CN114075656B - 一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料以及能量储存装置 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 62
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 139
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 139
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 65
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 16
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 4
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract description 4
- 238000009501 film coating Methods 0.000 abstract description 4
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 193
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 49
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/14—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/24—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/02—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/02—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
- C23C28/023—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material only coatings of metal elements only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
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- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
本发明公开了导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料以及能量储存装置,该制备方法包括步骤:S1、在薄膜基材其中一个表面采用真空镀膜设备进行镀膜,形成第一金属镀层;S2、在第一金属镀层的外表面形成的第二金属镀层,从而形成单面金属膜;S3、对单面金属膜进行烘烤,采用淋膜复合设备,将PE料单面淋覆在单面金属膜的金属层表面上;S4、将步骤S2中得到的另一单面金属膜进行烘烤,再将该单面金属膜的金属层表面与步骤S3中PE料的表面进行压合定型、冷却;S5、经高温熟化制成多层复合金属材料,将复合的多层金属材料上、下表面的薄膜基材剥离,形成5‑6μm的导电薄膜;本发明的有益效果是:放宽了对外层薄膜基材厚度的限制,避免出现孔洞的现象,提高产品的优率。
Description
技术领域
本发明涉及多层复合结构的功能薄膜的制备方法,更具体的说,本发明涉及一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料以及能量储存装置。
背景技术
在薄膜上镀上金属从而获得具有一定功能的金属镀层薄膜,这种金属镀层薄膜广泛应用于各种领域中,最近几年,在超薄薄膜上镀上铜、铝等金属应用于电池领域发展非常迅速。而要实现在薄膜上镀上一层金属,主要方法包括蒸发镀膜,溅射镀膜等,蒸发镀膜主要是利用热源加热蒸发舟或者坩埚,使得位于蒸发舟或者坩埚内的蒸镀材料熔融蒸发,在真空条件下,蒸镀材料以原子或者离子的形式离开坩埚,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。而溅射镀膜主要是利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。现有技术中的生成工艺通常把几种镀膜方式结合使用,从而获得具有一定特性的稳定工艺,例如,为了获得高粘合力的镀膜产品,现有技术中有采用先在超薄基材表面磁控溅射镀上一层金属膜,然后再水镀增加其金属层厚度。
为了满足导电薄膜的厚度要求,对基膜的厚度有特定的要求,这就使得在生产导电薄膜卷材时,需要对基膜的厚度进行限制,基膜的厚度只能在一定的范围内,不能够过薄或者过厚。
另外在进行蒸发镀膜时,容易出现材料受热不均匀,局部温度过高的现象,当遇到基膜时就会将基膜烫穿,形成孔洞,从而影响产品的合格率。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明提供一种导电薄膜的制备方法,该制备方法放宽了对外层薄膜基材厚度的限制,避免出现孔洞的现象,提高产品的优率。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种导电薄膜的制备方法,其改进之处在于,该制备方法包括以下的步骤:
S1、在薄膜基材其中一个表面采用真空镀膜设备进行镀膜,形成80-200nm的第一金属镀层;
S2、通过水镀装置,在第一金属镀层的外表面形成800-900nm的第二金属镀层,从而形成单面金属膜;
S3、对单面金属膜进行烘烤;此后采用淋膜复合设备,将3-4μm的PE料单面淋覆在单面金属膜的金属层表面上;
S4、将步骤S2中得到的另一单面金属膜进行烘烤,再将该单面金属膜的金属层表面,与步骤S3中PE料的表面进行压合定型、冷却;
S5、经高温熟化制成多层复合金属材料,将复合的多层金属材料上、下表面的薄膜基材剥离,形成导电薄膜。
进一步的,所述的步骤S1中,所述的薄膜基材包括但不限于PP膜、PE膜或 PET膜。
进一步的,所述薄膜基材的厚度为12-20μm;所述导电薄膜的厚度为4-6μm。
进一步的,所述的步骤S1中,所述的真空镀膜设备包括但不限于真空蒸发镀膜设备或者磁控溅射镀膜设备。
进一步的,所述的步骤S1中,所述的薄膜基材包括但不限于PP膜、PE膜或 PET膜。
进一步的,所述的步骤S2中,水镀装置为碱性水镀设备或者酸性水镀设备。
进一步的,所述的第一金属镀层和第二金属镀层均为镀铜层。
进一步的,所述的步骤S3和S4中,烘烤温度为70-90℃,烘烤时间为30-60s。
进一步的,所述的步骤S5中,高温熟化的温度为60-80℃,时间为12-16h。
进一步的,所述的步骤S5中,采用剥离机实现对薄膜基材的剥离。
进一步的,在步骤S1之前还包括步骤S0:在薄膜基材的双面各涂覆一层 0.3-1um厚度的离型剂,以便于后续步骤将薄膜基材与功能膜进行有效剥离。
进一步的,所述导电薄膜的单面方阻在20mΩ以内。
本发明还提供了一种电流汇集传输材料,其改进之处在于:该电流汇集传输材料包括上述任意一项所述的导电薄膜。
本发明还提供了一种能量储存装置,包括阴极极片、阳极极片、隔离膜、电解液以及包装壳,其改进之处在于:所述阴极极片使用上述的电流汇集传输材料。
本发明的有益效果是:放宽了对外层薄膜基材厚度的限制,避免现有技术中薄膜基材不能够过薄或过厚的缺陷,同时,避免了原有技术路线中薄膜基材在蒸发镀膜过程中容易产生串泡和孔洞的现象;采用PE料替代原有的成型薄膜,在满足导电性要求的前提下,减少了生产能耗和材料成本,并且很大程度上可以提高产品的优率。
附图说明
图1为本发明的一种导电薄膜的制备方法的方法流程图。
图2为本发明的一种导电薄膜的制备方法的步骤S1中形成的产品结构图。
图3为本发明的一种导电薄膜的制备方法的步骤S2中形成的产品结构图。
图4为本发明的一种导电薄膜的制备方法的步骤S3和步骤S4中淋膜复合设备的工作原理图。
图5为本发明的一种导电薄膜的制备方法的步骤S4中所使用的的淋膜复合设备的结构原理图。
图6为本发明的一种导电薄膜的制备方法的步骤S5中形成的产品结构图。
图7为本发明的一种导电薄膜的制备方法的步骤S5中将薄膜基材剥离的结构示意图。
图8为本发明的一种导电薄膜的制备方法的步骤S5中形成的金属薄膜的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述,以充分地理解本发明的目的、特征和效果。显然,所描述的实施例只是本发明的一部分实施例,而不是全部实施例,基于本发明的实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例,均属于本发明保护的范围。另外,专利中涉及到的所有联接/连接关系,并非单指构件直接相接,而是指可根据具体实施情况,通过添加或减少联接辅件,来组成更优的联接结构。本发明创造中的各个技术特征,在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
实施例1
参照图1所示,本发明揭示了一种导电薄膜的制备方法,通过该方法实现导电薄膜的制备,具体在本实施例中,该方法包括以下的步骤:
S0:在薄膜基材30的双面各涂覆一层0.3-1um厚度的离型剂;
S1、在薄膜基材30其中一个表面采用真空镀膜设备进行镀膜,形成200nm的第一金属镀层10;本实施例中,所述的薄膜基材30为12μm厚的PET膜,真空镀膜设备为真空蒸发镀膜设备,如图2所示,第一金属镀层10成型于薄膜基材30的一个表面上;
S2、通过水镀装置,在第一金属镀层10的外表面形成600nm的第二金属镀层 20,从而形成单面金属膜40;本实施例中,所述的水镀装置为碱性水镀设备,并且第一金属镀层10和第二金属镀层20均为镀铜层,如图3所示,第二金属镀层20 成型于第一金属镀层10的另一面上;
S3、通过烘箱对单面金属膜进行烘烤,烘烤温度为80℃,烘烤时间为60S,此后采用淋膜复合设备,将3μm的PE料50单面淋覆在单面金属膜的金属层表面上;
S4、通过烘箱对步骤S2中得到的另一单面金属膜进行烘烤,烘烤温度为80℃,烘烤时间为60S,再将该单面金属膜的金属层表面,与步骤S3中PE料50的表面进行压合定型、冷却;在将两层单面金属膜压合定型前,均对单面金属膜进行了烘烤,通过烘烤使得单面金属膜更加平整,在压合定型时两片单面金属膜的粘贴则更加的牢固,提升了粘贴性能,压合定型后的膜则更加的平整,拉伸强度得到了增强,更耐高温。
本实施例中,如图4所示,提供了一种淋膜复合设备的原理示意图,两个单面金属膜40分别通过两个放料辊406实现放料,再分别通过第一复合辊401和第二复合辊402进行复合,其中位于图4中左边的单面金属膜40在复合前,先通过烘箱801对单面金属膜40进行烘烤,再通过淋膜头403实现PE料50的单面淋覆,位于图4中右边的单面金属膜40则先通过烘箱802对其进行烘烤,此后便通过第一复合辊401和第二复合辊402实现两个单面金属膜40的复合,将PE料50夹在两个单面金属膜40之间;再通过冷却辊404实现复合后成品膜的冷却,通过收料辊405实现成品膜的收料;如图6所示,即为成品膜的结构示意图,位于PE料50上方的第一金属镀层和第二金属镀层形成上金属层501,位于PE料50下方的第一金属镀层和第二金属镀层形成下金属层502;
S5、经高温熟化制成多层复合金属材料,将复合的多层金属材料上、下表面的薄膜基材30剥离,形成5μm的导电薄膜,此时导电薄膜的单面方阻在20mΩ以内,本实施例中,高温熟化的温度为60℃,时间为16h。
如图7所示,采用剥离机60实现对薄膜基材30的剥离,放料辊601用于实现成品膜的放料,再通过上剥料辊602和下剥料辊603的配合,将上、下两层的薄膜基材30从导电薄膜70上剥离,如图8所示,即为形成的导电薄膜70的结构示意图。
进一步的,本实施例中,基于上述的导电薄膜,本发明还提供了一种电流汇集传输材料,该电流汇集传输材料包括上述的导电薄膜。
更进一步的,本发明还揭示了一种能量储存装置,包括阴极极片、阳极极片、隔离膜、电解液以及包装壳,所述阴极极片使用上述的电流汇集传输材料。
在上述的实施例中,对于所述的淋膜复合设备,如图5所示,对于其工作原理,本发明还提供了一具体实施例,
淋膜复合设备一般包括第一放卷机构1、第二放卷机构2、复合膜压辊3、淋膜机构4、冷却辊5以及收卷机构6,工作时,首先将经过水镀工序的基材放卷与第一放卷机构1和第二放卷机构2,当位于第一放卷机构1和第二放卷机构2的基材沿着走线方向到达复合膜压辊3时,淋膜机构将熔融的PE料淋覆在进过的薄膜基材表面上,经过复合压辊3,到达冷却辊5冷却,最后到达收卷机构6收卷。由于淋膜复合设备属于现有技术中已经较为成熟的设备,因此在本实施例以及下文中将不会在对其结构进行详细的解释说明。
上述的导电薄膜的制备方法,在选材上,放宽了对外层薄膜基材30厚度的限制,避免现有技术中薄膜基材30不能够过薄或过厚的缺陷,同时,避免了原有技术路线中薄膜基材30在蒸发镀膜过程中容易产生串泡和孔洞的现象;采用PE料50 替代原有的成型薄膜,在满足导电性要求的前提下,减少了生产能耗和材料成本,并且很大程度上可以提高产品的优率。另外,该制备方法大大降低了蒸镀设备及水电镀设备的规格要求,减少固定资产投入,从而在整体上大幅降低产品总成本。剥离下来的外层薄膜基材30经过处理后可以进行回收再利用。
实施例2
参照图1所示,本发明揭示了一种导电薄膜的制备方法,通过该方法实现导电薄膜的制备,具体在本实施例中,该方法包括以下的步骤:
S1、在薄膜基材30其中一个表面采用真空镀膜设备进行镀膜,形成50nm的第一金属镀层10;本实施例中,所述的薄膜基材30为20μm厚的PET膜,真空镀膜设备为磁控溅射镀膜设备,如图2所示,第一金属镀层10成型于薄膜基材30的一个表面上;
S2、通过水镀装置,在第一金属镀层10的外表面形成900nm的第二金属镀层 20,从而形成单面金属膜40;本实施例中,所述的水镀装置为酸性水镀设备,并且第一金属镀层10和第二金属镀层20均为镀铜层,如图3所示,第二金属镀层20 成型于第一金属镀层10的另一面上;
S3、通过烘箱对单面金属膜进行烘烤,烘烤温度为90℃,烘烤时间为30S,此后采用淋膜复合设备,将4μm的PE料50单面淋覆在单面金属膜的金属层表面上;
S4、通过烘箱对步骤S2中得到的另一单面金属膜进行烘烤,烘烤温度为90℃,烘烤时间为30S,再将该单面金属膜的金属层表面,与步骤S3中PE料50的表面进行压合定型、冷却;在将两层单面金属膜压合定型前,均对单面金属膜进行了烘烤,通过烘烤使得单面金属膜更加平整,在压合定型时两片单面金属膜的粘贴则更加的牢固,提升了粘贴性能,压合定型后的膜则更加的平整,拉伸强度得到了增强,更耐高温。
本实施例中,如图4所示,两个单面金属膜40分别通过第一复合辊401和第二复合辊402进行复合,其中位于图4中左边的单面金属膜40在复合前,先通过烘箱801对单面金属膜40进行烘烤,再通过淋膜头403实现PE料50的单面淋覆,位于图4中右边的单面金属膜40则先通过烘箱802对其进行烘烤,此后便通过第一复合辊401和第二复合辊402实现两个单面金属膜40的复合,将PE料50夹在两个单面金属膜40之间;再通过冷却辊实现复合后成品膜的冷却,通过收料辊实现成品膜的收料;如图6所示,即为成品膜的结构示意图,位于PE料50上方的第一金属镀层和第二金属镀层形成上金属层,位于PE料50下方的第一金属镀层和第二金属镀层形成下金属层;
S5、经高温熟化制成多层复合金属材料,将复合的多层金属材料上、下表面的薄膜基材30剥离,形成6μm的导电薄膜,此时导电薄膜的单面方阻在20mΩ以内,本实施例中,高温熟化的温度为80℃,时间为12h。
如图7所示,采用剥离机60实现对薄膜基材30的剥离,放料辊用于实现成品膜的放料,再通过上剥料辊和下剥料辊的配合,将上、下两层的薄膜基材30从导电薄膜上剥离,如图8所示,即为形成的导电薄膜的结构示意图。
实施例3
参照图1所示,本发明揭示了一种导电薄膜的制备方法,通过该方法实现导电薄膜的制备,具体在本实施例中,该方法包括以下的步骤:
S1、在薄膜基材30其中一个表面采用真空镀膜设备进行镀膜,形成100nm的第一金属镀层10;本实施例中,所述的薄膜基材30为15μm厚的PET膜,真空镀膜设备为真空蒸发镀膜设备,如图2所示,第一金属镀层10成型于薄膜基材30的一个表面上;
S2、通过水镀装置,在第一金属镀层10的外表面形成800nm的第二金属镀层 20,从而形成单面金属膜40;本实施例中,所述的水镀装置为碱性水镀设备,并且第一金属镀层10和第二金属镀层20均为镀铜层,如图3所示,第二金属镀层20 成型于第一金属镀层10的另一面上;
S3、通过烘箱对单面金属膜进行烘烤,烘烤温度为90℃,烘烤时间为30S,此后采用淋膜复合设备,将2μm的PE料50单面淋覆在单面金属膜的金属层表面上;
S4、通过烘箱对步骤S2中得到的另一单面金属膜进行烘烤,烘烤温度为90℃,烘烤时间为30S,再将该单面金属膜的金属层表面,与步骤S3中PE料50的表面进行压合定型、冷却;在将两层单面金属膜压合定型前,均对单面金属膜进行了烘烤,通过烘烤使得单面金属膜更加平整,在压合定型时两片单面金属膜的粘贴则更加的牢固,提升了粘贴性能,压合定型后的膜则更加的平整,拉伸强度得到了增强,更耐高温。
本实施例中,如图4所示,两个单面金属膜40分别通过第一复合辊401和第二复合辊402进行复合,其中位于图4中左边的单面金属膜40在复合前,先通过烘箱801对单面金属膜40进行烘烤,再通过淋膜头403实现PE料50的单面淋覆,位于图4中右边的单面金属膜40则先通过烘箱802对其进行烘烤,此后便通过第一复合辊401和第二复合辊402实现两个单面金属膜40的复合,将PE料50夹在两个单面金属膜40之间;再通过冷却辊实现复合后成品膜的冷却,通过收料辊实现成品膜的收料;如图6所示,即为成品膜的结构示意图,位于PE料50上方的第一金属镀层和第二金属镀层形成上金属层,位于PE料50下方的第一金属镀层和第二金属镀层形成下金属层;
S5、经高温熟化制成多层复合金属材料,将复合的多层金属材料上、下表面的薄膜基材30剥离,形成4μm的导电薄膜,此时导电薄膜的单面方阻在20mΩ以内,本实施例中,高温熟化的温度为70℃,时间为14h。
如图7所示,采用剥离机60实现对薄膜基材30的剥离,放料辊用于实现成品膜的放料,再通过上剥料辊和下剥料辊的配合,将上、下两层的薄膜基材30从导电薄膜上剥离,如图8所示,即为形成的导电薄膜的结构示意图。
进一步的,本实施例中,基于上述的导电薄膜,本发明还提供了一种电流汇集传输材料,该电流汇集传输材料包括上述的导电薄膜。
更进一步的,本发明还揭示了一种能量储存装置,包括阴极极片、阳极极片、隔离膜、电解液以及包装壳,所述阴极极片使用上述的电流汇集传输材料。
实施例4
本实施例提供了一种导电薄膜的制备方法,通过该方法实现导电薄膜的制备,本实施例与实施例1的工艺步骤完全相同,其不同之处仅在于:薄膜基材30的厚度为20μm,第一金属镀层10的厚度为100nm,第二金属镀层20的厚度为850nm,淋膜的PE料厚度为3um,成型后的导电薄膜的厚度为5μm。
在上述任意的实施例中,当真空镀膜设备为真空蒸发镀膜设备或磁控溅射镀膜设备时,当水镀装置为碱性水镀设备或酸性水镀设备时,均未对真空镀膜设备和水镀装置作出详细的说明,其原因是,真空镀膜设备和水镀装置已经属于现有技术中非常成熟的技术,本发明上述任意实施例中均未对真空镀膜设备和水镀装置本身提出过改进,只借助于现有技术中的成熟技术实现第一金属镀层和第二金属镀层的成型。
本发明放宽了对外层薄膜基材30厚度的限制,可以选取12-20μm的薄膜基材30,避免现有技术中薄膜基材30不能够过薄或过厚的缺陷,同时,避免了原有技术路线中薄膜基材30在蒸发镀膜过程中容易产生串泡和孔洞的现象;采用PE料50 替代原有的成型薄膜,在满足导电性要求的前提下,减少了生产能耗和材料成本,并且很大程度上可以提高产品的优率。另外,本发明对需要压合定型的两层单面金属膜进行了烘烤,烘烤后的单面金属膜更加平整,压合定型后的膜也更加的平整,同时还提升了粘贴性能及拉伸强度,成型后的导电薄膜则更耐高温。
以上是对本发明的较佳实施进行了具体说明,但本发明创造并不限于所述实施例,熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换,这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (11)
1.一种导电薄膜的制备方法,其特征在于,该制备方法包括以下的步骤:
S1、在薄膜基材其中一个表面采用真空镀膜设备进行镀膜,形成50-200nm的第一金属镀层;
S2、通过水镀装置,在第一金属镀层的外表面形成600-900nm的第二金属镀层,从而形成单面金属膜;
S3、对单面金属膜进行烘烤,此后采用淋膜复合设备,将2-4μm的PE料单面淋覆在单面金属膜的金属层表面上;
S4、将步骤S2中得到的另一单面金属膜进行烘烤,再将该单面金属膜的金属层表面与步骤S3中PE料的表面进行压合定型、冷却;
S5、经高温熟化制成多层复合金属材料,将复合的多层金属材料上、下表面的薄膜基材剥离,形成导电薄膜的成品膜。
2.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤S1中,所述的薄膜基材包括但不限于PP膜、PE膜或PET膜。
3.根据权利要求1或2所述的一种导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述薄膜基材的厚度为12-20μm,所述导电薄膜的厚度为4-6μm。
4.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤S1中,所述的真空镀膜设备包括但不限于真空蒸发镀膜设备或者磁控溅射镀膜设备。
5.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤S2中,水镀装置为碱性水镀设备或者酸性水镀设备。
6.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述的第一金属镀层和/或第二金属镀层为镀铜层。
7.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤S3和S4中,烘烤温度为70-90℃,烘烤时间为30-60s。
8.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤S5中,高温熟化的温度为60-80℃,时间为12-16h。
9.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤S5中,采用剥离机实现对薄膜基材的剥离。
10.一种电流汇集传输材料,其特征在于:包括由权利要求1-9中任意一项所述导电薄膜的制备方法制得的导电薄膜。
11.一种能量储存装置,包括阴极极片、阳极极片、隔离膜、电解液以及包装壳,其特征在于:所述阴极极片使用根据权利要求10所述的电流汇集传输材料。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010853036.XA CN114075656B (zh) | 2020-08-22 | 2020-08-22 | 一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料以及能量储存装置 |
PCT/CN2020/123846 WO2022041446A1 (zh) | 2020-08-22 | 2020-10-27 | 一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料以及能量储存装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010853036.XA CN114075656B (zh) | 2020-08-22 | 2020-08-22 | 一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料以及能量储存装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114075656A CN114075656A (zh) | 2022-02-22 |
CN114075656B true CN114075656B (zh) | 2024-01-12 |
Family
ID=80282696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010853036.XA Active CN114075656B (zh) | 2020-08-22 | 2020-08-22 | 一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料以及能量储存装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114075656B (zh) |
WO (1) | WO2022041446A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114597418A (zh) * | 2022-03-11 | 2022-06-07 | 蔚来汽车科技(安徽)有限公司 | 复合集流体及其制备方法、锂离子电池和车辆 |
CN115537811A (zh) * | 2022-10-20 | 2022-12-30 | 蹇印军 | 一种复合金属膜及其制备方法 |
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CN103847217A (zh) * | 2014-03-12 | 2014-06-11 | 广东东南薄膜科技股份有限公司 | 一种转移式薄膜复合金属膜的方法及其生产设备 |
CN203805452U (zh) * | 2014-03-12 | 2014-09-03 | 广东东南薄膜科技股份有限公司 | 一种转移式薄膜复合金属膜的生产设备 |
CN108531876A (zh) * | 2018-03-26 | 2018-09-14 | 安徽金美新材料科技有限公司 | 一种用于锂电池集流体的镀膜工艺流程 |
CN210130065U (zh) * | 2019-07-05 | 2020-03-06 | 海宁卓泰电子材料有限公司 | 一种多层金属结构的屏蔽膜 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100947608B1 (ko) * | 2007-12-28 | 2010-03-15 | 엘지전자 주식회사 | 연성 필름 |
JP5283926B2 (ja) * | 2008-02-25 | 2013-09-04 | 株式会社東芝 | 光透過型金属電極およびその製造方法 |
CN110718316A (zh) * | 2018-07-11 | 2020-01-21 | 中国海洋大学 | 一种柔性金属铜薄膜的制备方法 |
-
2020
- 2020-08-22 CN CN202010853036.XA patent/CN114075656B/zh active Active
- 2020-10-27 WO PCT/CN2020/123846 patent/WO2022041446A1/zh active Application Filing
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CN103847217A (zh) * | 2014-03-12 | 2014-06-11 | 广东东南薄膜科技股份有限公司 | 一种转移式薄膜复合金属膜的方法及其生产设备 |
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CN108531876A (zh) * | 2018-03-26 | 2018-09-14 | 安徽金美新材料科技有限公司 | 一种用于锂电池集流体的镀膜工艺流程 |
CN210130065U (zh) * | 2019-07-05 | 2020-03-06 | 海宁卓泰电子材料有限公司 | 一种多层金属结构的屏蔽膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114075656A (zh) | 2022-02-22 |
WO2022041446A1 (zh) | 2022-03-03 |
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---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |