CN114245559A - 一种等离子体发生器和等离子体进气管路 - Google Patents
一种等离子体发生器和等离子体进气管路 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114245559A CN114245559A CN202111542384.6A CN202111542384A CN114245559A CN 114245559 A CN114245559 A CN 114245559A CN 202111542384 A CN202111542384 A CN 202111542384A CN 114245559 A CN114245559 A CN 114245559A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- plasma
- inlet pipeline
- communicated
- input end
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 40
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229940095676 wafer product Drugs 0.000 description 5
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
本发明公开一种等离子体发生器和等离子体进气管路，包括等离子体输入端(1)、至少一个反应腔室，以及至少一个进气管路，等离子体输入端(1)固定于反应腔室的外壁，进气管路一端与等离子体输入端(1)连通，另一端与对应反应腔室连通，进气管路包括混气腔室(2)，以及连通混气腔室(2)与等离子体输入端(1)的连接管(3)，混气腔室(2)固定于连通反应腔室的绝缘连接座(4)，连接管(3)具有预设长度，其中部能够产生变形或位移，以抵消受到的膨胀内力。本发明能够消除进气管路在等离子体流过时所受的膨胀内力，保证反应腔内工艺气体均匀分配，保证所获晶元产品的一致性。
Description
技术领域
本发明涉及等离子体发生器技术领域，具体涉及一种等离子体发生器和等离子体进气管路。
背景技术
现有技术等离子体发生器中，等离子体输入端与混气铝块之间通过刚性横管连通，当横管内有高温等离子体流过产生热膨胀时，横管会在膨胀内力的作用下推动混气铝块发生偏移，导致混气铝块与反应腔室绝缘安装座连接处的流通面积发生变化，进而导致通入反应腔室内的工艺气体不均匀，影响反应后所获得的晶元产品的一致性，而一致性差对于晶元产品是无法接受的。
发明内容
本发明的目的是提供一种等离子体发生器，消除进气管路在等离子体流过时所受的膨胀内力，保证反应腔内工艺气体均匀，保证所获得的晶元产品的一致性。
本发明的另一目的是提供一种等离子体进气管路，消除进气管路在等离子体流过时所受的膨胀内力，保证反应腔内工艺气体均匀，保证所获得的晶元产品的一致性。
为解决上述技术问题，本发明提供一种等离子体发生器，包括等离子体输入端、至少一个反应腔室，以及至少一个进气管路，所述等离子体输入端固定于所述反应腔室的外壁，所述进气管路一端与所述等离子体输入端连通，另一端与对应的所述反应腔室连通；
所述进气管路包括混气腔室，以及连通所述混气腔室与所述等离子体输入端的连接管，所述混气腔室固定于连通所述反应腔室的绝缘连接座，所述连接管具有预设长度，其中部能够产生变形或位移，以抵消受到的膨胀内力。
如此，混气腔室固定于绝缘连接座的位置不会受力发生偏移，保证混气腔室与绝缘连接座连接处的流通面积始终保持一致，当需要进行反应时，由进气管、混气腔室进入反应腔室内的工艺气体是均匀的，进而保证反应腔室内所获得的晶元产品的一致性。
可选地，所述连接管包括波纹管，以及位于所述波纹管两端的两个固定法兰，所述固定法兰用于与所述混气腔室或所述等离子体输入端固定连接。
可选地，所述连接管包括至少两个波纹管，还包括至少一个连接法兰，用于连接相邻两个所述波纹管。
可选地，所述连接管还包括第一连接杆，用于与端部的两个所述固定法兰固定连接。
可选地，中部的所述连接法兰设置有过孔，所述第一连接杆可活动地穿过所述过孔。
可选地，所述连接法兰的数量为两个，还包括第二连接杆，所述第二连接杆用于固定靠近第一端的所述连接法兰与第二端的所述固定法兰。
可选地，所述等离子体输入端为T型三通阀，包括一个进气口和两个出气口，所述反应腔和所述进气管路的数量为两个，所述出气口与所述进气管路一一对应连通。
可选地，所述混气腔室的材质为铝或铝合金；
和/或，所述绝缘连接座的材质为陶瓷。
本发明还提供一种等离子体进气管路，包括等离子体输入端，以及至少一个进气管路，所述进气管路一端与所述等离子体输入端连通，另一端一一对应地与反应腔室连通；
所述进气管路包括混气腔室，以及连通所述混气腔室与所述等离子体输入端的连接管，所述混气腔室固定于连通所述反应腔室的绝缘连接座，所述连接管中部能够受力产生变形或位移，以使其两端长度固定。
附图说明
图1为本发明所提供等离子体进气管路一种具体实施例的结构示意图；
图2为图1等离子体进气管路的主视图；
图3为图1等离子体进气管路中连接管的结构示意图；
图4为图3连接管另一角度的结构示意图；
其中，图1-图4中的附图标记说明如下：
1-等离子体输入端；2-混气腔室；3-连接管；31-波纹管；32-固定法兰；33-连接法兰；34-第一连接杆；35-第二连接杆；4-绝缘连接座；5-反应腔顶壁；6-进气管。
具体实施方式
为了使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的详细说明。
本文中所述“第一”、“第二”等词，仅是为了便于描述结构和/或功能相同或者相类似的两个以上的结构或者部件，并不表示对于顺序和/或重要性的某种特殊限定。
请参考图1-图2，图1为本发明所提供等离子体进气管路一种具体实施例的结构示意图；图2为图1等离子体进气管路的主视图。
本发明提供一种等离子体发生器，包括等离子体输入端1、两个反应腔室，以及两个进气管路，等离子体输入端1固定于反应腔顶壁5，具体采用T型三通阀的形式，包括一个进气口和两个出气口，进气管路一端与等离子体输入端1的出气口连通，另一端地与对应反应腔室连通，因此，等离子体便经由进气管路进入反应腔室内部，起到清洁的作用。
进气管路包括混气腔室2，以及连通混气腔室2与等离子体输入端1的连接管3，混气腔室2固定于连通反应腔室的绝缘连接座4，连接管3具有预设长度，即其轴向长度可根据需求调整，且调整后保持固定，连接管3中部还能够产生变形或位移，以抵消高温等离子体通过连接管3时，连接管3受到的膨胀内力；如此，混气腔室2固定于绝缘连接座4的位置不会受力发生偏移，保证两端混气腔室2与绝缘连接座4连接处的流通面积始终保持一致，当需要进行反应时，由进气管6、混气腔室2进入两个反应腔室内的工艺气体是均匀的，进而保证不同反应腔室内所获得的晶元产品的一致性。
当然，等离子体输入端1的结构形式不做限制，反应腔室和进气管路的数量也不做限制，如反应腔室和进气管路的数量还可以为一个，或三个以上。当反应腔室和进气管路的数量为一个时，可以保证同一反应腔室内不同批次产品的一致性。
本实施例中，混气腔室2安装于绝缘连接座4时，混气腔室2与绝缘连接座4中心对中。当然，实际应用中，并不局限于该布置方式，只要保证每一个混气腔室2与绝缘连接座4连接处的流通面积一致即可。
请参考图3-图4，图3为图1等离子体进气管路中连接管的结构示意图；图4为图3连接管另一角度的结构示意图。
本发明中，连接管3包括波纹管31，以及位于波纹管31两端的两个固定法兰32，固定法兰32用于与混气腔室2或等离子体输入端1固定连接。
如上设置，当连接管3内有高温等离子体流过产生热膨胀时，膨胀内力便通过波纹管31内部间的拉伸、压缩抵消，从而保证混气腔室2与绝缘连接座4对正不发生偏移，进而保证不同反应腔室内工艺气体的均匀性。同时，连接管3通过固定法兰32与混气腔室2或等离子体输入端1固定连接，更加便于更换。
进一步地，本实施例中，连接管3包括三个沿轴向分布的波纹管31，还包括两个连接法兰33，连接法兰33位于相邻两个波纹管31之间，用于连接相邻两个波纹管31。
当然，波纹管31可以为一个，即整体式结构；也可以为多个，即分体式结构，当波纹管31为分体结构时，波纹管31的数量不做限制，只要不影响上述功能的实现即可。
请继续参考图3与图4，连接管3还包括第一连接杆34，以及第二连接杆35，其中一个连接法兰33设置有过孔，第一连接杆34可活动地穿过该过孔，且两端分别与端部的两个固定法兰32固定连接，保证波纹管31轴向长度保持不变，并将波纹管31压缩到最小行程，便于维护；第二连接杆35用于固定靠近第一端的连接法兰33与第二端的固定法兰32。
其中，本实施例设置第一连接杆34的数量为两个，并分别位于波纹管31的两侧；第一连接杆34和第二连接杆35均采用螺杆的形式，并通过螺母与连接法兰33或固定法兰32固定。当然，第一连接杆34和第二连接杆35的结构形式不做限制，实际应用中，不设置第一连接杆34、第二连接杆35也是可行的。
可以理解，连接管3并不局限于本实施例中波纹管31这一种结构形式，只要能够抵消受到的膨胀内力，使其保持原长度即可。如连接管3还可以包括内管和外管，内管和混气腔室2、等离子体输入端1连通，外管密封套装内管，并与内管内部流通通道连通，且能够沿轴向移动或产生变形，当内管内有高温等离子体流过产生热膨胀时，膨胀内力便通过外管的轴向移动或变形抵消，保证混气腔室2不会受力发生偏移。
此外，本实施例中混气腔室2的材质为铝或铝合金，工艺性能最好。绝缘安装座4的材质为陶瓷，当然，绝缘安装座4也不局限于陶瓷这一种材质。
本发明还提供一种等离子体进气管路，包括等离子体输入端1，以及至少一个进气管路，进气管路一端与等离子体输入端1连通，另一端与对应反应腔室连通；
进气管路包括混气腔室2，以及连通混气腔室2与等离子体输入端1的连接管3，混气腔室2固定于连通反应腔室的绝缘连接座4，连接管3具有预设长度，其中部能够产生变形或位移，以抵消受到的膨胀内力。
本发明等离子体进气管路，适用于前述等离子体发生器，因此，具有与前述等离子体发生器相同的技术效果，在此不再赘述。
以上对本发明所提供的一种等离子体发生器和等离子体进气管路进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
Claims (9)
1.一种等离子体发生器，其特征在于，包括等离子体输入端(1)、至少一个反应腔室，以及至少一个进气管路，所述等离子体输入端(1)固定于所述反应腔室的外壁，所述进气管路一端与所述等离子体输入端(1)连通，另一端与对应的所述反应腔室连通；
所述进气管路包括混气腔室(2)，以及连通所述混气腔室(2)与所述等离子体输入端(1)的连接管(3)，所述混气腔室(2)固定于连通所述反应腔室的绝缘连接座(4)，所述连接管(3)具有预设长度，其中部能够产生变形或位移，以抵消受到的膨胀内力。
2.根据权利要求1所述等离子体发生器，其特征在于，所述连接管(3)包括波纹管(31)，以及位于所述波纹管(31)两端的两个固定法兰(32)，所述固定法兰(32)用于与所述混气腔室(2)或所述等离子体输入端(1)固定连接。
3.根据权利要求2所述等离子体发生器，其特征在于，所述连接管(3)包括至少两个所述波纹管(31)，还包括至少一个连接法兰(33)，用于连接相邻两个所述波纹管(31)。
4.根据权利要求3所述等离子体发生器，其特征在于，所述连接管(3)还包括第一连接杆(34)，用于与端部的两个所述固定法兰(32)固定连接。
5.根据权利要求4所述等离子体发生器，其特征在于，所述连接法兰(33)设置有过孔，所述第一连接杆(34)可活动地穿过所述过孔。
6.根据权利要求3所述等离子体发生器，其特征在于，所述连接法兰(33)的数量为两个，还包括第二连接杆(35)，所述第二连接杆(35)用于固定靠近第一端的所述连接法兰(33)与第二端的所述固定法兰(32)。
7.根据权利要求1-6任一项所述等离子体发生器，其特征在于，所述等离子体输入端(1)为T型三通阀，包括一个进气口和两个出气口，所述反应腔室和所述进气管路的数量为两个，所述出气口与所述进气管路一一对应连通。
8.根据权利要求1-6任一项所述等离子体发生器，其特征在于，所述混气腔室(2)的材质为铝或铝合金；
和/或，所述绝缘连接座(4)的材质为陶瓷。
9.一种等离子体进气管路，其特征在于，包括等离子体输入端(1)，以及至少一个进气管路，所述进气管路一端与所述等离子体输入端(1)连通，另一端与对应反应腔室连通；
所述进气管路包括混气腔室(2)，以及连通所述混气腔室(2)与所述等离子体输入端(1)的连接管(3)，所述混气腔室(2)固定于连通所述反应腔室的绝缘连接座(4)，所述连接管(3)具有预设长度，其中部能够产生变形或位移，以抵消受到的膨胀内力。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111542384.6A CN114245559A (zh) | 2021-12-14 | 2021-12-14 | 一种等离子体发生器和等离子体进气管路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111542384.6A CN114245559A (zh) | 2021-12-14 | 2021-12-14 | 一种等离子体发生器和等离子体进气管路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114245559A true CN114245559A (zh) | 2022-03-25 |
Family
ID=80757074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111542384.6A Pending CN114245559A (zh) | 2021-12-14 | 2021-12-14 | 一种等离子体发生器和等离子体进气管路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114245559A (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5892328A (en) * | 1995-02-13 | 1999-04-06 | Applied Komatsu Technology Inc. | High-power, plasma-based, reactive species generator |
| CN1851830A (zh) * | 2006-05-18 | 2006-10-25 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 特殊的超导托卡马克核聚变装置真空室的窗口颈管结构 |
| CN103924216A (zh) * | 2014-04-10 | 2014-07-16 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 等离子发生器混气管路 |
| JP2017168556A (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | プラズマエッチング装置 |
| CN112233961A (zh) * | 2019-07-15 | 2021-01-15 | Tes股份有限公司 | 基板处理装置 |
-
2021
- 2021-12-14 CN CN202111542384.6A patent/CN114245559A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5892328A (en) * | 1995-02-13 | 1999-04-06 | Applied Komatsu Technology Inc. | High-power, plasma-based, reactive species generator |
| CN1851830A (zh) * | 2006-05-18 | 2006-10-25 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 特殊的超导托卡马克核聚变装置真空室的窗口颈管结构 |
| CN103924216A (zh) * | 2014-04-10 | 2014-07-16 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 等离子发生器混气管路 |
| JP2017168556A (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | プラズマエッチング装置 |
| CN112233961A (zh) * | 2019-07-15 | 2021-01-15 | Tes股份有限公司 | 基板处理装置 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 相里梅琴: ""室外供热管网安装"", 30 November 2010, 中国矿业大学出版社, pages: 142 - 150 * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9397380B2 (en) | Guided wave applicator with non-gaseous dielectric for plasma chamber | |
| CN102257598B (zh) | 用于高温真空工艺的红外辐射器装置 | |
| CN101105373A (zh) | 翅片—套管式三介质复合换热器 | |
| ATE233388T1 (de) | Verbindungsstücke für doppelwandige rohre und druckformen für die herstellung derselben | |
| CN111074239B (zh) | 一种lpcvd双材质真空反应室 | |
| US10584927B2 (en) | Tube thermal coupling assembly | |
| CN201661811U (zh) | 同轴双向外压式膨胀节 | |
| CN114245559A (zh) | 一种等离子体发生器和等离子体进气管路 | |
| CN202852307U (zh) | 套筒承插式补偿器 | |
| BR0316761A (pt) | Método para a produção de um trocador de calor elementar, trocador de calor elementar, pré-forma para trocador de calor elementar, trocador de calor para fluidos confinados e molde para a produção de uma pré-forma da parte ativa de trocador de calor elementar | |
| CN105115320A (zh) | 一种新型螺旋缠绕管换热器 | |
| CN104295849B (zh) | 带保温复位的大补偿量外压型膨胀节 | |
| Hosoyama et al. | Development of a high performance transfer line system | |
| CN103374757B (zh) | 一种改进型扩散炉尾气排放装置 | |
| CN218719465U (zh) | 一种化学气相沉积设备的导气管 | |
| Hamdan et al. | Feasibility of vortex tube air-conditioning system | |
| CN211734277U (zh) | 一种生产液化天然气的制冷设备 | |
| CN215984159U (zh) | 一种新型冷却装置 | |
| CN118010356A (zh) | 分流掺混式温度或压力流场均匀装置 | |
| CN221074549U (zh) | 空气压缩机用水冷式冷却器 | |
| CN114440044B (zh) | 一种便于拆装的冷却装置 | |
| JP7304659B1 (ja) | 低温液化流体用真空層断熱二重管の伸縮吸収構成体 | |
| CN215000142U (zh) | 一种纳米镀膜机的入口管道防堆积结构 | |
| CN219477547U (zh) | 一种温补母线 | |
| CN219120739U (zh) | 一种空调束管器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |