CN114114851A - 一种新型曝光机及其改造方法 - Google Patents
一种新型曝光机及其改造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114114851A CN114114851A CN202111404371.2A CN202111404371A CN114114851A CN 114114851 A CN114114851 A CN 114114851A CN 202111404371 A CN202111404371 A CN 202111404371A CN 114114851 A CN114114851 A CN 114114851A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cleaning
- exposure machine
- straight guide
- main body
- guide rail
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000011426 transformation method Methods 0.000 title abstract description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 52
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000002715 modification method Methods 0.000 claims description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70925—Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
本发明公开了一种新型曝光机及其改造方法，包括主体和盖板，所述主体上设置有刚性玻璃台面，并在所述主体上两侧位置均设置有直行导轨，在所述直行导轨内设置有能够与刚性玻璃台面表面接触并滑行的清洁部件，以使所述刚性玻璃台面表面保证清洁，此一种新型曝光机及其改造方法，通过将曝光机的刚性玻璃台面更换为具有韧性的亚克力玻璃，让曝光机抽真空后，具有韧性的亚克力玻璃会与不平整的板面紧密接触，解决散射问题，提升解析度，且曝光机的曝光灯管冷却水套改为蓝色水套后，过滤掉易发热的红、橙和黄色光谱，由于亚克力玻璃受热变形少，解决亚克力玻璃寿命短的问题，通过以上组合方案，完美解决了板子板厚公差大和解析度之间的矛盾。
Description
技术领域
本发明涉及曝光机技术领域，具体为一种新型曝光机及其改造方法。
背景技术
目前随着终端设备功能增多，板子设计的层数增多，线路设计的更加精细，板子层数增多，会导致板子经过多层积压后，厚度公差变大，板厚均匀性变差，同时单位面积内布线数量增多，导致线路更加精细和密集，线路精细化对曝光机的解析度要求更高，但是板厚公差变大，均匀性变差会导致曝光机的解析度变差，形成矛盾，正常生产时，会导致曝光不良，造成批量返工和报废，严重影响品质和效率。为此，我们提出一种新型曝光机及其改造方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新型曝光机及其改造方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种新型曝光机，包括主体和盖板，所述主体上设置有刚性玻璃台面，并在所述主体上两侧位置均设置有直行导轨，在所述直行导轨内设置有能够与刚性玻璃台面表面接触并滑行的清洁部件，以使所述刚性玻璃台面表面保证清洁；
还包括有设置在盖板上的连接件，所述连接件与清洁部件连接，在打开所述盖板时拉动清洁部件滑行清洁；
还包括有设置在主体上的复位件，在关上所述盖板时利用复位件将清洁部件复位。
作为优选，所述清洁部件包括有滑动设置在直行导轨内的滑座，在所述滑座上均设置有立柱，所述立柱向上延伸至直行导轨外侧；
还包括有位于所述主体上的清洁条，所述清洁条位于刚性玻璃台面的表面，并与其接触，且其两端分别与两个立柱连接，以利用所述滑座在直行导轨内移动来驱使清洁条在刚性玻璃台面上移动。
作为优选，所述连接件包括有安装在盖板两侧的拉绳，并在所述直行导轨一端的位置均设置有导向轴，两侧的所述拉绳分别绕过两侧导向轴后与相应的滑座连接；
还包括有设置在所述直行导轨内的防脱导向部件，所述防脱导向部件限制所述滑座在直行导轨内移动，以使所述盖板打开时利用拉绳拉动清洁条移动。
作为优选，所述防脱导向部件包括有开设在直行导轨侧壁上的侧边凹槽，并在所述侧边凹槽内滑动设置有侧边滑块，所述侧边滑块与滑座连接，以限制所述滑座在直行导轨内滑行。
作为优选，所述复位件包括有设置在滑座底部的磁铁一，并在所述直行导轨底边位置设置有连续的磁铁二，所述磁铁二上表面向主体后方倾斜，所述磁铁一与磁铁二正对，且其相对面磁极相反。
作为优选，在所述主体靠近盖板连接位置的一侧设置有导通槽，所述导通槽两端与两侧的直行导轨导通，且与清洁条平行；
所述立柱为伸缩杆结构，并在所述滑座上还设置有弹簧，所述弹簧两端分别与滑座和清洁条连接，且按压所述清洁条可将其压入导通槽。
一种新型曝光机的改造方法，将上述所述刚性玻璃台面更换为具有韧性的亚克力玻璃。
作为优选，将上述新型曝光机的曝光灯管冷却水套改为蓝色水套。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明通过将曝光机的刚性玻璃台面更换为具有韧性的亚克力玻璃，让曝光机抽真空后，具有韧性的亚克力玻璃会与不平整的板面紧密接触，解决散射问题，提升解析度，且曝光机的曝光灯管冷却水套改为蓝色水套后，过滤掉易发热的红、橙和黄色光谱，由于亚克力玻璃受热变形少，解决亚克力玻璃寿命短的问题，通过以上组合方案，完美解决了板子板厚公差大和解析度之间的矛盾。
2、通过设置清洁部件、连接件和复位件的配合使用，能够在每次曝光使用都对玻璃台面进行一次有效的清洁，进而有效避免微粒杂物在玻璃台面上的积留，进而避免在板面放置时导致玻璃台面与板面接触不紧密而出现曝光不良的问题。
附图说明
图1为本发明整体结构示意图；
图2为本发明图1盖板开启示意图；
图3为本发明图1侧视平面局剖结构示意图；
图4为本发明图1后视平面局剖结构示意图；
图5为本发明图1去除盖板后结构示意图。
图中：1、主体；11、刚性玻璃台面；12、直行导轨；2、盖板；3、清洁部件；31、滑座；32、立柱；33、清洁条；34、导通槽；35、弹簧；4、连接件；41、拉绳；42、导向轴；5、复位件；51、磁铁一；52、磁铁二；6、防脱导向部件；61、侧边凹槽；62、侧边滑块。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-5，本发明提供一种技术方案：一种新型曝光机及其改造方法，包括主体1和盖板2，主体1上设置有刚性玻璃台面11，并在主体1上两侧位置均设置有直行导轨12，在直行导轨12内设置有能够与刚性玻璃台面11表面接触并滑行的清洁部件3，以使刚性玻璃台面11表面保证清洁；
还包括有设置在盖板2上的连接件4，连接件4与清洁部件3连接，在打开盖板2时拉动清洁部件3滑行清洁；
还包括有设置在主体1上的复位件5，在关上盖板2时利用复位件5将清洁部件3复位。
清洁部件3包括有滑动设置在直行导轨12内的滑座31，在滑座31上均设置有立柱32，立柱32向上延伸至直行导轨12外侧；
还包括有位于主体1上的清洁条33，清洁条33可采用棉质或橡胶材质，保证在玻璃台面上稳定的移动清洁即可，清洁条33位于刚性玻璃台面11的表面，并与其接触，且其两端分别与两个立柱32连接，以利用滑座31在直行导轨12内移动来驱使清洁条33在刚性玻璃台面11上移动，进而进行有效清洁。
连接件4包括有安装在盖板2两侧的拉绳41，并在直行导轨12一端的位置均设置有导向轴42，两侧的拉绳41分别绕过两侧导向轴42后与相应的滑座31连接，在打开盖板2时，拉动拉绳41，并在导向轴42的作用下，驱使滑座31带动清洁条33向导向轴42一端移动，同时对玻璃的台面进行清洁；
还包括有设置在直行导轨12内的防脱导向部件6，防脱导向部件6限制滑座31在直行导轨12内移动，以使盖板2打开时利用拉绳41拉动清洁条33移动，从而保证滑座31的稳定防脱移动，以驱使清洁条33稳定清洁使用。
防脱导向部件6包括有开设在直行导轨12侧壁上的侧边凹槽61，并在侧边凹槽61内滑动设置有侧边滑块62，侧边滑块62与滑座31连接，以限制滑座31在直行导轨12内滑行。
复位件5包括有设置在滑座31底部的磁铁一51，并在直行导轨12底边位置设置有连续的磁铁二52，磁铁二52上表面向主体1后方倾斜，磁铁一51与磁铁二52正对，且其相对面磁极相反，利用上述设计，以使在松开盖板2时，通过磁极同性相斥的原理来驱使滑座31自复位，以供持续曝光使用。
在主体1靠近盖板2连接位置的一侧设置有导通槽34，导通槽34两端与两侧的直行导轨12导通，且与清洁条33平行；
立柱32为伸缩杆结构，并在滑座31上还设置有弹簧35，弹簧35两端分别与滑座31和清洁条33连接，且按压清洁条33可将其压入导通槽34，利用上述设计，可在盖板2盖合曝光时，可将清洁条33压入导通槽34，进而便于盖板2的无缝盖合使用。
进而通过上述设计以在每次曝光使用时，都通过盖板2拉动清洁条33移动，以对玻璃的台面进行一次清洁，进而保证玻璃台面表面的清洁，避免影响板面与台面的紧密接触，保证高质量曝光使用。
目前，曝光机台面采用刚性普通玻璃，在抽真空后，板厚不均匀的板与曝光玻璃之间会形成间隙，导致光的散射，实际曝光图形和菲林底片相差大，见光部分增多，导致曝光不良，本方案提出一种新型曝光机的改造方法，将上述刚性玻璃台面11更换为具有韧性的亚克力玻璃，韧性增强，在抽真空后，板与曝光玻璃紧密接触，没有间隙，解决了光的散射，使实际曝光图形和菲林底片图形一致，不会形成曝光不良。
此外，将上述新型曝光机的曝光灯管冷却水套改为蓝色水套，过滤掉易发热的红、橙和黄色光谱，由于亚克力玻璃受热变形少，解决亚克力玻璃寿命短的问题，通过以上组合方案，完美解决了板子板厚公差大和解析度之间的矛盾。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (8)
1.一种新型曝光机，包括主体(1)和盖板(2)，其特征在于：所述主体(1)上设置有刚性玻璃台面(11)，并在所述主体(1)上两侧位置均设置有直行导轨(12)，在所述直行导轨(12)内设置有能够与刚性玻璃台面(11)表面接触并滑行的清洁部件(3)，以使所述刚性玻璃台面(11)表面保证清洁；
还包括有设置在盖板(2)上的连接件(4)，所述连接件(4)与清洁部件(3)连接，在打开所述盖板(2)时拉动清洁部件(3)滑行清洁；
还包括有设置在主体(1)上的复位件(5)，在关上所述盖板(2)时利用复位件(5)将清洁部件(3)复位。
2.根据权利要求1所述的一种新型曝光机，其特征在于：所述清洁部件(3)包括有滑动设置在直行导轨(12)内的滑座(31)，在所述滑座(31)上均设置有立柱(32)，所述立柱(32)向上延伸至直行导轨(12)外侧；
还包括有位于所述主体(1)上的清洁条(33)，所述清洁条(33)位于刚性玻璃台面(11)的表面，并与其接触，且其两端分别与两个立柱(32)连接，以利用所述滑座(31)在直行导轨(12)内移动来驱使清洁条(33)在刚性玻璃台面(11)上移动。
3.根据权利要求2所述的一种新型曝光机，其特征在于：所述连接件(4)包括有安装在盖板(2)两侧的拉绳(41)，并在所述直行导轨(12)一端的位置均设置有导向轴(42)，两侧的所述拉绳(41)分别绕过两侧导向轴(42)后与相应的滑座(31)连接；
还包括有设置在所述直行导轨(12)内的防脱导向部件(6)，所述防脱导向部件(6)限制所述滑座(31)在直行导轨(12)内移动，以使所述盖板(2)打开时利用拉绳(41)拉动清洁条(33)移动。
4.根据权利要求3所述的一种新型曝光机，其特征在于：所述防脱导向部件(6)包括有开设在直行导轨(12)侧壁上的侧边凹槽(61)，并在所述侧边凹槽(61)内滑动设置有侧边滑块(62)，所述侧边滑块(62)与滑座(31)连接，以限制所述滑座(31)在直行导轨(12)内滑行。
5.根据权利要求4所述的一种新型曝光机，其特征在于：所述复位件(5)包括有设置在滑座(31)底部的磁铁一(51)，并在所述直行导轨(12)底边位置设置有连续的磁铁二(52)，所述磁铁二(52)上表面向主体(1)后方倾斜，所述磁铁一(51)与磁铁二(52)正对，且其相对面磁极相反。
6.根据权利要求5所述的一种新型曝光机，其特征在于：在所述主体(1)靠近盖板(2)连接位置的一侧设置有导通槽(34)，所述导通槽(34)两端与两侧的直行导轨(12)导通，且与清洁条(33)平行；
所述立柱(32)为伸缩杆结构，并在所述滑座(31)上还设置有弹簧(35)，所述弹簧(35)两端分别与滑座(31)和清洁条(33)连接，且按压所述清洁条(33)可将其压入导通槽(34)。
7.根据权利要求1-6所述的一种新型曝光机的改造方法，其特征在于：将上述所述刚性玻璃台面(11)更换为具有韧性的亚克力玻璃。
8.根据权利要求7所述的一种新型曝光机的改造方法，其特征在于：将上述新型曝光机的曝光灯管冷却水套改为蓝色水套。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111404371.2A CN114114851A (zh) | 2021-11-24 | 2021-11-24 | 一种新型曝光机及其改造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111404371.2A CN114114851A (zh) | 2021-11-24 | 2021-11-24 | 一种新型曝光机及其改造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114114851A true CN114114851A (zh) | 2022-03-01 |
Family
ID=80371977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111404371.2A Pending CN114114851A (zh) | 2021-11-24 | 2021-11-24 | 一种新型曝光机及其改造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114114851A (zh) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN206450968U (zh) * | 2017-02-15 | 2017-08-29 | 江苏联坤电子科技有限公司 | 一种曝光均匀的亚克力玻璃用曝光机 |
| CN207051664U (zh) * | 2017-06-01 | 2018-02-27 | 东莞市龙欣精密网版科技有限公司 | 一种自带清洁和散热装置的曝光机 |
| CN207288283U (zh) * | 2017-08-02 | 2018-05-01 | 江西省亚华电子材料有限公司 | 一种平行光网版曝光机玻璃清洁装置 |
| CN210087117U (zh) * | 2018-09-27 | 2020-02-18 | 天津维斯盾门窗有限公司 | 一种便于清理灰尘的推拉塑钢窗安装结构 |
-
2021
- 2021-11-24 CN CN202111404371.2A patent/CN114114851A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN206450968U (zh) * | 2017-02-15 | 2017-08-29 | 江苏联坤电子科技有限公司 | 一种曝光均匀的亚克力玻璃用曝光机 |
| CN207051664U (zh) * | 2017-06-01 | 2018-02-27 | 东莞市龙欣精密网版科技有限公司 | 一种自带清洁和散热装置的曝光机 |
| CN207288283U (zh) * | 2017-08-02 | 2018-05-01 | 江西省亚华电子材料有限公司 | 一种平行光网版曝光机玻璃清洁装置 |
| CN210087117U (zh) * | 2018-09-27 | 2020-02-18 | 天津维斯盾门窗有限公司 | 一种便于清理灰尘的推拉塑钢窗安装结构 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN209131964U (zh) | 一种齿轮箱试验用台架装置 | |
| CN114114851A (zh) | 一种新型曝光机及其改造方法 | |
| CN219363760U (zh) | 一种镀铝锌工艺用的锌锅设备 | |
| CN214937744U (zh) | 一种带有过滤装置的循环式除锌渣热镀锌锅 | |
| CN214349991U (zh) | 一种用于卧式带锯床的碎屑收集装置 | |
| CN215319718U (zh) | 一种钢化玻璃加工用切割装置 | |
| CN114798471A (zh) | 一种液晶屏抗压性能自动测试装置 | |
| CN213813613U (zh) | 一种钢化玻璃均质检测装置 | |
| CN211394530U (zh) | 一种转炉滑板挡渣用收集装置 | |
| CN204803863U (zh) | 一种水利大坝进水口漂浮物清理装置 | |
| CN210431680U (zh) | 一种图像处理测试平台 | |
| CN110185892B (zh) | 一种运维资料收集装置 | |
| CN112481458A (zh) | 一种链条组件生产用全自动淬火装置 | |
| CN220977070U (zh) | 一种金属材料制造用冷却装置 | |
| CN215203400U (zh) | 一种硅胶制品导槽式自动翻模机构 | |
| CN217726352U (zh) | 一种具有防灰功能的玻璃盖板 | |
| CN221312096U (zh) | 一种医用铝框门的冲孔设备 | |
| CN220330736U (zh) | 一种弹簧槽压板用内槽加工设备 | |
| CN219766971U (zh) | 一种具有散热功能的钢板生产用切割装置 | |
| CN218461114U (zh) | 一种热压机 | |
| CN108555864A (zh) | 一种便于清理的模具放置架 | |
| CN215405662U (zh) | 一种桥梁养护用折叠式路障 | |
| CN212402627U (zh) | 一种多功能放料架 | |
| WO2024139016A1 (zh) | 一种电子浮法玻璃的辊台过渡装置 | |
| CN220806922U (zh) | 一种金属手机壳抛光设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |