊(23)上，所述水轮转轴(31)贯穿转动设于主容纳外壳(4)上，所述无源水轮(30)设于水轮转轴(31)上。

4.根据权利要求3所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述柔性化无源抛光收卷集成机构(2)包括收卷圆盘(32)、粘性层(33)、上方抛光辊(34)、上方抛光支架(35)、下方抛光辊(36)、下方抛光支架(37)、防飞溅支架(38)、倾斜导向侧边(39)、进入孔(40)、进出孔(41)和纳米晶带材本体(42)，所述收卷圆盘(32)固接于水轮转轴(31)的端部，所述粘性层(33)设于收卷圆盘(32)上，所述防飞溅支架(38)固接于主容纳外壳(4)上，所述倾斜导向侧边(39)设于防飞溅支架(38)的两侧，所述进入孔(40)设于防飞溅支架(38)上，所述进出孔(41)设于防飞溅支架(38)上，所述上方抛光支架(35)固接于防飞溅支架(38)的内壁上，所述下方抛光支架(37)固接于防飞溅支架(38)的内壁上，所述上方抛光辊(34)转动设于上方抛光支架(35)上，所述下方抛光辊(36)转动设于下方抛光支架(37)上，所述上方抛光辊(34)和下方抛光辊(36)交错设置，所述纳米晶带材本体(42)的一端穿过于进入孔(40)，所述纳米晶带材本体(42)的另一端穿过于进出孔(41)且设于粘性层(33)上，所述纳米晶带材本体(42)的一面摩擦贴合设于上方抛光辊(34)上，所述纳米晶带材本体(42)的另一面摩擦贴合设于下方抛光辊(36)上。

5.根据权利要求4所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述出水端(27)上设有防漏塞(43)。

6.根据权利要求5所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述出水端(27)对准于无源水轮(30)上，确保能带动无源水轮(30)转动。

7.根据权利要求6所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述柔性化无源抛光收卷集成机构(2)分两组镜像设于主容纳外壳(4)的两侧，所述自服务型间歇运动式控尘机构(1)分两组镜像设于主容纳外壳(4)的外壁上。

8.根据权利要求7所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述过渡化自服务体(6)由水溶纸材料制成，所述过渡化自服务体(6)遇水后融化，所述过渡化自服务体(6)经多次折叠卷曲制成，过渡化自服务体(6)实现了主容纳外壳(4)中无水时卡住平衡杆(12)和主容纳外壳(4)中有水时吸水融化并触发整个自服务型间歇运动式控尘机构(1)运作的效果。

9.根据权利要求8所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述运动式介质生成架(10)呈米字形。

10.根据权利要求9所述的一种用于纳米晶带材生产的打磨抛光装置，其特征在于：所述收卷圆盘(32)由泡沫塑料材质制成。

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