CN114247499A - 一种纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺 - Google Patents

Abstract

本发明属于硅微粉生产技术领域，具体的说是一种纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺；包括本体、进料模块、集料模块以及控制模块；还包括动力模块以及研磨模块，研磨模块采用振动式研磨，研磨模块包括研磨辊、与研磨辊配合的弧形的研磨台、滑动块以及用于连接滑动块与研磨台的支撑柱；通过设置偏心设置的研磨辊以及能够上下运动的研磨台间的相互配合，在对石英进行研磨的同时，能够使得研磨台上下抖动，降低了石英粉附着在研磨台上的可能，同时，研磨台在抖动中能够使得石英粉较多的集中于研磨台的最低点，有利于下次研磨辊与研磨台配合研磨，从而提高了对石英的研磨效率，进而满足了球形硅微粉粒度更细的要求。

Description

一种纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺

技术领域

本发明属于硅微粉生产技术领域，具体的说是一种纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺。

背景技术

硅微粉作为印制电路板(PCB)的基本材料，可以说覆铜板(CCL)是现代电子产业发展的基石，其基本特性和加工性能在很大程度上影响着电路板的品质和可靠性；近年来随着集成电路向超大规模、超高速、高密度、大功率、多功能方向的快速发展，对覆铜板的耐热性能提出了更加严峻的挑战；而硅微粉具有优良的物理、化学性能，并具有介电性能优异、热膨胀系数低、导热系数高、耐温性能好、耐酸碱腐蚀、粒度分布可控等优点，最主要的是它的平均粒径最小可达0.25um，熔点高达1700℃以上；

目前市场上主要有四类硅微粉品种被用于覆铜板的生产，分别为熔融型硅微粉、结晶型硅微粉、复合型硅微粉以及球形硅微粉；其中球形硅微粉因为应力分布均匀和堆积密度高，可以有效降低环氧树脂的粘度并且增加流动性，而且还具有较大的表面积；同时，随着球形硅微粉逐步渗透到航空、航天、精细化工及特种陶瓷等高新技术领域中，是环氧树脂体系中的一种重要填料，可以减少至少30％环氧树脂消耗量，因此，具有着良好的市场前景；现阶段国际市场在球形硅微粉需求量上已经达到30万吨，价值也为数百亿元；

随着，近年来我国微电子工业发展速度的明显提高，集成电路的大规模和超大规模化发展，在封装材料上有了更高的要求，除了要求球形硅微粉在纯度上更高外，尤其要求球形硅微粉的粒度更细；而目前国内球形硅微粉厂家生产成本较高，导致并不能形成产业链式的生产，以满足市场上的需求量；另外，现有的在对球形硅微粉进行研磨中，其研磨率较低，并不满足球形硅微粉粒度更细的要求；

因此，急需研究一款如何使得球形硅微粉的粒度更细，研磨效率更高，且能够实现产业链式生产的纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺。

发明内容

为了弥补现有技术的不足，解决现有球形硅微粉粒度不满足要求，研磨效率低，且不能满足批量生产的问题，本发明提出了一种纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种纳米级球形硅微粉的生产装置，包括本体、进料模块、集料模块以及控制模块；还包括：

动力模块，动力模块用于为研磨模块提供动力；

研磨模块，所述研磨模块设置在本体内部，研磨模块采用振动式研磨，研磨模块包括研磨辊、与研磨辊配合的弧形的研磨台、滑动块以及用于连接滑动块与研磨台的支撑柱；所述本体内壁上对称设有滑动槽；每个所述滑动块通过复位弹簧连接在滑动槽的内壁上；所述研磨台上均匀开设一组一号孔；所述研磨辊通过一号轴转动安装在本体内壁上，且一号轴与研磨辊偏心设置，偏心位置远离研磨台的一侧，一号轴与动力模块连接。

具体的，所述支撑柱为液压气缸，且液压气缸一端与研磨台连接，另一端铰接在滑动块的端面上；所述本体上设置有距离传感器，距离传感器与控制模块连接，距离传感器用于检测研磨台最低点与偏心设置的研磨辊外圈间的距离。

具体的，所述研磨台的下方设置有均匀开设有一组二号孔的弧形板；所述弧形板通过连接杆与研磨台连接，且弧形板上均匀设置有一组研磨球。

具体的，所述研磨台内开设有与一号孔连通的内腔，以及与内腔连通的出口；靠近弧形板一侧内腔的内壁所在平面与出口所在平面间的角度为30°；且内腔内设置有开设有一组三号孔的压板，压板通过弹性杆与连接杆连接，且压板的厚度沿压板中部自上至下逐渐减小。

具体的，所述出口处设置有一对相互配合的研磨轮，每个研磨轮通过二号轴转动安装在出口内壁上，每个二号轴两端设置有齿轮；所述弧形板两侧设置有与齿轮相互啮合的齿条，且弧形板下方设置有一端球接在弧形板上，另一端滑动安装在集料模块上的一号气缸。

具体的，靠近所述出口一侧的压板的下端面设置有开口朝向一对研磨轮的一号气囊。

具体的，所述一号轴为空心轴，且位于本体外部的空心轴与气源模块转动连接；所述研磨辊上对称设置有与空心的一号轴连通的一号通道，远离一号轴一侧的一号通道的一端朝向研磨台的最低点。

具体的，位于所述研磨台上侧的本体内壁上设置有引料板，且引料板并不阻碍研磨台在液压气缸作用下的摆动。

具体的，所述一号孔的孔径等于三号孔的孔径，三号孔的孔径、两研磨轮间的距离以及二号孔的孔径逐渐减小。

一种纳米级球形硅微粉的生产工艺，该生产工艺采用上述所述的生产装置，且生产工艺包括以下步骤：

S1：将破碎的石英投入到生产装置中，利用偏心设置的研磨辊与研磨台，压板与研磨台，一对相互配合的研磨轮，以及布置在弧形板上的研磨球间的相互配合，依次对石英进行粉碎研磨；

S2：将粉碎研磨后的石英粉依次进行筛分以及提纯处理；

S3：将石英粉送入到燃气-氧气产生的高温场中，在1600-2000℃的温度中进行熔融、冷却成球，最终形成高纯度球形硅微粉。

本发明的有益效果如下：

1.本发明所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺，通过研磨模块、压板、一对研磨轮以及研磨球对石英进行分级研磨，既能提高了对石英的研磨效果，使其获取的石英粉的粒度更细，从而能够满足球形硅微粉粒度更细的要求。

2.本发明所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺，通过设置偏心设置的研磨辊以及能够上下运动的研磨台间的相互配合，在对石英进行研磨的同时，能够使得研磨台上下抖动，降低了石英粉附着在研磨台上的可能，同时，研磨台在抖动中能够使得石英粉较多的集中于研磨台的最低点，有利于下次研磨辊与研磨台配合研磨，从而提高了对石英的研磨效率，进而满足了球形硅微粉粒度更细的要求。

3.本发明所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置及工艺，通过设置一号通道，且一号通道一端与气源模块连通，另一端朝向研磨台最低点，使得气源模块提供的高压气源作用于石英上，既能使得石英滚动以及吹动石英粉，又能对研磨台以及研磨辊上附着的石英粉进行清理，另外，石英在高压气源的作用下，降低了石英的研磨难度，同时，高压气源沿一号孔进入到内腔内，对压板产生挤压力，提高了压板对石英粉的碾压效果，从而提高了对石英的研磨效果，进而满足了球形硅微粉粒度更细的要求。

附图说明

下面结合附图对本发明作进一步说明。

图1是本发明的立体图；

图2是本发明的局部剖视图；

图3是图2中A处的局部放大图；

图4是图2中B处的局部放大图；

图5是图2中C处的局部放大图；

图6为本发明中弧形板的立体图；

图中：本体1、滑动槽11、引料板12、进料模块2、集料模块3、动力模块4、研磨模块5、研磨辊51、一号通道511、研磨台52、一号孔521、内腔522、出口523、滑动块53、支撑柱54、弧形板6、二号孔61、研磨球62、压板7、三号孔71、弹性杆72、研磨轮8、齿轮81、齿条82、一号气缸83、一号气囊84、气源模块9。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“坚直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确作为本发明的一种具体实施方式限定。此外，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

实施例一：

一种纳米级球形硅微粉的生产装置，如图1-图3所示，包括本体1、进料模块2、集料模块3以及控制模块；

进料模块2采用进料管，集料模块3采用滑动设置在本体1上的集料箱；

还包括：

动力模块4，动力模块4用于为研磨模块5提供动力；动力模块4采用电机；

研磨模块5，所述研磨模块5设置在本体1内部，研磨模块5采用振动式研磨，研磨模块5包括研磨辊51、与研磨辊51配合的弧形的研磨台52、滑动块53以及用于连接滑动块53与研磨台52的支撑柱54；所述本体1内壁上对称设有滑动槽11；每个所述滑动块53通过复位弹簧连接在滑动槽11的内壁上；所述研磨台52上均匀开设一组一号孔521；所述研磨辊51通过一号轴转动安装在本体1内壁上，且一号轴与研磨辊51偏心设置，偏心位置远离研磨台52的一侧，一号轴与动力模块4连接；

现有对于球形硅微粉除了要求在纯度上更高外，尤其要求球形硅微粉的粒度更细；而现有的在对球形硅微粉进行研磨中，其研磨率较低，并不满足球形硅微粉粒度更细的要求，归结在于，在对石英进行研磨中，研磨后的物质易附着在研磨件中，从而影响下一次对石英的研磨；本发明通过设置偏心设置的研磨辊51以及能够上下运动的研磨台52间的相互配合，在对石英进行研磨的同时，能够使得研磨台52上下抖动，降低了石英粉附着在研磨台52上的可能，同时，研磨台52在抖动中能够使得石英粉较多的集中于研磨台52的最低点，有利于下次研磨辊51与研磨台52配合研磨，从而提高了对石英的研磨效率，进而满足了球形硅微粉粒度更细的要求；

具体工作流程：

在对石英进行研磨前：

首先，通过滑动块53与支撑柱54配合对研磨台52进行支撑，并将研磨辊51偏心设置，且将偏心设置处设于远离研磨台52的一侧，同时，将滑动块53通过复位弹簧连接在滑动槽11中，将研磨辊51外圈离偏心处最远时记为a，研磨辊51外圈离偏心处最近时记为b，当从b向a处运动时，研磨辊51与研磨台52配合研磨并逐渐推动研磨台52向下运动，且在a处时，研磨辊51与研磨台52配合研磨效果优于其他处，当从a向b处运动时，研磨辊51逐渐不在对研磨台52进行挤压，研磨台52在复位弹簧的作用下复位，复位弹簧在选择时的要求为，至少能够承受滑动块53、支撑柱54以及研磨台52的重量；

在对石英进行研磨时：

首先，将石英通过进料模块2投入到本体1内部，石英下落时撞击研磨辊51，实现初级破裂，并沿研磨辊51外圈进入到研磨台52处，且由于研磨台52为弧形的，则石英落至研磨台52的最低点，然后，停止投入石英，并通过控制模块控制动力模块4，为研磨模块5提供动力源，利用研磨辊51以及研磨台52间的相互配合对石英进行研磨；当从b向a处运动时，研磨辊51与研磨台52配合研磨并逐渐推动研磨台52向下运动，且在a处时，研磨辊51与研磨台52配合研磨效果优于其他处，当从a向b处运动时，研磨辊51逐渐不在对研磨台52进行挤压，研磨台52在复位弹簧的作用下复位，研磨后的粒径小于一号孔521的石英粉通过一号孔521下落，粒径大于一号孔521的石英粉留在研磨台52并与研磨辊51配合继续研磨；下落的石英粉通过集料模块3收集，后续将收集的石英粉依次进行筛分以及提纯，并将石英粉送入到燃气-氧气产生的高温场中，进行高温熔融、冷却成球，最终形成高纯度球形硅微粉。

实施例二：

与实施例一不同在于，如图2所示，所述支撑柱54为液压气缸，且液压气缸一端与研磨台52连接，另一端铰接在滑动块53的端面上；所述本体1上设置有距离传感器，距离传感器与控制模块连接，距离传感器用于检测研磨台52最低点与偏心设置的研磨辊51外圈间的距离；

位于所述研磨台52上侧的本体1内壁上设置有引料板12，且引料板12并不阻碍研磨台52在液压气缸作用下的摆动；

通过将支撑柱54设为液压气缸，并设置距离传感器，通过距离传感器检测研磨台52最低点与偏心设置的研磨辊51外圈间的距离，并将数据反馈至控制模块，控制液压气缸工作，避免液压气缸工作，使得研磨台52摆动时，避免研磨台52与研磨辊51碰撞，而能够使得石英粉在研磨台52上的充分流动，加快小于一号孔521粒径的石英粉下落，避免石英粉附着在研磨台52上，从而提高了对石英的研磨效果，进而满足了球形硅微粉粒度更细的要求；

通过设置引料板12，使得投入的石英均向研磨台52的中部引导，便于研磨台52与研磨辊51配合并对石英进行研磨，另外，引料板12并不阻碍研磨台52在液压气缸作用下的摆动，保证液压气缸带动研磨台52进行正常的摆动，若研磨台52碰到引料板12，可以增大研磨台52的抖动幅度，进一步提高了附着在研磨台52上的石英粉脱落的可能，从而提高了对石英的研磨效果，进而满足了球形硅微粉粒度更细的要求；

具体工作流程：

与实施例一的具体工作流程不同在于，通过距离传感器实时检测研磨台52最低点与偏心设置的研磨辊51外圈间的距离，并将数据反馈至控制模块，控制模块控制液压气缸的工作；同时由于研磨台52的两端与本体1内壁存在摆动区域，当位于一侧的液压气缸进行伸长工作时，另一侧的液压气缸进行收缩工作，研磨台52向进行收缩工作的液压气缸的一侧摆动，实现对石英粉的筛分，加快小于一号孔521粒径的石英粉下落。

实施例三：

与实施例一不同在于，如图2和图4以及图6所示，所述研磨台52的下方设置有均匀开设有一组二号孔61的弧形板6；所述弧形板6通过连接杆与研磨台52连接，且弧形板6上均匀设置有一组研磨球62；

所述一号孔521的孔径大于二号孔61的孔径；

通过设置弧形板6以及研磨球62，通过弧形板6、研磨球62以及液压气缸间的相互配合，使得研磨球62在弧形板6上来回运动，并对处于弧形板6上的石英粉进行再一次的研磨，从而进一步满足了球形硅微粉粒度更细的要求；

具体工作流程：

与实施例一的具体工作流程不同在于，由于弧形板6通过连接杆连接在研磨台52上，因此，当研磨台52来回摆动时，弧形板6随研磨台52进行相应的摆动，从而使得研磨球62在弧形板6上来回运动，且由于一号孔521的孔径大于二号孔61的孔径，因此，弧形板6上具有较多的石英粉，来回运动的研磨球62对石英粉进行再次的研磨，从而进一步减小了石英粉的粒度，进而进一步满足了球形硅微粉粒度更细的要求；当研磨后的石英粉小于二号孔61的孔径时，石英粉下落并与集料模块3中进行收集。

实施例四：

与实施例三不同在于，如图2和图4以及图6所示，所述出口523处设置有一对相互配合的研磨轮8，每个研磨轮8通过二号轴转动安装在出口523内壁上，每个二号轴两端设置有齿轮81；所述弧形板6两侧设置有与齿轮81相互啮合的齿条82，且弧形板6下方设置有一端球接在弧形板6上，另一端滑动安装在集料模块3上的一号气缸83；

所述一号孔521的孔径、两研磨轮8间的距离以及二号孔61的孔径逐渐减小；

通过设置一号气缸83，利用一号气缸83作用，使得齿条82与齿轮81啮合传动，从而使得两研磨轮8超向相互靠近的一侧转动，再次对石英粉进行碾压研磨，进一步提高对石英粉的研磨效果；

具体工作流程：

与实施例三的具体工作流程不同在于，当一号气缸83进行伸长工作时，推动弧形板6向靠近研磨台52的一侧运动，由于齿条82设置在弧形板6上，使得齿条82向靠近研磨台52的一侧运动，同时，由于齿条82与齿轮81啮合，从而使得两研磨轮8转动，并配合对石英粉进行研磨；当石英粉的粒径小于两研磨轮8间的距离时，石英粉下落并落至弧形板6上；配合研磨球62对落至弧形板6上的石英粉进行研磨，待石英粉粒径小于二号孔61的孔径时，石英粉下落并于集料模块3中进行收集。

实施例五：

与实施例四不同在于，如图1和图3以及图5所示，所述研磨台52内开设有与一号孔521连通的内腔522，以及与内腔522连通的出口523；靠近弧形板6一侧内腔522的内壁所在平面与出口523所在平面间的角度为30°；且内腔522内设置有开设有一组三号孔71的压板7，压板7通过弹性杆72与连接杆连接，且压板7的厚度沿压板7中部自上至下逐渐减小；

所述三号孔71的孔径等于一号孔521的孔径，三号孔71的孔径、两研磨轮8间的距离以及二号孔61的孔径依次减少；

通过设置开设有一组三号孔71的压板7，且压板7的厚度沿压板7中部自上至下逐渐减小，保证从一号孔521下落的石英粉进入到三号孔71内，且处于压板7的下侧，并通过弧形板6、一号气缸83以及弹性杆72间的相互配合，使得压板7在内腔522内上下运动，并对石英粉进行再次的碾压，进一步降低石英粉的粒度，从而进一步满足球形硅微粉粒度更细的要求；

具体工作流程：

与实施例四的具体工作流程不同在于，由于三号孔71的孔径等于一号孔521的孔径，使得从一号孔521落入到内腔522内的石英粉沿压板7的截面流动，并进入到三号孔71内，当弧形板6向靠近研磨台52的一侧运动时，弹性杆72推动压板7向远离出口523的一侧运动，石英粉离开三号孔71并处于压板7下侧，且由于三号孔71的孔径大于两研磨轮8间的距离，则进入内腔522的石英粉并不立刻从出口523处下落，当弧形板6向远离研磨台52的一侧运动时，一方面，反向转动的研磨轮8向石英粉超斜上方带动，另一方面，弧形板6通过弹性杆72带动压板7对石英粉进行碾压，进一步实现对石英粉的研磨；研磨后的石英粉沿内腔522内壁流动至两研磨轮8间，并当两研磨轮8相向转动时，再次实现对石英粉的研磨，待石英粉粒径小于两研磨轮8间的距离时，石英粉下落至弧形板6上，并在研磨球62的配合下再次进行研磨，使得石英粉粒径小于二号孔61的孔径，而落至集料模块3进行收集。

实施例六：

与实施例五不同在于，如图2以及图4所示，靠近所述出口523一侧的压板7的下端面设置有开口朝向一对研磨轮8的一号气囊84；

所述一号轴为空心轴，且位于本体1外部的空心轴与气源模块9转动连接；所述研磨辊51上对称设置有与空心的一号轴连通的一号通道511，远离一号轴一侧的一号通道511的一端朝向研磨台52的最低点；气源模块9包括套设在一号轴外圈上并与一号轴的空心部分连通转环，以及一端连通转环，另一端连通气泵；气泵通过软管以及转环向一号轴内通入高压气源，转环与一号轴间转动连接；

通过设置一号气囊84，利用气囊受挤压向外鼓气，鼓出的气体作用于两研磨轮8上，对研磨轮8进行清理，避免石英粉附着在两研磨轮8上，而影响后续对石英粉的研磨，从而提高了对石英的研磨效果，进而满足了球形硅微粉粒度更细的要求；

通过设置一号通道511，且一号通道511一端与气源模块9连通，另一端朝向研磨台52最低点，使得气源模块9提供的高压气源作用于石英上，既能使得石英滚动以及吹动石英粉，又能对研磨台52以及研磨辊51上附着的石英粉进行清理，另外，石英在高压气源的作用下，降低了石英的研磨难度，同时，高压气源沿一号孔521进入到内腔522内，对压板7产生挤压力，提高了压板7对石英粉的碾压效果，从而提高了对石英的研磨效果，进而满足了球形硅微粉粒度更细的要求；

具体工作流程：

与实施例五的具体工作流程不同在于，一方面，在研磨辊51配合研磨台52对石英进行粉碎研磨时，控制模块控制气源模块9提供高压气源，高压气源通过一号通道511作用于研磨台52、研磨辊51以及石英，提高对石英的粉碎研磨效率；另一方面，当压板7向靠近出口523的一侧运动时，压板7上的一号气囊84受到挤压，一号气囊84向外鼓气，鼓出的气体作用于两研磨轮8，实现对两研磨轮8的清理。

一种纳米级球形硅微粉的生产工艺，该生产工艺采用上述所述的生产装置，且生产工艺包括以下步骤：

S1：将破碎的石英投入到生产装置中，利用偏心设置的研磨辊51与研磨台52，压板7与研磨台52，一对相互配合的研磨轮8，以及布置在弧形板6上的研磨球62间的相互配合，依次对石英进行粉碎研磨；

S2：将粉碎研磨后的石英粉依次进行筛分以及提纯处理；

S3：将石英粉送入到燃气-氧气产生的高温场中，在1600-2000℃的温度中进行熔融、冷却成球，最终形成高纯度球形硅微粉。

上述研磨台52由两个部件焊接而成，并由此形成一组一号孔521、内腔522以及开口523，并预留弹性杆72运动的通道，且在将组成研磨台52的两个部件焊接前，将压板7放置在内腔522内，并将弹性杆72一端与压板7连接。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (10)

1.一种纳米级球形硅微粉的生产装置，包括本体(1)、进料模块(2)、集料模块(3)以及控制模块；其特征在于：还包括：

动力模块(4)，动力模块(4)用于为研磨模块(5)提供动力；

研磨模块(5)，所述研磨模块(5)设置在本体(1)内部，研磨模块(5)采用振动式研磨，研磨模块(5)包括研磨辊(51)、与研磨辊(51)配合的弧形的研磨台(52)、滑动块(53)以及用于连接滑动块(53)与研磨台(52)的支撑柱(54)；所述本体(1)内壁上对称设有滑动槽(11)；每个所述滑动块(53)通过复位弹簧连接在滑动槽(11)的内壁上；所述研磨台(52)上均匀开设一组一号孔(521)；所述研磨辊(51)通过一号轴转动安装在本体(1)内壁上，且一号轴与研磨辊(51)偏心设置，偏心位置远离研磨台(52)的一侧，一号轴与动力模块(4)连接。

2.根据权利要求1所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置，其特征在于：所述支撑柱(54)为液压气缸，且液压气缸一端与研磨台(52)连接，另一端铰接在滑动块(53)的端面上；所述本体(1)上设置有距离传感器，距离传感器与控制模块连接，距离传感器用于检测研磨台(52)最低点与偏心设置的研磨辊(51)外圈间的距离。

3.根据权利要求2所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置，其特征在于：所述研磨台(52)的下方设置有均匀开设有一组二号孔(61)的弧形板(6)；所述弧形板(6)通过连接杆与研磨台(52)连接，且弧形板(6)上均匀设置有一组研磨球(62)。

4.根据权利要求3所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置，其特征在于：所述研磨台(52)内开设有与一号孔(521)连通的内腔(522)，以及与内腔(522)连通的出口(523)；靠近弧形板(6)一侧内腔(522)的内壁所在平面与出口(523)所在平面间的角度为30°；且内腔(522)内设置有开设有一组三号孔(71)的压板(7)，压板(7)通过弹性杆(72)与连接杆连接，且压板(7)的厚度沿压板(7)中部自上至下逐渐减小。

5.根据权利要求4所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置，其特征在于：所述出口(523)处设置有一对相互配合的研磨轮(8)，每个研磨轮(8)通过二号轴转动安装在出口(523)内壁上，每个二号轴两端设置有齿轮(81)；所述弧形板(6)两侧设置有与齿轮(81)相互啮合的齿条(82)，且弧形板(6)下方设置有一端球接在弧形板(6)上，另一端滑动安装在集料模块(3)上的一号气缸(83)。

6.根据权利要求5所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置，其特征在于：靠近所述出口(523)一侧的压板(7)的下端面设置有开口朝向一对研磨轮(8)的一号气囊(84)。

7.根据权利要求1所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置，其特征在于：所述一号轴为空心轴，且位于本体(1)外部的空心轴与气源模块(9)转动连接；所述研磨辊(51)上对称设置有与空心的一号轴连通的一号通道(511)，远离一号轴一侧的一号通道(511)的一端朝向研磨台(52)的最低点。

8.根据权利要求2所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置，其特征在于：位于所述研磨台(52)上侧的本体(1)内壁上设置有引料板(12)，且引料板(12)并不阻碍研磨台(52)在液压气缸作用下的摆动。

9.根据权利要求5所述的一种纳米级球形硅微粉的生产装置，其特征在于：所述一号孔(521)的孔径等于三号孔(71)的孔径，三号孔(71)的孔径、两研磨轮(8)间的距离以及二号孔(61)的孔径逐渐减小。

10.一种纳米级球形硅微粉的生产工艺，其特征在于：该生产工艺采用权利要求1-9中任意一项所述的生产装置，且生产工艺包括以下步骤：

S1：将破碎的石英投入到生产装置中，利用偏心设置的研磨辊(51)与研磨台(52)，压板(7)与研磨台(52)，一对相互配合的研磨轮(8)，以及布置在弧形板(6)上的研磨球(62)间的相互配合，依次对石英进行粉碎研磨；

S2：将粉碎研磨后的石英粉依次进行筛分以及提纯处理；

S3：将石英粉送入到燃气-氧气产生的高温场中，在1600-2000℃的温度中进行熔融、冷却成球，最终形成高纯度球形硅微粉。

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