CN114111623A - 一种电控调焦全场光学相干层析成像系统及其方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种电控调焦全场光学相干层析成像系统及其方法。系统包括空间低相干光源、改进型科勒照明模块、分束立方棱镜、样品臂模块、参考臂模块、探测臂模块、信号发生装置、控制系统、调焦组件、中继系统；调焦组件内通过电流控制电控调焦镜头内聚合物薄膜和高性能光学流体形状来实现焦距调节，是一种光学调焦方式，减少因机械运动方式调焦产生的运动伪影对重构三维图像质量的影响，具有调焦速度快、准确度高，易于控制聚焦位置的优点，配合多路同步信号的控制，可以自动完成样品不同深度断层图的采集。将调焦组件设置在透镜管中，作为一个整体，便于整合到现有FF‑OCT系统，结构简单、易于安装、经济实惠。

Description

一种电控调焦全场光学相干层析成像系统及其方法

技术领域

本发明属于全场光学相干层析成像技术领域，特别涉及一种电控调焦全场光学相干层析成像系统及其方法。

背景技术

全场光学相干层析技术(Full-field Optical Coherence Tomography，FF-OCT)从时域光学相干层析(点扫描)发展而来，成像速度更快(面扫描)，横向分辨率与轴向分辨率达到亚μm水平；成像原理与传统类型的光学相干层析成像类似，通过探测参考臂的反射光与样品组织的后向散射光的干涉信号，解析出样品的断层结构信息。

在使用FF-OCT进行样品三维信息图重构时，需要进行样品内部不同深度的轴向聚焦，传统方法是通过样品臂的微位移平台轴向移动样品或者轴向移动整个干涉结构来实现，例如使用高精度压电微位移平台进行轴向聚焦深度的精确改变，但是以上的调焦技术都是基于样品的机械轴向运动实现的，此种方法调节聚焦深度会存在机械抖动，在重构三维图像时产生运动伪影，影响整体三维图像的质量，即使是采用高精度的压电位移平台也不能完全消除机械位移带来的运动伪影。

发明内容

本发明的目的是在全场光学相干层析成像系统中，利用电控调焦技术实现无机械移动改变样品内部的聚焦深度，消除基于机械移动带来的运动伪影，快速重构出样品的高质量三维图像。

本发明为实现上述目的提供一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，包括空间低相干光源、改进型科勒照明模块、分束立方棱镜、样品臂模块、参考臂模块、探测臂模块、信号发生装置、控制系统、调焦组件、中继系统。

所述改进型科勒照明模块包括通过光路依次级联的前置聚光透镜、孔径光阑、视场光阑、后置聚光透镜、准直用显微物镜；孔径光阑位于前置聚光透镜后焦面处，准直用显微物镜位于后置聚光透镜的后焦面处。

所述样品臂模块包括通过光路依次级联的样品臂光路转折反射镜、样品臂显微物镜、样品臂轴向位移平台。

所述参考臂模块包括通过光路依次级联的参考臂光路转折反射镜、参考臂显微物镜、参考镜、移相器、参考臂轴向位移平台；参考镜与移相器固定连接，且置于参考臂轴向位移平台上；移相器带动参考镜移动，实现相位改变。

所述探测臂模块包括通过光路依次级联的探测臂聚光透镜、面阵探测器；所述面阵探测器位于探测臂聚光透镜的后焦面处，用于将采集的信号接入计算机实时显示图像，并根据脉冲方波(TTL)触发信号保存干涉图像信息。

所述参考臂显微物镜、所述样品臂显微物镜关于所述分束立方棱镜的位置共轭。

所述信号发生装置用于给电控调焦镜头提供控制电流信号，用于给移相器提供控制信号，用于给面阵探测器提供触发信号；作为优选，电控调焦镜头的控制信号是以频率f进行递增的梯形信号，移相器的驱动信号采用频率为f的正弦模拟信号，面阵探测器的触发信号采用频率为4f的脉冲信号。

所述控制系统用于接收面阵探测器反馈的图像数据，用于给参考臂轴向位移平台、样品臂轴向位移平台提供控制信号。

所述的调焦组件、中继系统位于样品臂光路转折反射镜、样品臂显微物镜间位置；其中调焦组件位于样品臂显微物镜关于中继系统的共轭光瞳平面处，包括前后设置的电控调焦镜头(ETL)、补偿透镜(OL)；所述电控调焦镜头通过调节控制电流大小，以改变自身焦距大小，实现出射光束的会聚或者发散调谐，完成样品臂显微物镜聚焦工作距离的调整，即样品内聚焦深度的改变；中继系统采用两个焦距相同的聚光透镜，包括前后设置的前置透镜、后置透镜；中继系统的作用是在电控调焦镜头对光束进行调谐的过程中，通过中继系统的中间焦平面移动，以保持样品臂显微物镜的远心成像条件，使系统在样品内不同聚焦深度成像时具有一致的视场，保证了后续进行三维重构的顺利进行，以避免不使用中继系统进行电控调焦会使不同聚焦深度处的成像视场发生改变，无法进行三维重构。

作为优选，所述空间低相干光源采用全场均匀照明方式。

作为优选，所述的中继系统中前置透镜、后置透镜采用胶合透镜，以求减少系统的中体色差。

作为优选，前置透镜、后置透镜采用100mm焦距的消色差透镜，在满足元件调节范围的同时，还可尽可能保持系统的紧凑型。

作为优选，所述移相器采用压电陶瓷移相器。

作为优选，所述分束立方棱镜采用非偏振分束立方棱镜。

作为优选，所述调焦组件设置在透镜管中，便于后期安装和系统调试。

作为优选，所述补偿透镜(OL)采用负焦距补偿透镜。

作为优选，电控调焦镜头的调控电流为0-300mA，焦距范围为50-200mm。

本发明的另一个目的是提供一种电控调焦全场光学相干层析成像系统的实现方法，使用电控调焦镜头进行样品内部聚焦深度调节，重构样品的高质量三维图，具体包括以下步骤：

步骤(1)、将待测样品置于样品臂轴向位移平台上；

步骤(2)、空间低相干光源发出的非准直光经过改进型科勒照明模块准直后变为准直光束，然后经分束立方棱镜分成两束准直光束，分别进入样品臂模块和参考臂模块；

步骤(3)、进入样品臂模块的准直光束，首先经过样品臂光路转折反射镜的转折，依次经过电控调焦镜头、补偿透镜、前置透镜、后置透镜、样品臂显微物镜后出射到待测样品，初始化通过控制系统调控样品臂轴向位移平台轴向移动，使得样品上表面与样品臂显微物镜头的距离为d_min，其中d_min表示在电控调焦镜头初始状态时显微物镜的标称工作距离。

步骤(4)、进入参考臂模块的准直光束，首先被参考臂光路转折反射镜转折，然后经参考臂显微物镜出射到参考镜；初始化通过控制系统调控参考臂轴向位移平台使得参考臂模块和样品臂模块内光束达到等光程状态。

步骤(5)、分束立方棱镜接收参考臂模块和样品臂模块的后向反射或散射光，产生干涉光束，然后出射到探测臂聚光透镜，经聚焦后成像到面阵探测器；

步骤(6)、采集不同聚焦深度断层图，进而重构三维图像

6-1控制系统调控电控调焦镜头的控制信号与移相器驱动信号的频率均为f，面阵探测器触发信号为频率为4f的TTL电平信号，同步信号控制面阵探测器采集样品不同深度处的4幅不同相位干涉图；其中频率为4f的面阵探测器触发信号在聚焦深度改变之前进行4幅不同相位干涉图的采集，干涉图采集过程中频率为f的驱动信号控制移相器进行移相，从而使采集的4幅干涉图具有不同的相位，然后信号发生器调控电控调焦镜头以频率f进行递增，进而改变电控调焦镜头的焦距，使得样品臂显微物镜的光束被会聚或者发散，最终改变样品臂显微物镜的工作距离d，d_min≤d≤d_max，用以实现待测样品内部聚焦深度的改变；其中d_max表示在电控调焦镜头调控下样品臂显微物镜的最大工作距离；

6-2重复步骤6-1采集不同聚焦深度断层图的4幅不同相位干涉图，进而重构出样品三维图像。

本发明与现有的调焦方式相比，显著的优点是：

(1)电控调焦通过电流控制电控调焦镜头内聚合物薄膜和高性能光学流体形状来实现焦距调节，是一种光学调焦方式，减少了因机械运动方式调焦产生的运动伪影对重构三维图像质量的影响。并且这种方式具有调焦速度快、准确度高，易于控制聚焦位置的优点，配合多路同步信号的控制，可以自动完成样品不同深度断层图的采集。

(2)电控调焦镜头(ETL)和补偿透镜(OL)的组合体安装在样品臂显微物镜后方，如果离样品臂显微物镜位置太近或者需要调节的聚焦范围较大，使用ETL/OL组件进行调焦会改变样品臂显微物镜的远心成像条件，轴向焦点位置发生变化，引起不同聚焦深度的成像视场(FOV)或者放大率的改变。将ETL/OL组件定位在样品臂显微镜物镜的共轭光瞳平面上(关于中继系统透镜与样品臂显微物镜对称的位置)，在显微物镜和ETL/OL组件之间添加中继系统，可以保持样品臂显微物镜的远心成像条件，确保不同聚焦深度下成像视场和放大率的一致，重构出样品的高质量三维图像。

(3)将电控调焦镜头和补偿透镜(OL)设置在透镜管中，作为一个整体，便于整合到现有FF-OCT系统，结构简单、易于安装、经济实惠，对现有FF-OCT装置使用电控调焦提供了一种方便的改装方案。

附图说明

图1是本发明系统的结构示意图。

图2是本发明中电控调焦的原理示意图；其中(a)图是准直光束入射到样品臂显微物镜后，聚焦到样品表面时的标称工作距离，(b)图是发散光束入射到样品臂显微物镜后，聚焦深度加深，(c)图是会聚光束入射到样品臂显微物镜后，聚焦深度变浅。

图1中：1全场照明光源，2前置聚光透镜，3孔径光阑，4视场光阑，5后置聚光透镜，6准直用显微物镜，7分束立方棱镜，8探测臂聚光透镜，9面阵探测器，10参考臂光路转折反射镜，11参考臂显微物镜，12参考镜，13压电陶瓷移相器，14参考臂轴向位移平台，15样品臂光路转折反射镜，16电控调焦镜头，17负焦距补偿透镜，18中继系统前置透镜，19中继系统后置透镜，20样品臂显微物镜，21样品，22样品臂轴向位移平台，23计算机，24基于FPGA的同步信号发生器。

图2中：25电控调焦镜头调谐后的光束，20样品臂显微物镜，26显微物镜的最小工作距离，27显微物镜的标称工作距离，28显微物镜的最大工作距离，29电动调焦能够实现的聚焦深度调节范围，30电控调焦镜头调谐光束发散以后样品臂显微物镜的聚焦深度，31电控调焦镜头调谐光束会聚以后样品臂显微物镜的聚焦深度。

具体实施方式

下面结合附图和具体实例对本发明内容和操作进行详细说明。

如图1所示，本发明提供一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，主要结构包括全场照明光源1、改进型科勒照明模块、非偏振分束立方棱镜、样品臂模块、参考臂模块、探测臂模块、信号发生装置、控制系统、调焦组件、中继系统。

所述改进型科勒照明模块包括通过光路依次级联的前置聚光透镜2、孔径光阑3、视场光阑4、后置聚光透镜5、准直用显微物镜6；孔径光阑3位于前置聚光透镜2后焦面处，准直用显微物镜6位于后置聚光透镜5的后焦面处。

所述样品臂模块包括通过光路依次级联的样品臂光路转折反射镜15、样品臂显微物镜20、样品臂轴向位移平台22。

所述参考臂模块包括通过光路依次级联的参考臂光路转折反射镜10、参考臂显微物镜11、参考镜12、压电陶瓷移相器13、参考臂轴向位移平台14；参考镜12与压电陶瓷移相器13固定连接，且置于参考臂轴向位移平台14上；压电陶瓷移相器13带动参考镜12移动。

所述探测臂模块包括通过光路依次级联的探测臂聚光透镜8、面阵探测器9；面阵探测器9位于探测臂聚光透镜8的后焦面处，采集的信号接入计算机23实时显示图像，并根据TTL脉冲方波触发信号保存干涉图像信息。

所述参考臂显微物镜11、样品臂显微物镜20关于分束立方棱镜的位置共轭。

所述信号发生装置24为基于FPGA的同步信号发生器，用于给电控调焦镜头16提供控制电流，以及用于给压电陶瓷移相器13提供控制信号，用于给面阵探测器9提供触发信号；电控调焦镜头16的控制信号是以频率f进行递增的梯形信号，压电陶瓷移相器13的驱动信号采用频率为f的正弦模拟信号，面阵探测器9的触发信号采用频率为4f的TTL脉冲信号。

所述控制系统用于接收面阵探测器9反馈的图像数据，以及用于给控制参考臂轴向位移平台14、样品臂轴向位移平台22位移的电机提供控制信号。

所述调焦组件(即ETL/OL组件)、中继系统位于样品臂光路转折反射镜15、样品臂显微物镜20间位置；其中中继系统采用两个焦距相同的聚光透镜，包括前后设置的前置透镜18、后置透镜19；调焦组件位于样品臂显微物镜关于中继系统的共轭光瞳平面处，包括前后设置的电控调焦镜头(ETL)17、负焦距补偿透镜(OL)18，调焦组件安装在有RMS螺纹的透镜管中；所述电控调焦镜头17通过其电流变化以调节光路在样品的聚焦深度位置；电控调焦镜头的调控电流为0-300mA，自身焦距改变范围为50-200mm。

中心波长接近近红外的空间低相干宽带光源的灯丝发出非准直光束，经过前置聚光透镜2的聚光，灯丝像被成像至孔径光阑3处，然后经视场光阑4、后置聚光透镜5成像在准直用显微物镜6的前焦面，经过准直用显微物镜6的扩束形成准直光束，准直光束进入分束立方棱镜7被分为两束，分别进入样品臂和参考臂；在样品臂中，准直光束依次经过样品臂光路转折反射镜15、ETL/OL组件、中继系统前置透镜18、中继系统后置透镜19、样品臂显微物镜20后聚焦到样品21，通过施加0mA到300mA的控制电流信号，可以将电控调焦镜头16的焦距在10毫秒内调整为50mm到200mm之间的任意一个值，使样品臂显微物镜20获得600μm左右的轴向调焦范围，即样品臂显微物镜20的工作距离可以从2.8mm至3.4mm进行改变，实现真正意义上的无机械移动光学调焦；在参考臂中，准直光束经参考臂光路转折反射镜10转折到竖直方向，进入参考臂显微物镜11后，聚焦到参考镜12的表面，压电陶瓷移相器13带动参考镜12引入相移量，移相前使用参考臂轴向位移平台14对光程差进行调整；携带样品信息的样品后向反射或散射光与参考臂的后向反射或散射光在分束立方棱镜7处发生干涉；在探测臂，干涉光信号被探测臂聚光透镜8聚焦到面阵探测器9，实现不同相位干涉图像的采集。

初始化时参考臂光路转折反射镜10和样品臂光路转折反射镜15通过微调角度，使准直光束转折为竖直状态，使得样品和电控调焦镜头实现竖直放置，以减少重力对测量的不利影响。电控调焦镜头16中含有可调薄膜，不对称重力导致的变形可能会导致图像质量下降。

聚光透镜都是采用双胶合或三胶合透镜，这样可以校正一部分系统的色差和球差；电控调焦镜头16、分束立方棱镜7以及所有聚光透镜的表面都镀有400-700nm波段的增透膜。

使用电控调焦镜头16进行样品内聚焦深度调节时，电控调焦镜头的控制电流与聚焦位置相关联。

如果所需要的聚焦深度范围在几十μm以内，或者仅仅采集样品的断层图而不进行样品三维图像的重构时，可以将中继系统从光路中移除以简化光路的结构，这时电动变焦镜头16和负焦距补偿透镜17应尽可能放置在靠近样品臂显微物镜20的地方；

一种电控调焦全场光学相干层析成像系统进行高质量三维图像重构的方法，其步骤如下：

第一步，全场照明光源1发出的非准直光束经改进型科勒照明系统的准直后变为准直光束，被分束立方棱镜7分成两束准直光束，分别进入样品臂和参考臂。

第二步，进入样品臂的准直光束，首先经过样品臂光路转折反射镜15的转折，光束方向变为竖直方向，然后依次经过电控调焦镜头16、负焦距补偿透镜17、中继系统前置透镜18、中继系统后置透镜19、样品臂显微物镜20后聚焦到样品，样品竖直放在轴向位移平台22上，辅以机械聚焦装置调节聚焦面到样品21表面。

第三步，准直光束在参考臂中首先被转折为竖直状态，经参考臂显微物镜11出射到参考镜12，准直光束使用参考臂轴向位移平台14进行等光程调节；两臂的后向反射光在分束立方棱镜7处发生干涉；干涉光束从分束立方棱镜7出射到探测臂，经探测臂聚光透镜8聚焦到面阵探测器9表面。

第四步，基于FPGA的信号发生器24发出三路同步控制信号，电控调焦镜头16的控制信号是频率为f、递增量为1mA的梯形信号，电控调焦镜头的控制信号每递增1mA，使电控调焦镜头自身的焦距改变0.5mm，样品臂显微物镜的工作距离可以相应改变2μm。

第五步，工作距离改变2μm后，压电陶瓷移相器13在频率为f的正弦波控制下进行相位调制，同时面阵探测器9在频率为4f的TTL电平信号控制下触发采集四幅不同相位的干涉图像，然后，电控调焦镜头控制信号继续递增1mA，在三路同步信号控制下重复上述步骤，直到将样品各个深度上的断层图像采集完毕。

第六步，使用样品不同深度处的断层图像重构出三维图像信息。

面阵探测器9在一个周期内采集4张不同相位的样品干涉图I₁、I₂、I₃、I₄：

其中

为图像中噪声信号以及没有发生干涉的信号，A(x，y)和φ(x，y)是强度图信号和相位图信号。

经四步移相算法解调出强度图和相位图，可以表示为：

具体实施时，断层图像重构的算法除了上述的四步重构算法，还可以根据情况使用三步移相算法、五步移相算法以及基于Hilbert变换的单步移相算法等。

电控调焦镜头16和负焦距补偿透镜17以及中继系统还可以放在改进型科勒照明结构与分束立方棱镜7之间，这可以根据设计的FF-OCT系统尺寸进行合理安排，将ETL/OL、中继系统组件插入到对应位置即可。

进一步的，电控调焦FF-OCT系统的相移方式步进可以使用压电陶瓷移相器13进行机械相位调制，还可以使用偏振片、波片进行瞬时无机械移相；干涉图像信号的采集方式也可以是双通道、四通道等方式，即在一个面阵探测器上同时采集两幅或者四幅不同相位的干涉图像，这与电控调焦结合可以实现更快的采集速度，更高的图像重构质量；此外，同步信号的产生方式除了使用FPGA技术外，还可以使用单片机、数据采集卡等其他方式产生。

图2为本发明系统中使用的电控调焦的原理示意图。这是一种光学调焦方式，电控调焦镜头16在0-300mA电流的控制下，改变其内部的聚合物薄膜和光学流体的形状实现电控调焦镜头自身焦距在50-200mm之间改变，让进入到样品臂显微物镜20的光束被会聚或者发散，进而改变样品臂显微物镜20的工作距离，实现样品内部聚焦深度的改变。

Claims (10)

1.一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，特征在于包括空间低相干光源、改进型科勒照明模块、分束立方棱镜、样品臂模块、参考臂模块、探测臂模块、信号发生装置、控制系统、调焦组件、中继系统；

所述改进型科勒照明模块包括通过光路依次级联的前置聚光透镜、孔径光阑、视场光阑、后置聚光透镜、准直用显微物镜；孔径光阑位于前置聚光透镜后焦面处，准直用显微物镜位于后置聚光透镜的后焦面处；

所述样品臂模块包括通过光路依次级联的样品臂光路转折反射镜、样品臂显微物镜、样品臂轴向位移平台；

所述参考臂模块包括通过光路依次级联的参考臂光路转折反射镜、参考臂显微物镜、参考镜、移相器、参考臂轴向位移平台；参考镜与移相器固定连接，且置于参考臂轴向位移平台上；

所述探测臂模块包括通过光路依次级联的探测臂聚光透镜、面阵探测器；面阵探测器位于探测臂聚光透镜的后焦面处；

所述参考臂显微物镜、样品臂显微物镜关于分束立方棱镜的位置共轭；

所述信号发生装置用于给电控调焦镜头提供控制电流信号，以及用于给移相器提供控制信号，用于给面阵探测器提供触发信号；

所述控制系统用于接收面阵探测器反馈的图像数据，以及用于给参考臂轴向位移平台、样品臂轴向位移平台提供控制信号；

所述的调焦组件、中继系统位于样品臂光路转折反射镜、样品臂显微物镜间位置；其中调焦组件位于样品臂显微物镜关于中继系统的共轭光瞳平面处，包括前后设置的电控调焦镜头、补偿透镜；所述电控调焦镜头通过控制电控调焦镜头的控制电流，以调节光路在样品的聚焦位置；中继系统采用两个焦距相同的聚光透镜，包括前后设置的前置透镜、后置透镜。

2.根据权利要求1所述的一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，其特征在于电控调焦镜头的控制信号是以频率f进行递增的梯形信号，移相器的驱动信号采用频率为f的正弦模拟信号，面阵探测器的触发信号采用频率为4f的脉冲信号。

3.根据权利要求1所述的一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，其特征在于所述空间低相干光源采用全场均匀照明方式。

4.根据权利要求1所述的一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，其特征在于所述的中继系统中前置透镜、后置透镜采用胶合透镜，且前置透镜、后置透镜采用100mm焦距的消色差透镜。

5.根据权利要求1所述的一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，其特征在于所述移相器采用压电陶瓷移相器。

6.根据权利要求1所述的一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，其特征在于所述分束立方棱镜采用非偏振分束立方棱镜。

7.根据权利要求1所述的一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，其特征在于所述调焦组件安装在透镜管。

8.根据权利要求1所述的一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，其特征在于所述补偿透镜采用负焦距补偿透镜。

9.根据权利要求1所述的一种电控调焦全场光学相干层析成像系统，其特征在于电控调焦镜头的调控电流为0-300mA，焦距范围为50-200mm。

10.利用权利要求1-9任一所述一种电控调焦全场光学相干层析成像系统的三维图重构方法，其特征在于包括以下步骤：

步骤(1)、将待测样品置于样品臂轴向位移平台上；

步骤(2)、空间低相干光源发出的非准直光经过改进型科勒照明模块准直后变为准直光束，然后经分束立方棱镜分成两束准直光束，分别进入样品臂模块和参考臂模块；

步骤(3)、进入样品臂模块的准直光束，首先经过样品臂光路转折反射镜的转折，然后依次经过电控调焦镜头、补偿透镜、前置透镜、后置透镜、样品臂显微物镜后出射到待测样品；初始化时通过控制系统调控样品臂轴向位移平台轴向移动，使得样品上表面与样品臂显微物镜的距离为d_min，其中d_min表示在电控调焦镜头初始状态时显微物镜的标称工作距离；

步骤(4)、进入参考臂模块的准直光束，首先被参考臂光路转折反射镜转折，然后经参考臂显微物镜出射到参考镜；初始化时通过控制系统调控参考臂轴向位移平台使得参考臂模块和样品臂模块内光束达到等光程状态；

步骤(5)、分束立方棱镜接收参考臂模块和样品臂模块的后向反射或散射光，产生干涉光束，然后出射到探测臂聚光透镜，经聚焦后成像到面阵探测器；

步骤(6)、采集不同聚焦深度断层图，进而重构三维图像：

6-1控制系统调控电控调焦镜头的控制信号与移相器驱动信号的频率均为f，面阵探测器触发信号为频率为4f的TTL电平信号，同步信号控制面阵探测器采集样品不同深度处的4幅不同相位干涉图；其中频率为4f的面阵探测器触发信号在聚焦深度改变之前进行4幅不同相位干涉图的采集，干涉图采集过程中频率为f的驱动信号控制移相器进行移相，从而使采集的4幅干涉图具有不同的相位，然后信号发生器调控电控调焦镜头以频率f进行递增，进而改变电控调焦镜头的焦距，使得样品臂显微物镜的光束被会聚或者发散，最终改变样品臂显微物镜的工作距离d，d_min≤d≤d_max，用以实现待测样品内部聚焦深度的改变；其中d_max表示在电控调焦镜头调控下样品臂显微物镜的最大工作距离；

6-2重复步骤6-1采集不同聚焦深度断层图的4幅不同相位干涉图，进而重构出样品三维图像。

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