CN114207385A - 用于测量装置的调节构件 - Google Patents
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Abstract
本文公开了本公开的有利的测量装置和系统及其调节方法/技术。本公开提供了改进的测量装置(如压力/温度测量装置),以及用于调节与测量装置关联的一个或更多个特征(如偏移和/或量程)的改进的系统/方法。更具体地,本公开提供了密封的测量装置(如密封的信号调整装置,比如密封的压力转换器或传送器),其具有调节构件(例如,磁体构件),调节构件允许使用者调节密封的测量装置的偏移和/或量程。测量装置包括允许使用者对测量装置的一个或更多个特征进行调节的调节构件。例如,密封的压力转换器可包括磁体构件,该磁体构件允许使用者对输出偏移和/或量程进行精细(精确)调节(如在现场),而不会破坏测量装置的壳体或外壳。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求2019年5月24日提交的美国非临时专利申请No.16/422,165的权益,该申请通过引用整体结合于本文。
技术领域
本公开涉及测量装置(例如,压力或温度测量装置)和用于调节与测量装置相关联的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程(span))的方法,更具体地,涉及具有调节构件(例如,磁体构件)的密封的测量装置(例如,密封的信号调整装置,例如,密封的压力转换器或传送器),该调节构件允许使用者调节密封的测量装置的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)。
背景技术
测量装置(比如用于测量压力或温度的信号调整装置和仪器)在工业上有广泛的应用。例如,压力测量装置(例如,转换器、传送器、数字仪表等)被配置成测量过程介质的压力是众所周知的。
测量装置在各种不同的商业和工业应用环境中是有用的。典型地,压力测量装置测量压力并提供数值指示。
通常,尝试调整与某些测量装置相关的偏移和/或量程很困难。例如,在尝试调整偏移和/或量程之前,位于危险的位置中的某些测量装置应被移动离开危险的环境。一些测量装置需要使用者打开套管,并使用螺丝刀转动电位计螺钉,以尝试调整偏移和/或量程。
其他测量装置需要使用者移除铭牌螺钉和铭牌,以接近按钮或类似物,从而试着调整偏移和/或量程,并且这存在风险(例如,暴露密封的传送器的内部,和/或将危险区域(hazloc)暴露于能量的风险)。此外,密封的端口的设计和制造昂贵,依赖现场人员进行重新密封以满足安全要求可能存在风险。
因此,存在对用于调节与测量装置相关联的一个或更多个特征的改进的系统/方法以及相关使用方法的需要。
本公开的系统、方法和组件解决和/或克服了这些和其他低效的方面和改进的机会。
发明内容
本公开提供了有利的测量装置(例如,压力或温度测量装置),以及用于调节与测量装置相关联的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)的改进的系统和方法。更具体地,本公开提供了改进的密封的测量装置(例如,密封的信号调整装置,比如密封的压力转换器或传送器),其具有调节构件(例如,磁体构件),该调节构件允许使用者调节密封的测量装置的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)(例如,在不破坏测量装置的密封的情况下)。
测量装置包括允许使用者对测量装置的一个或更多个特征进行调节的调节构件。例如,密封的压力转换器可以包括磁体构件,该磁体构件允许使用者对输出偏移和/或量程进行精细(精确)调节(例如,在现场),而不会破坏测量装置的壳体或外壳。
本公开提供了一种用于调节测量系统的方法,包括操作一过程;关于该过程安装测量装置,用于测量与该过程相关的参数;向测量装置供电;将调节构件抵靠或靠近测量装置的目标区域定位,并且在向测量装置供电之后的预定的时间段内,以将测量装置置于调节模式,所述调节模式使得能够经由调节构件抵靠或靠近目标区域的后续定位来随后调节测量装置的一个或更多个特征;随后,当测量装置处于调节模式时,将调节构件抵靠或靠近目标区域定位,以调节测量装置的一个或更多个特征。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,该过程在压力下进行;并且其中,测量装置是密封的压力测量装置。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置是压力测量装置或温度测量装置。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置是压力转换器或压力传送器。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置是密封的信号调整装置。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,调节构件是磁体构件。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置包括感测元件;并且其中,感测元件是磁敏逻辑输入装置。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,在向测量装置供电之后的预定的时间段为大约30秒或更少。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置的一个或更多个特征的调节包括调节测量装置的数字或模拟输出。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置的一个或更多个特征的调节包括调节测量装置的偏移或量程。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置的一个或更多个特征的调节在不破坏测量装置的外壳或壳体的情况下进行。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,将调节构件抵靠或靠近目标区域定位以将测量装置置于调节模式需要调节构件抵靠或靠近目标区域的预定的顺序代码或放置节奏以将测量装置置于调节模式。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,预定的顺序代码或放置节奏包括调节构件抵靠或靠近目标区域的两次或更多次敲击或放置,以将测量装置置于调节模式。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置在进入调节模式之前发送第一信号和第二信号。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,调节模式在调节测量装置的第一特征的操作或功能与调节测量装置的第二特征的操作或功能之间切换,这取决于施加到测量装置的过程的参数的数值或百分比值。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,所述过程在压力下操作;其中,调节第一特征包括调节测量装置的偏移;并且其中,调节第二特征包括调节测量装置的量程。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,调节模式根据施加到测量装置的压力的百分比在调节第一特征和第二特征之间切换。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,当测量装置在所述过程的第一参数范围内操作时,测量装置的第一特征可以通过随后将调节构件抵靠或靠近目标区域定位来调节;并且其中,当测量装置在所述过程的第二参数范围内操作时,测量装置的第二特征可以通过随后将调节构件抵靠或靠近目标区域定位来调节。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,所述过程在压力下操作;其中,调节第一特征包括调节测量装置的偏移;并且其中,调节第二特征包括调节测量装置的量程。本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,所述过程的第一参数范围是施加到测量装置的大约正10%压力到大约负10%压力;并且其中,该过程的第二参数范围是施加到测量装置的压力的大约40%或更大。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,当测量装置处于调节模式时,调节构件抵靠或靠近目标区域的每次后续定位递增地调节测量装置的一个或更多个特征。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,在所述一个或更多个特征的多个正递增调节达到调节上限之后,调节构件抵靠或靠近目标区域的接下来的后续定位将接下来的递增调节转换到调节下限,然后接下来的后续调节从调节下限正递增。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,在测量装置处于调节模式之后,并且在将调节构件抵靠或靠近目标区域定位不活动的时间范围之后,测量装置进入非调节模式。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,其中,测量装置在进入非调节模式之后发送第一信号和第二信号。
本公开还提供了一种用于调节测量系统的方法,包括操作一过程;关于所述过程安装测量装置,用于测量与过程相关的参数;向测量装置供电;将调节构件抵靠或靠近测量装置的目标区域定位,并且在向测量装置供电之后的预定的时间段内,以将测量装置置于调节模式,所述调节模式使得能够经由调节构件抵靠或靠近目标区域的后续定位来随后调节测量装置的一个或更多个特征;当测量装置处于调节模式时,随后将调节构件抵靠或靠近目标区域定位,以调节测量装置的一个或更多个特征;其中,测量装置是密封的信号调整装置;其中,测量装置在进入调节模式之前发送至少第一信号;其中,当测量装置在过程的第一参数范围内操作时,测量装置的第一特征可以通过随后将调节构件抵靠或靠近目标区域定位来调节;其中,当测量装置在过程的第二参数范围内操作时,测量装置的第二特征可以通过随后将调节构件抵靠或靠近目标区域定位来调节;其中,当测量装置处于调节模式时,调节构件抵靠或靠近目标区域的每次后续定位递增地调节测量装置的一个或更多个特征;并且其中,在测量装置处于调节模式之后,并且在将调节构件抵靠或靠近目标区域定位不活动的时间范围之后,测量装置进入非调节模式。
本公开还提供了一种用于调节压力测量系统的方法,包括在压力下操作一过程;关于所述过程安装压力测量装置,用于测量与过程相关的压力;向压力测量装置供电;将磁体构件抵靠或靠近压力测量装置的目标区域定位,并且在向压力测量装置供电之后的预定的时间段内,以将压力测量装置置于调节模式,所述调节模式使得能够经由磁体构件抵靠或靠近目标区域的后续定位来随后调节压力测量装置的偏移或量程;当压力测量装置处于调节模式时,随后将磁体构件抵靠或靠近目标区域定位,以调节测量装置的偏移或量程;其中,将磁体构件抵靠或靠近目标区域定位以将压力测量装置置于调节模式需要磁体构件抵靠或靠近目标区域的预定的顺序代码或放置节奏以将压力测量装置置于调节模式;其中,压力测量装置的偏移或量程的调节在不破坏压力测量装置的壳体或外壳的情况下进行。
可以设想实施例的任何组合或排列。从下面的描述中,特别是当结合附图阅读下面的描述时,本公开公开的系统、方法和组件的附加的有利的特征、功能和应用将是清楚明白的。本公开中列出的所有参考文献通过引用整体结合于本文。
附图说明
下面参考附图描述了各个实施例的特征和方面,在附图中,元件不一定按比例描绘。
参考附图进一步描述了本公开的示例性实施例。应当注意,下面描述的和附图中示出的各种步骤、特征和步骤/特征的组合可以不同地排列和组织,以产生仍然在本公开的范围内的实施例。为了帮助本领域普通技术人员制造和使用所公开的系统、方法和组件,可以参考附图,在附图中:
图1是根据本公开的示例性测量装置和调节构件的侧视图;
图2-图8示出了描绘调节本公开的示例性测量装置的偏移的图表;以及
图9-图12示出了描绘调节本公开的示例性测量装置的量程的图表。
具体实施方式
本文公开的示例性实施例是对本公开的有利的测量装置(例如,压力或温度测量装置)和系统及其调节方法/技术的说明。但是,应当理解,所公开的实施例仅仅是本公开的示例,本公开可以以各种形式实施。因此,本文参照示例性测量装置/调节方法以及相关的组装和使用过程/技术公开的细节不应被解释为限制性的,而仅仅是作为教导本领域技术人员如何制造和使用本公开的有利的测量装置/方法和/或替代的测量装置/方法的基础。
本公开提供了改进的测量装置(例如,压力或温度测量装置),以及用于调节与测量装置相关联的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)的改进的系统和方法。更具体地,本公开提供了有利的密封的测量装置(例如,密封的信号调整装置,比如密封的压力转换器或传送器),其具有调节构件(例如,磁体构件),所述调节构件允许使用者调节密封的测量装置的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)。
目前的实践表明,尝试调整与某些测量装置相关的偏移和/或量程很困难。例如,一些传统的测量装置位于危险的位置,在试图调节偏移和/或量程之前,应将其从危险的环境中移开。HazLoc(ATEX)和功能安全标准通常都要求任何现场调节(或修改)都需要工具来允许接近以进行任何改变,因此行动必须是经过深思熟虑的。某些传统的测量装置需要使用者打开套管,并使用螺丝刀转动电位计螺钉,以尝试调节偏移和/或量程。一些其他的传统的测量装置需要使用者移除铭牌螺钉和铭牌以接近按钮等,从而试图调节偏移和/或量程。
在示例性实施例中,本公开提供了用于调节测量装置(例如,密封的信号调整装置,比如密封的压力转换器或传送器)的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)的改进的系统/方法,其利用调节构件(例如,磁体构件)来调节测量装置的偏移和/或量程,结果是提供了显著的操作、制造和商业优势。
现在参考附图,在整个说明书和附图中,相似的部件相应地用相同的附图标记来标记。附图不一定是按比例绘制的,并且在某些视图中,为了清楚起见,某些部件可能被夸大。
如图1所述,示出了描述本公开的实施例的测量装置10。示例性测量装置10采取压力或温度测量装置10等的形式,但是,本公开不限于此。
更具体地,示例性测量装置10采取密封的测量装置10的形式(例如,密封的信号调整装置10,比如密封的压力转换器10或传送器10)。测量装置10被配置和定尺寸以关于过程进行安装,用于测量与过程相关联的参数(例如,被配置为测量过程介质等的压力的压力转换器/传送器10)。
通常,测量装置10(例如,密封的压力转换器10)包括调节构件14(例如,磁体构件14),所述调节构件允许使用者对测量装置10的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)进行调节。
例如,密封的压力转换器10可以包括调节构件14(例如,磁体构件14),所述调节构件允许使用者对输出偏移和/或量程进行精细(精确)调节(例如,在现场),而不会破坏测量装置10的壳体或外壳12。
在示例性实施例中,通过利用磁体构件14(例如,小磁体构件14,类似于位于螺丝刀的端部上的磁体构件),并且在向测量装置10供电的预定的时间段内(例如,在大约30秒内;大约10秒内;等等),在外壳12的指定或目标区域中将磁体构件14抵靠或靠近外壳12轻击/接触或放置,然后,经由磁体构件14抵靠或靠近外壳12的后续轻击/敲击/放置,经由测量装置10的感测元件16(例如,经由居中地位于测量装置10内的簧片开关16),测量装置10的输出(例如,模拟和/或数字输出)将以(小)步递增。在某些实施例中,如果磁体构件14抵靠或靠近外壳12的指定/目标区域被保持在合适的位置(例如,大于2或3秒,等等),则测量装置10的输出此后将自动地前进并以一定速度进行。
在其他实施例中,应当注意,调节构件14可以采取旋转环14(例如,围绕外壳12)或磁轮14等的形式,并且这种调节构件14可以用于促进交变的磁脉冲(例如,重复调节构件14抵靠或靠近外壳12的轻击/敲击/放置)。
在示例性实施例中,感测元件16是磁敏(数字)逻辑输入装置(例如,磁开关16,但是对于更复杂的磁输入方法,可以用霍尔效应或GMR传感器16来代替或增强)。
在某些实施例中,应当注意,测量装置10的多个感测元件16(例如,多个簧片开关16)可以提供额外的远程逻辑输入,用于输入的附加功能或通信。
在其他实施例中,霍尔效应传感器16或GMR(巨磁阻)装置16可以替代(作为簧片开关16的替代)来提供比例(而不仅仅是逻辑)输入,甚至促进磁通信输入,以用作用于调节或配置的启发式输入。
在其他实施例中,应当注意,感测元件16也可以采取以下形式:触觉开关(例如,没有磁体构件14-手动操作);撞击传感器(例如,压电或麦克风)-以检测外壳12上/附近的“轻击”等;位置开关;光学开关/传感器或其他磁传感器,比如Wiegand效应装置、GMR(巨磁阻)或霍尔效应传感器16。
如下文进一步讨论的,测量装置10的安全性可以通过以下来提供:要求调节构件14(例如,磁体构件14)抵靠或靠近外壳12的固定的或预定的顺序代码或敲击/轻击/放置节奏/顺序,以使得能够随后经由磁体构件14来调节测量装置10的偏移和/或量程(例如,磁体构件14抵靠或靠近外壳12的两次敲击/轻击/放置;磁体构件14抵靠或靠近外壳12的三次敲击/轻击/放置;磁体构件14抵靠或靠近外壳12的多次特定敲击/轻击/放置;等等)。这种要求磁体构件14抵靠或靠近外壳12的固定的或预定的顺序代码或敲击/轻击/放置节奏,以使得能够随后调节测量装置10的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程),可以防止测量装置10的无意或未经授权的校准或调节。
在一种示例中,测量装置10(例如,压力转换器/传送器10)可以关于过程进行安装,用于测量与该过程相关联的参数(例如,压力)。
然后可以向测量装置10供电。
在向测量装置10供电之后的预定的时间段内(例如,在大约30秒内;大约10秒内;等等),磁体构件14可以在外壳12的预定或目标区域(例如,在外壳的标签等上指示的)中抵靠或靠近外壳12轻击或接触/放置/定位(例如,使用正确的敲击或轻击安全代码/节奏/顺序),以将测量装置置于调节模式中,所述调节模式使得能够经由磁体构件14抵靠或靠近测量装置10(例如,抵靠或靠近外壳12的目标区域)的后续接触或放置来随后调节测量装置10的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)。
如上所述,测量装置10的安全性可以通过以下来提供:要求磁体构件14抵靠或靠近外壳12的固定的或预定的顺序代码或敲击/轻击/放置节奏/顺序,以将测量装置置于调节模式中,所述调节模式使得能够经由磁体构件14关于测量装置10的进一步接触或放置来随后调节测量装置10的一个或更多个特征(例如,偏移和/或量程)。
然后,测量装置10通过发送第一信号(例如,高电流)以及然后发送第二信号(例如,低电流)来响应(在在指定的区域处抵靠或靠近外壳12施加了正确的敲击或轻击安全代码/节奏/放置之后,并且在向测量装置10供电之后的预定的时间段内),然后进入调节模式。例如,测量装置10的模拟输出可以通过在几秒钟内短暂地变高然后变低来通知成功地进入调节模式。注意,测量装置10可以仅发送一个信号,或者可以发送多个信号来表示进入调节模式。
当处于调节模式时,使用者然后可以利用磁体构件14在指定的区域处抵靠或靠近外壳12轻击或敲击/放置磁体构件14,以对测量装置10的输出进行调节(例如,使模拟输出的偏移或量程递增)。
在示例性实施例中,根据应用于测量装置10的过程的参数的数值或百分比值(例如,根据施加到测量装置10的实际压力),测量装置的调节模式可以在调节/改变测量装置10的第一特征(例如,测量装置10的“零”或“偏移”调节)的操作或功能与调节/改变测量装置10的第二特征(例如,测量装置10的“量程”调节)的操作或功能之间切换。
换句话说,示例性测量装置10的调节模式可以在以下两者之间切换:(i)对测量装置10进行“零”或“偏移”调节的操作,以及(ii)对测量装置10进行“量程”调节的操作,这取决于施加到测量装置10的实际压力(例如,压力的百分比)。
例如,如果测量装置10在过程的第一参数范围内操作(例如,从施加到测量装置10的大约正10%压力到大约负10%压力;从施加到测量装置10的大约正20%压力到大约负20%压力;从施加到测量装置10的大约正30%压力到大约负10%压力;等等),磁体构件14在指定的区域中抵靠或靠近外壳12的每次后续的不同的轻击或敲击/放置将影响测量装置10的输出偏移零点。
换句话说,如果施加到测量装置10的实际压力在第一参数范围内(例如,正/负10%),磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每次轻击/敲击/放置将影响测量装置的输出偏移零点(例如,使装置10的模拟输出的偏移增加)。
同样,如果测量装置10在过程的第二参数范围内操作(例如,施加到测量装置10的压力的大约40%或更大;施加到测量装置10的压力的大约50%或更大;等等),磁体构件14在指定区域中抵靠或靠近外壳12的每次后续的不同的轻击或敲击/放置将影响测量装置10的输出量程增加(例如,使装置10的模拟输出的量程增加)。
换句话说,如果施加到测量装置10的实际压力在第二参数范围内(例如,为施加到测量装置10的压力的大约为40%或更大),则磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每次轻击/敲击/放置将影响测量装置的输出量程增加。
在示例性实施例中,对测量装置10的输出(偏移和/或量程)的调节以在正方向上的递增增加(例如,通过磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每次后续的轻击/敲击/放置),并且一旦每次调节达到调节上限,对输出的调节滚动到调节下限(例如,偏移或量程的调节下限),然后从调节下限正递增(例如,通过磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每次后续的轻击/敲击/放置)。
例如,调节上限可以是正10%的输出变化,调整下限可以是负10%的输出变化,但是本公开不限于此。相反,应当注意,可以利用其他期望的调节上限和/或下限(例如,正/负5%的输出变化、正/负15%的输出变化等)。
对输出(例如,偏移或量程)的递增调节(例如,通过磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每次后续的轻击/敲击/放置)可以是任何合适的递增数量(例如,0.01%的输出变化;0.10%的输出变化;1%的输出变化;2%的输出变化;3%的输出变化;等等)。
再次注意的是,在某些实施例中,如果磁体构件14抵靠或靠近外壳12的指定/目标区域保持在合适的位置(例如,超过2或3秒,等等),则测量装置10的输出此后将自动地进行并以一定速度推进(例如,对输出的递增调节将加速)。
换句话说,在一个实施例中,在转换器10上的目标区域中或附近轻击/放置磁体14将继续增加偏移(或量程),首先缓慢增加,然后增加速度,直到输出变化为正10%,此时磁体14的任何进一步输入轻击/放置将在调节上滚动到负10%,然后继续递增地增加。
注意,可以为测量装置10配置相反的调节方向,使得对测量装置10的输出(偏移和/或量程)的调节在负方向上递增地减少(例如,通过磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每次后续的轻击/敲击/放置),并且一旦每次调节达到调节下限,对输出的调节滚动到调节上限(例如,偏移或量程的调节上限),然后从调节上限负递增(例如,通过磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每次后续的轻击/敲击/放置)。
图2-图8示出了描绘调节本公开的示例性测量装置10的偏移的图表。
通常,可以利用调节构件14在零压力下调节测量装置10的读数(偏移调节)。
图2描绘了示出测量装置10的输出的图表,该测量装置10被配置为4mA至20mA的压力转换器10,4mA被配置为零psi压力读数,20mA被配置为压力转换器10的最大范围,并且被配置为对应于100psi压力读数。
如图2所述,测量装置10可以在20psi下操作。为了调节测量装置10的偏移输出,使用者首先将施加在测量装置10上的压力降低到过程的第一参数范围内(例如,从施加到测量装置10上的大约正10%压力到大约负10%压力),如图3所示(压力降低到零psi)。
可以关闭至转换器10的电源供应,然后再打开。
在向测量装置10供电之后的预定的时间段内(例如,在大约30秒内;大约10秒内;等等),磁体构件14可以在外壳12的预定或目标区域中抵靠或靠近外壳12轻击或接触/放置/定位(例如,使用正确的敲击或轻击安全代码/节奏/顺序),以将测量装置置于调节模式中,该调节模式使得能够经由磁体构件14抵靠或靠近测量装置10(例如,抵靠或靠近外壳12的目标区域)的后续的接触或放置来随后调节测量装置10的偏移(因为测量装置10正在过程的第一参数范围内操作)。
此后,磁体构件14抵靠或靠近测量装置10的后续轻击或保持使输出偏移递增,如图4和图5所示。
一旦每个后续的调节达到调整上限,对输出的调节滚动到调整下限(例如,偏移的调整下限-如图6所示),然后从调整下限正递增,如图7和图8所示(例如,通过磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每次后续的轻击/敲击/放置)。
图8描绘了测量装置10的输出偏移被重新校准到测量装置10的4mA处的零psi(例如,在正负0.01%误差内)。
在测量装置10被重新校准到4mA处的零psi之后,使用者可以从外壳14移除调节构件,并等待预定的时间段(例如,在磁体构件14抵靠或靠近外壳12的最后接触/放置的大约30秒之后;在磁体构件14抵靠或靠近外壳12的最后接触/放置的大约10秒之后;等等)。
然后,测量装置10通过发送第一信号(例如,高电流)以及然后发送第二信号(例如,低电流)来响应(在等待预定的时间段之后),并且此后退出调节模式(例如,进入非调节模式)。注意,测量装置10可以仅发送一个信号,或者可以发送多个信号来表示退出调节模式。
换句话说,在等待预定时间段(例如,大约30秒)的不活动(就磁14输入而言)之后,对输出(例如,模拟输出)的偏移或量程(或两者)所做的任何改变被永久存储在测量装置10的非易失性存储器中,并且通过在几秒钟内短暂变高然后变低来输出通知这一点。
图9-图12示出了描绘调节本公开的示例性测量装置10的量程的图表。
一般来说,可以利用调节构件14通过改变输出规模(output scale)(量程调节)在较高的压力下调节测量装置10读数。
图9描绘了示出测量装置10的输出的图表,该测量装置10被配置为4mA至20mA的压力转换器10,其中,4mA被配置为零psi压力读数,20mA被配置为压力转换器10的最大范围,并且被配置为对应于100psi压力读数。
如图9所示,测量装置10可以在20psi下操作。为了调节测量装置10的量程输出,使用者首先将施加在测量装置10上的压力增加到过程的第二参数范围内(例如,为施加在测量装置10上的压力的约为40%或更大;等等),如图10所示(压力达到80psi)。
可以关闭至转换器10的电力供应,然后再打开。
在向测量装置10供电之后的预定的时间段内(例如,在大约30秒内;大约10秒内;等等),磁体构件14可以在外壳12的预定或目标区域中抵靠或靠近外壳12轻击或接触/放置/定位(例如,使用正确的敲击或轻击安全代码/节奏/顺序),以将测量装置置于调节模式中,该调节模式使得能够经由磁体构件14抵靠或靠近测量装置10(例如,抵靠或靠近外壳12的目标区域)的后续的接触或放置来随后调节测量装置10的量程(因为测量装置10正在过程的第二参数范围内操作)。
此后,磁体构件14抵靠或靠近测量装置10的后续轻击或保持使输出量程递增,如图11和图12所示。
注意,如果每个后续的调节达到调节上限,对输出的调节滚动到调节下限(例如,量程的调节下限),然后从调节下限正递增(例如,通过磁体构件14抵靠或靠近外壳12的每个后续轻击/敲击/放置)。
图12描绘了测量装置10的输出量程被重新校准到测量装置10的在20mA处的100psi(例如,20mA被配置为压力转换器10的最大范围,并且被配置为对应于100psi的压力读数,误差在正负0.01%之内)。
在测量装置10被重新校准到20mA处的100psi之后,使用者可以从外壳14移除调节构件,并等待预定的时间段(例如,在磁体构件14抵靠或靠近外壳12的最后接触/放置大约30秒之后;在磁体构件14抵靠或靠近外壳12的最后接触/放置大约10秒之后;等等)。
然后,测量装置10通过发送第一信号(例如,高电流)以及然后发送第二信号(例如,低电流)来响应(在等待预定的时间段之后),并且此后退出调节模式。注意,测量装置10可以仅发送一个信号,或者可以发送多个信号来表示退出调节模式。
示例性测量装置10经由调节构件14的调节特征(例如,调节偏移和/或量程)有利地允许使用者或安装者在不破坏壳体/外壳12的情况下调节或校准测量装置10等(例如,以获得接近微调(trimpot)等),这在可能需要内在安全或防爆设备来防止或抑制燃烧的危险位置中尤其有益。
注意的是,示例性测量装置10经由调节构件14的调节特征(例如,调节偏移和/或量程)在为使用者提供对任何密封良好的测量装置10(例如,潜水式转换器10、密闭的密封的装置10或者甚至是全焊接的结构装置10等)的现场校准方面也是非常有利的。
需要注意的是,这些调整方法/过程的各个部分或部段的范围和定时是可变的。例如,加电后的30秒窗口或时间范围可以改变到10秒或任何其他合适的持续时间。
用于区分偏移或量程调节的压力范围(或类似装置10上的其他输入变量)可以根据定制应用而变化或定义。
敲击代码本身可以是任何合适的顺序或定时/工作周期(或者甚至是例如用于检测莫尔斯码的定时)。通知信号可以由一些其他信号或顺序来实施。
磁体轻击/放置甚至可以是电磁的(允许更快的运用,或更复杂的输入顺序/安全编码,或远程调节)。输出信号不必是模拟的,它可以是数字的。
最后,用于外部输入的磁输入方法可以不限于偏移和量程调节(和安全接近)。例如,它可以用于多种用途——作为装置复位、触发输入(例如,用于数据记录或定时器)。
具有调节构件14的示例性测量装置10能够调节零点和量程。
具有调节构件14的示例性测量装置10能够在宽的范围内执行精细调节,而不是简单地施加/设置零点。
当装置10在危险环境中操作时,具有调节构件14的示例性测量装置10能够执行现场校准,而不是必须将装置10从危险环境移除以进行现场校准。
如上所述,敲击代码特征防止了意外或未经授权的调节,并允许以符合IEC-61508功能安全标准的方式实施该特征。
通知特征(当敲击代码被接受时,以及当校准调节完成时触发)允许使用者确定地知道关于装置10的校准调节已经进行/完成/进入。
具有调节构件14的示例性测量装置10以及它们的相关调节特征减少了与针对零点和量程的微调相关的误差。
尽管已经参考本公开的示例性实施例描述了本公开的系统和方法,但是本公开不限于这样的示例性实施例和/或实施方式。相反,本公开的系统和方法易于进行许多实施方式和应用,如本领域技术人员根据本公开将清楚明了的。本公开明确涵盖所公开实施例的这种修改、增强和/或变化。由于可以在上述结构中进行许多改变,并且可以在不脱离本公开的范围的情况下进行本公开的许多广泛不同的实施例,因此包含在附图和说明书中的所有内容意在被解释为说明性的,而不是限制性的。额外的修改、改变和替换意在在前面的公开内容范围内。因此,合适的是,所附权利要求以与本公开的范围一致的方式被宽泛地解释。
Claims (26)
1.一种用于调节测量系统的方法,包括:
操作一过程;
关于所述过程安装测量装置,用于测量与所述过程相关的参数;
向所述测量装置供电;
将调节构件抵靠或靠近所述测量装置的目标区域定位,并且在向所述测量装置供电之后的预定的时间段内,以将所述测量装置置于调节模式,所述调节模式使得能够经由调节构件抵靠或靠近目标区域的后续定位对所述测量装置的一个或更多个特征进行随后的调节;
当所述测量装置处于调节模式时,随后地将调节构件抵靠或靠近目标区域定位,以调节所述测量装置的一个或更多个特征。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述过程在压力下操作;并且
其中,所述测量装置是密封的压力测量装置。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述测量装置是压力测量装置或温度测量装置。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述测量装置是压力转换器或压力传送器。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述测量装置是密封的信号调整装置。
6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述调节构件是磁体构件。
7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述测量装置包括感测元件;并且
其中,所述感测元件是磁敏逻辑输入装置。
8.根据权利要求1所述的方法,其中,在向所述测量装置供电之后的预定的时间段为大约30秒或更少。
9.根据权利要求1所述的方法,其中,所述测量装置的一个或更多个特征的调节包括调节所述测量装置的数字或模拟输出。
10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述测量装置的一个或更多个特征的调节包括调节所述测量装置的偏移或量程。
11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述测量装置的一个或更多个特征的调节在不破坏所述测量装置的壳体或外壳的情况下进行。
12.根据权利要求1所述的方法,其中,将所述调节构件抵靠或靠近所述目标区域定位以将所述测量装置置于所述调节模式需要所述调节构件抵靠或靠近所述目标区域的预定的顺序代码或放置节奏,以将所述测量装置置于所述调节模式。
13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述预定的顺序代码或放置节奏包括所述调节构件抵靠或靠近所述目标区域的两次或更多次敲击或放置,以将所述测量装置置于所述调节模式。
14.根据权利要求1所述的方法,其中,所述测量装置在进入所述调节模式之前发送第一信号和第二信号。
15.根据权利要求1所述的方法,其中,所述调节模式在调节所述测量装置的第一特征的操作或功能与调节所述测量装置的第二特征的操作或功能之间切换,这取决于施加到所述测量装置的过程的参数的数值或百分比值。
16.根据权利要求15所述的方法,其中,所述过程在压力下操作;
其中,调节第一特征包括调整所述测量装置的偏移;并且
其中,调节第二特征包括调节所述测量装置的量程。
17.根据权利要求16所述的方法,其中,所述调节模式在调节第一特征和第二特征之间切换,这取决于施加到所述测量装置的压力的百分比。
18.根据权利要求1所述的方法,其中,当所述测量装置在所述过程的第一参数范围内操作时,所述测量装置的第一特征能够通过将所述调节构件抵靠或靠近所述目标区域的后续定位来调节;并且
其中,当所述测量装置在所述过程的第二参数范围内操作时,所述测量装置的第二特征能够通过将调节构件抵靠或靠近目标区域的后续定位来调节。
19.根据权利要求1所述的方法,其中,所述过程在压力下操作;
其中,调节第一特征包括调节所述测量装置的偏移;并且
其中,调节第二特征包括调节所述测量装置的量程。
20.根据权利要求18所述的方法,其中,所述过程的第一参数范围是施加到所述测量装置的大约正10%压力到大约负10%压力;并且
其中,所述过程的第二参数范围是施加到所述测量装置的压力的大约40%或更大。
21.根据权利要求1所述的方法,其中,当所述测量装置处于所述调节模式时,所述调节构件抵靠或靠近所述目标区域的每次后续定位递增地调节所述测量装置的一个或更多个特征。
22.根据权利要求21所述的方法,其中,在所述一个或更多个特征的多个正递增调节达到调节上限之后,所述调节构件抵靠或靠近所述目标区域的接下来的后续定位将接下来的递增调节转换到调节下限,然后,接下来的后续调节从所述调节下限正递增。
23.根据权利要求1所述的方法,其中,在所述测量装置处于所述调节模式之后,并且在将所述调节构件抵靠或靠近目标区域定位的一定时间范围的不活动之后,所述测量装置进入非调节模式。
24.根据权利要求23所述的方法,其中,所述测量装置在进入所述非调节模式之后发送第一信号和第二信号。
25.一种用于调节测量系统的方法,包括
操作一过程;
关于所述过程安装测量装置,用于测量与所述过程相关的参数;
向所述测量装置供电;
将调节构件抵靠或靠近所述测量装置的目标区域定位,并且在向所述测量装置供电之后的预定的时间段内,以将所述测量装置置于调节模式,所述调节模式使得能够经由调节构件抵靠或靠近目标区域的后续定位来对所述测量装置的一个或更多个特征进行随后的调节;
当所述测量装置处于调节模式时,随后地将调节构件抵靠或靠近目标区域定位,以调节测量装置的一个或更多个特征;
其中,所述测量装置是密封的信号调整装置;
其中,所述测量装置在进入调节模式之前发送至少第一信号;
其中,当所述测量装置在所述过程的第一参数范围内操作时,所述测量装置的第一特征能够通过将调节构件抵靠或靠近目标区域的后续定位来调节;
其中,当所述测量装置在所述过程的第二参数范围内操作时,所述测量装置的第二特征能够通过将调节构件抵靠或靠近目标区域的后续定位来调节;
其中,当所述测量装置处于调节模式时,所述调节构件抵靠或靠近目标区域的每次后续定位递增地调节测量装置的一个或更多个特征;并且
其中,在所述测量装置处于调节模式之后,并且在将所述调节构件抵靠或靠近目标区域定位的一定时间范围的不活动之后,所述测量装置进入非调节模式。
26.一种用于调节压力测量系统的方法,包括:
在压力下操作一过程;
关于所述过程安装压力测量装置,用于测量与所述过程相关的压力;
向所述压力测量装置供电;
将磁体构件抵靠或靠近所述压力测量装置的目标区域定位,并且在向所述压力测量装置供电之后的预定的时间段内,以将所述压力测量装置置于调节模式,所述调节模式使得能够经由磁体构件抵靠或靠近目标区域的后续定位来随后调节所述压力测量装置的偏移或量程;
当所述压力测量装置处于调节模式时,随后将磁体构件抵靠或靠近目标区域定位,以调节测量装置的偏移或量程;
其中,将磁体构件抵靠或靠近目标区域定位以将所述压力测量装置置于调节模式需要磁体构件抵靠或靠近目标区域的预定的顺序代码或放置节奏,以将所述压力测量装置置于调节模式;
其中,所述压力测量装置的偏移或量程的调节在不破坏所述压力测量装置的壳体或外壳的情况下进行。
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支萌辉: "高精度数字磁通门传感器研究", CNKI博士学位论文全文库, vol. 2018, no. 4 * |
胡佳飞: "基于GMR的高性能小型化磁传感器理论与技术研究", CNKI博士学位论文全文库, vol. 2016, no. 1 * |
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Publication number | Publication date |
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CN114207385B (zh) | 2024-03-29 |
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EP3977060A1 (en) | 2022-04-06 |
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WO2020242846A1 (en) | 2020-12-03 |
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