CN114153084B - 一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法 - Google Patents

一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114153084B
CN114153084B CN202111448374.6A CN202111448374A CN114153084B CN 114153084 B CN114153084 B CN 114153084B CN 202111448374 A CN202111448374 A CN 202111448374A CN 114153084 B CN114153084 B CN 114153084B
Authority
CN
China
Prior art keywords
semiconductor element
ultra
light
optical properties
pump light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202111448374.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114153084A (zh
Inventor
邓洪祥
杨咏
周俊宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Electronic Science and Technology of China
Original Assignee
University of Electronic Science and Technology of China
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by University of Electronic Science and Technology of China filed Critical University of Electronic Science and Technology of China
Priority to CN202111448374.6A priority Critical patent/CN114153084B/zh
Publication of CN114153084A publication Critical patent/CN114153084A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114153084B publication Critical patent/CN114153084B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/015Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction
    • G02F1/0155Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction modulating the optical absorption
    • G02F1/0157Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction modulating the optical absorption using electro-absorption effects, e.g. Franz-Keldysh [FK] effect or quantum confined stark effect [QCSE]
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/0126Opto-optical modulation, i.e. control of one light beam by another light beam, not otherwise provided for in this subclass

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

本发明属于半导体器件光电调控技术领域,提供了一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法,这个方法可以实现在飞秒时间精度(10‑15s)控制半导体元件的折射率、介电常数、消光系数等光学参数及被调控光束经过半导体元件时的吸收系数大小、反射率强度及光谱结构等。主要方案包括,步骤1:通过第一性原理计算和角分辨光电子能谱方法获得直接带隙半导体元件的电子结构(导带和价带的能带结构)及载流子有效质量;步骤2:根据获得的半导体元件载流子有效质量及能隙宽度设计半导体元件光学性质调控的泵浦光参数;步骤3:依据设计的调控参数,搭建超高时间精度调控直接带隙半导体材料光学性质的装置。

Description

一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法
技术领域
本发明属于半导体器件光电调控技术领域,具体涉及一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法。
背景技术
随着光通信、光探测与光显示等领域的快速发展,对半导体光电子器件及半导体光学器件需求越来越大。在光电子器件及半导体光学器件研究过程中一个重要的研究方向是在技术上实现对半导体元件光学性质在时间尺度上的超快高精度调控,如:在光纤通讯网络中,通过对半导体元件光学性质的超快调控,可以实现对光路的快速切换;在光探测及防护领域需控制半导体元件的光学性质,实现半导体元件对探测光的吸收及反射的精确控制等。
由于有较高的光电效率,光电子器件及半导体光学器件中主要采用直接带隙半导体材料作为元件,因此我们的调控对象也是直接带隙半导体材料元件。现有的调控半导体元件光学性质的方法一般采用外加电压或超声波的方式进行。在元件上外加电压,可以在半导体元件中产一个静电场,进而引起电光效应(泡克尔斯效应、克尔效应)、电吸收效应或半导体材料的等离子体色散效应。其中泡克尔斯效应和克尔效应是由静电场直接引起的,而电致吸收效应以及半导体材料的等离子体色散效应(等离子体色散效应是利用静电场引起半导体材料载流子浓度变化,进而控制半导体元件光学性质的变化)由静电场间接引起的。外加电压调控半导体材料元件光学性质的方法受到施加电压的速度和精度限制,现阶段时间控制精度一般在10ns左右(10-8s)。超声波调控半导体元件光学性质利用的是声光效应,基本原理是:声波通过半导体元件时会造成材料局部压缩和伸长而产生弹性应变,使半导体材料内部的密度出现疏密相间变化,进而引起元件折射率变化,最后导致光学性质产生变化。超声波调控技术采用超声波振荡器来产生超声波,其控制精度受到超声波振荡器的功率和频率限制,现阶段时间控制精度一般在30-50ns左右(10-8s)
与现有的调控技术不同,本发明基于多光子动态弗朗兹一凯尔迪什物理效应对直接带隙半导体材料元件瞬态光学性质进行调控,对光学性质的调控精度可以达到飞秒时间尺度(<10fs),是现有技术的1百万倍以上。本发明的独特之处主要有:
(1)本发明采用的多光子动态弗朗兹一凯尔迪什物理效应与现有调控半导体光学性质的物理原理(电光效应、电吸收效应与等离子体色散效应)不同;
(3)本发明采用高功率飞秒激光和高精度延迟线相结合的方式调控直接带隙半导体材料元件的瞬态光学性质,这与现有的外加电压及超声波的技术方式不同;
(3)本发明所达到的调控精度可以达到飞秒时间尺度(<10-14s),远高于现有的调控技术(10-8s)。
发明内容
为了达到飞秒时间精度控制半导体元件光学性质的目的,提供了一种通过高功率飞秒激光和高精度延迟线相结合的方式调控直接带隙半导体材料元件的瞬态光学性质的技术。
为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案是:提供一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法,包括以下步骤:
1、设计调控直接带隙半导体元件光学性质的参数:通过第一性原理计算和角分辨光电子能谱方法获得直接带隙半导体材料的电子结构(导带和价带的能带结构)及载流子有效质量参数。根据获得的半导体材料载流子有效质量及能隙宽度设计半导体材料光学性质调控的泵浦光参数,设计出的泵浦光参数:(1)泵浦光单光子能量ηω0小于半导体元件材料能隙Eg的五分之一;(2)泵浦光强为固体电子动质力势能0.1ηω0≤Up≤10ηω0;(3)单脉冲能量密度小于半导体材料在此激光下损伤能量密度的2/3,单脉冲能量波动小于10%;(4)泵浦光的脉宽τpum是被调控光脉宽τpro的0.1到3倍。对于脉宽较大的被调控光可以使用高重频模式的泵浦光(>500HZ)调控半导体元件光学性质。
2、搭建超高时间精度调控直接带隙半导体材料光学性质的设备:基于步骤1设计的调控直接带隙半导体元件光学性质参数搭建超高时间精度调控直接带隙半导体材料光学性质的设备。设备的构成主要包括:高功率泵浦激光和高精度光学延迟线。在搭建设备时需要:(1)泵浦光的参数满足步骤1中的参数要求;(2)泵浦光与被调控光束的夹角5度~35度;(3)泵浦激光与被调控光到达半导体元件表面的时间变化精度控制在10fs内;
本发明的有益效果是:
针对超高时间精度控制半导体元件光学性质的需求,本发明基于新的物理原理--多光子动态弗朗兹一凯尔迪什物理效应(与现有技术的调控机理不同),提出了一种通过高功率激光与高精度光学延迟线相结合调控半导体元件瞬态光学性质的技术方法。这个方法可以实现在飞秒时间尺度调控半导体元件的光学性质,本发明的调控精度比现有的技术方法提高了几个数量级。
本发明可以适应于各种直接带隙半导体材料制成的元件,如:砷化镓、氧化锌、磷化铟等。本发明采用的是非接触式调控方法,不会对半导体元件所在的系统有太多的干扰,也不会引起污染和元件的损坏。此外由于高功率泵浦光的能量波动可以控制在很小的范围之内,光学延迟线的时间控制精度也很高,因此对半导体元件光学性质的调控具有很高的可控性与重复性。
附图说明
图1本发明流程示意图;
图2本发明中相关设备的结构示意图;
图3实施例一氧化锌元件紫外激光吸收系数的瞬态调控;
图4实施例二砷化镓元件红外激光透射率的瞬态调控。
具体实施方式
以下将对本发明的实施例给出详细的说明。尽管本发明将结合一些具体实施方式进行阐述和说明,但需要注意的是本发明并不仅仅只局限于这些实施方式。相反,对本发明进行的修改或者等同替换,均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
另外,为了更好的说明本发明,在下文的具体实施方式中给出了众多的具体细节。本领域技术人员将理解,没有这些具体细节,本发明同样可以实施。
实施例1
对波长380nm,脉宽500fs的紫外激光经过氧化锌元件的瞬态吸收系数进行了调控。先经角分辨光电子能谱获得氧化锌元件的电子结构和有效质量。获得的氧化锌元件的电子有效质量为0.24倍自由电子质量,空穴有效质量为0.59倍自由电子质量,能隙为3.2eV。然后根据这些参数设计出了进行调控的泵浦光,设计出的泵浦光波长3500nm,峰值功率密度0.05TW/cm2,脉宽1000fs,电子动质力势能Up≈1.657ηω0,此外使得泵浦光与被调控光的夹角为15度。采用延迟线控制被调控光与泵浦光到达氧化锌元件的时间差。图3中延迟时间越短,意味着被调控光与泵浦光到达氧化锌元件的时间差越小。经过调控可以看到在不同的时刻,被调控光经过氧化锌元件的吸收系数不同,即氧化锌元件的瞬态光学性质在飞秒时间尺度被精确调控了。
实施例2
对波长930nm,脉宽50fs的红外激光经过厚度3微米(长度和宽度为20mm×20mm)的砷化镓薄膜元件的瞬态透射率进行了调控。经第一性原理计算获得了砷化镓元件的电子结构和有效质量。获得的砷化镓元件的电子有效质量为0.068倍自由电子质量,空穴有效质量为0.45倍自由电子质量,能隙为1.42eV。根据这些参数设计出了进行调控的泵浦光,设计出的泵浦光波长4000nm,峰值功率密度5×1010W/cm2,脉宽200fs,电子动质力势能Up≈1.1ηω0,为了不影响被调控光的光路及同时保证泵浦光与元件的作用强度,我们根据元件的尺寸使泵浦光与被调控光的夹角为10度。通过高精度光学延迟线控制被调控光与泵浦光到达砷化镓薄膜元件的时间差。图4中延迟时间越大,意味着被调控光与泵浦光到达氧化锌元件的时间差越大,两者交叠越大。经过调控可以看到在不同的时刻,被调控光经过砷化镓薄膜元件的透射率不同,实现了在飞秒时间尺度精确调控砷化镓薄膜元件的光学性质。

Claims (6)

1.一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:通过第一性原理计算和角分辨光电子能谱方法获得直接带隙半导体元件的电子结构即导带和价带的能带结构及载流子有效质量参数;
步骤2:根据获得的半导体元件载流子有效质量及能隙宽度设计半导体元件光学性质调控的泵浦光参数;
步骤3:依据设计的泵浦光参数,搭建超高时间精度调控直接带隙半导体材料光学性质的装置,所述装置包括高功率泵浦激光和高精度光学延迟线,被调控光束垂直入射半导体元件,泵浦光通过高精度光学延迟线到达半导体元件的时间变化精度控制在10fs内,泵浦光与被调控光束的夹角5度~35度;
步骤4:搭建好调控装置后,将设计的泵浦光的激光参数加载到直接带隙半导体元件上,然后通过调整高精度光学延迟线的光程控制泵浦光与被调控光到元件表面的时间差,进而实现对被调控光通过半导体元件反射率、透射率吸收系数及元件折射率的超高时间精度调控;
根据获得的半导体材料载流子有效质量及能隙宽度设计半导体材料光学性质调控的泵浦光参数,设计出的泵浦光参数:
(1)泵浦光单光子能量小于半导体元件材料能隙/>的五分之一;
(2)泵浦光强为固体电子动质力势能
(3)单脉冲能量密度小于半导体材料在此激光下损伤能量密度的2/3,单脉冲能量波动小于10%;
(4)泵浦光的脉宽是被调控光脉宽/>的0.1到3倍,对于脉宽较大的被调控光可以使用高重频模式的泵浦光,即频率>500HZ的泵浦光调控半导体元件光学性质。
2.根据权利要求1所述的一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方,其特征在于,动质力势能小于半导体材料能隙,即/>
3.根据权利要求1所述的一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法,其特征在于,包括以下步骤:为避免泵浦光对被调控光产生干扰,但同时使得泵浦光能有效调节半导体元件的光学性质,泵浦光与被调控光之间的夹角5度~35度。
4.根据权利要求1所述的所述的一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法,其特征在于,包括以下步骤:调控时泵浦光单脉冲能量小于半导体元件在此激光下损伤能量密度的2/3,单脉冲能量波动小于10%。
5.根据权利要求1所述的所述的一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法,其特征在于,包括以下步骤:高功率飞秒激光和高精度延迟线相结合的方式调控直接带隙半导体材料元件的光学性质。
6.根据权利要求1所述的所述的一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法,其特征在于,包括以下步骤:调控采用多光子动态弗朗兹一凯尔迪什物理效应进行调控。
CN202111448374.6A 2021-12-01 2021-12-01 一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法 Active CN114153084B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111448374.6A CN114153084B (zh) 2021-12-01 2021-12-01 一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111448374.6A CN114153084B (zh) 2021-12-01 2021-12-01 一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114153084A CN114153084A (zh) 2022-03-08
CN114153084B true CN114153084B (zh) 2023-07-25

Family

ID=80455141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111448374.6A Active CN114153084B (zh) 2021-12-01 2021-12-01 一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114153084B (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101764341A (zh) * 2009-12-30 2010-06-30 中国科学院上海光学精密机械研究所 载波包络相位稳定的宽带光学参量啁啾脉冲放大激光系统
CN108680255A (zh) * 2018-07-09 2018-10-19 广东工业大学 一种超高时间分辨超长时窗瞬态吸收光谱仪
CN111883218A (zh) * 2020-07-28 2020-11-03 哈尔滨工业大学 一种过渡金属硫化物非线性光学性质的调控方法及装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2020293A1 (de) * 1969-08-20 1971-04-22 Jenoptik Jena Gmbh Abstimmbarer Farbstofflaser
US4525687A (en) * 1983-02-28 1985-06-25 At&T Bell Laboratories High speed light modulator using multiple quantum well structures
JP2606079B2 (ja) * 1993-06-25 1997-04-30 日本電気株式会社 光半導体素子
US6963402B2 (en) * 2003-05-22 2005-11-08 Chism Ii William W Polarization modulation photoreflectance characterization of semiconductor quantum confined structures
CN100526856C (zh) * 2007-11-01 2009-08-12 浙江大学 基于太赫兹时域光谱技术的纸页定量检测装置及方法
US8264693B2 (en) * 2007-12-06 2012-09-11 The Regents Of The University Of Michigan Method and system for measuring at least one property including a magnetic property of a material using pulsed laser sources
CN101499608B (zh) * 2009-03-06 2010-07-07 北京交通大学 一种光学参量振荡器
US8778703B2 (en) * 2011-11-23 2014-07-15 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Extremely non-degenerate two photon absorption optical sensing method, apparatus and applications
CN102983496A (zh) * 2012-11-08 2013-03-20 上海显恒光电科技股份有限公司 透射式电子束泵浦的发光管
CN106329302B (zh) * 2016-10-18 2019-01-18 武汉工程大学 宽带激光泵浦的双啁啾光参量放大方法及装置
CN109387991A (zh) * 2017-08-09 2019-02-26 武汉工程大学 一种非共线双啁啾光参量放大方法及装置
CN108827914B (zh) * 2018-08-23 2020-12-18 天津大学 太赫兹瞬态吸收光谱探测系统及载流子寿命测量方法
CN110426866B (zh) * 2019-07-18 2023-04-07 深圳先进技术研究院 太赫兹光控调制器、其制备方法及太赫兹成像系统
CN110422874B (zh) * 2019-07-31 2021-12-28 上海电机学院 一种硫化铟基杂质带半导体及其制备方法和应用
CN111307756A (zh) * 2019-11-20 2020-06-19 南京航空航天大学 一种可调频的超快时间分辨瞬态反射光谱仪
CN111307757A (zh) * 2020-04-03 2020-06-19 中国科学院物理研究所 一种超高时间分辨的测量半导体带隙中间能级的方法
CN112284510B (zh) * 2020-10-26 2022-12-06 东南大学 一种多层二维半导体中相干声学声子回波诱导与探测方法
CN113684679B (zh) * 2021-07-29 2023-11-03 超越者新材料科技河北有限公司 一种碳纤维基纳米复合材料的制备方法及其应用
CN113670863A (zh) * 2021-08-17 2021-11-19 北京计算机技术及应用研究所 二维半导体材料中光生载流子的差分反射探测方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101764341A (zh) * 2009-12-30 2010-06-30 中国科学院上海光学精密机械研究所 载波包络相位稳定的宽带光学参量啁啾脉冲放大激光系统
CN108680255A (zh) * 2018-07-09 2018-10-19 广东工业大学 一种超高时间分辨超长时窗瞬态吸收光谱仪
CN111883218A (zh) * 2020-07-28 2020-11-03 哈尔滨工业大学 一种过渡金属硫化物非线性光学性质的调控方法及装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN114153084A (zh) 2022-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Mourou et al. Single cycle thin film compressor opening the door to Zeptosecond-Exawatt physics
CN102882107B (zh) 一种可快速连续调节太赫兹波偏振和强度的方法
Furch et al. CEP-stable few-cycle pulses with more than 190 μJ of energy at 100 kHz from a noncollinear optical parametric amplifier
Wang et al. 28.4 W 266 nm ultraviolet-beam generation by fourth-harmonic generation of an all-solid-state laser
US20160116650A1 (en) Color filter substrate and its manufacturing method, display panel and its manufacturing method, and display device
Li et al. Spatial beam shaping for high-power frequency tripling lasers based on a liquid crystal spatial light modulator
Edwards et al. Plasma transmission gratings for compression of high-intensity laser pulses
CN203444187U (zh) 一种全光控太赫兹强度调制器及太赫兹强度调制器
CN104104006A (zh) 一种直接倍频产生高功率真空紫外激光的装置及方法
CN114153084B (zh) 一种超高时间精度调控直接带隙半导体元件光学性质的方法
CN106802502A (zh) 液晶衍射波带片、液晶显示面板、显示方法、显示装置
KR20030003651A (ko) 평판표시장치 및 제조방법
Zhong et al. Effective mass dependence in laser-induced absorption of ZnO pumped by mid-infrared laser pulse
JP2002287156A (ja) 液晶パネルの製造方法および製造装置
CN110989184B (zh) 一种基于受抑全内反射的空间光调制器
Lazarev et al. High-resolution high-reflective LCOS spatial light modulator for beam manipulation beyond visible spectrum
CN106681080A (zh) 一种利用电光效应实现相位匹配的方法
WO2013155753A1 (zh) 液晶面板的制作方法
CN110297337B (zh) 电压调控的二硒化铼纳米片太赫兹偏振调制器件
Yuan et al. High efficiency high beam quality third harmonic generation of hundreds femtosecond laser by employing a delay line and LiB3O5 crystals
Tang et al. High power green picosecond laser and high efficiency ultraviolet femtosecond laser through second harmonic generation using K3B6O10Br crystal
Liu et al. Influence of idler light on the shot-to-shot energy stability of third harmonic generation
Donin et al. Optical parametric oscillator of mid-IR, visible and UV ranges with synchronous pumping by a-switched mode-locked Nd: YAG laser
Ran et al. A 206-nm all-solid-state deep-ultraviolet laser with 291 MW peak power
Lee et al. Energy saving in line patterning using pulse laser by reducing overlapping rate with rectangular beam shape

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant