CN114032509A - 一种蒸镀设备 - Google Patents

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CN114032509A CN202111315737.9A CN202111315737A CN114032509A CN 114032509 A CN114032509 A CN 114032509A CN 202111315737 A CN202111315737 A CN 202111315737A CN 114032509 A CN114032509 A CN 114032509A
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潘洪英
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TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
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TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
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    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Abstract

本申请提供一种蒸镀设备，包括蒸镀基台；蒸镀源，包括多个坩埚，每一坩埚在蒸镀基板上对应一蒸镀区，蒸镀区包括一非重叠蒸镀子区和重叠蒸镀子区，重叠蒸镀子区由相邻两坩埚在蒸镀基板上对应的两蒸镀区部分重叠形成；速率监控模块，用于获取任一坩埚在蒸镀基板上对应的非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；调节模块用于获取坩埚的开口大小信息，接收坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，并根据第一蒸镀速率、第二蒸镀速率以及坩埚的开口大小信息调节坩埚的开口大小，以使坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。

Description

一种蒸镀设备
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种蒸镀设备。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode OLED)具有全固态、超薄、无视角限制、快速响应、室温工作、易于实现柔性显示和3D显示等优点，一致被公认为是下一代显示的主流技术。OLED器件制作的主要方式之一是加热蒸发镀膜，主要是通过加热容器在真空环境下加热蒸镀材料，使升华型或者熔融型的蒸镀材料在高温状态下气化，沉积在有TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)结构或者阳极结构的基板上。
由于线型蒸镀源上所处不同位置的蒸镀喷嘴分别对应待蒸镀基板上固定的蒸镀区域，倘若各蒸镀喷嘴出现材料的蒸镀速率不均，会导致基板上蒸镀的材料膜层厚度不均；此外，相邻的蒸镀喷嘴中蒸发出的部分材料会同时蒸镀在待蒸镀的基板上的某同一区域(后文将该区域称之为交叉区域)，所以交叉区域特别容易出现膜厚不均匀，这种蒸镀膜层厚度的不均匀性会导致有机显示器件的亮度和色彩不均匀，从而影响有机显示器件成品的最终显示性能。
发明内容
本申请实施例提供了一种蒸镀设备，用以缓解现有蒸镀设备在蒸镀基板上蒸镀的各膜层厚度不均的缺陷。
为解决上述技术问题，本申请实施例提供的技术方案如下：
一种蒸镀设备，包括：
蒸镀基台，用于承载蒸镀基板；
蒸镀源，与所述蒸镀基台相对设置，包括多个坩埚，每一所述坩埚在所述蒸镀基板上对应一蒸镀区，所述蒸镀区包括一非重叠蒸镀子区和重叠蒸镀子区，所述重叠蒸镀子区由相邻两所述坩埚在所述蒸镀基板上对应的两所述蒸镀区部分重叠形成；
速率监控模块，用于获取任一所述坩埚在所述蒸镀基板上对应的所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；
调节模块，分别与所述速率监控模块和所述坩埚连接，用于获取所述坩埚的开口大小信息，接收所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息调节所述坩埚的开口大小，以使所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，所述调节模块包括设置于所述坩埚上的开口控制模块、及分别与所述开口控制模块和所述速率监控模块连接的膜厚补偿模块；
所述开口控制模块与所述坩埚相连，用于获取所述坩埚的开口大小信息、及调节所述坩埚的开口大小；
所述膜厚补偿模块用于接收所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率、在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息控制所述开口控制模块调节所述坩埚的开口大小，以使所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，所述速率监控模块包括分别与所述膜厚补偿模块连接的多个第一速率监控模块和多个第二速率监控模块，一所述非重叠蒸镀子区内对应设有一所述第一速率监控模块，一所述重叠蒸镀子区内对应设有一所述第二速率监控模块。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，所述膜厚补偿模块包括信息收集单元，信息处理单元以及信息反馈单元；其中，
所述信息收集单元分别与所述速率监控模块和所述开口控制模块连接，用于获取所述坩埚的开口大小信息，接收所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，并将所述坩埚的开口大小信息、所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率传递给所述信息处理单元；
所述信息处理单元与所述信息收集单元连接，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息输出调节信号至所述信息反馈单元；
所述信息反馈单元分别与所述信息处理单元和所述开口控制模块连接，用于将所述调节信号传递给所述开口控制模块。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，所述信息处理单元包括一数据库，所述数据库用于存储各所述坩埚的开口大小信息、各所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；
若任一所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值不在所述预设范围内，则所述信息处理单元从所述数据库中选择一满足所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚的开口大小信息，并将所述坩埚的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述信息反馈单元。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，若所述信息处理单元从所述数据库中不能找到一满足所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚的开口大小信息；
则所述信息处理单元根据方程式：y＝Ax+Bx2+Cx3+D，计算使所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚的开口大小信息，并将所述坩埚的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述信息反馈单元；
其中，A、B、C、D均为常数，y为所述坩埚的开口大小信息，X为所述坩埚在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，所述开口控制模块还包括信息传递单元和开口控制单元；
其中，所述信息传递单元分别与所述信息处理单元和所述信息反馈单元连接，用于传递所述坩埚的开口大小信息、接收并传递所述调节信号；
所述控制单元分别与所述信息传递单元和所述坩埚连接，用于接收所述调节信号并调节所述坩埚的开口大小。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，所述开口控制单元包括多个电磁阀，每一所述电磁阀对应一所述坩埚的开口，所述电磁阀用于调节所述坩埚的开口大小。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，所述蒸镀设备还包括温度控制模块，用于控制所述蒸镀源的温度，并保持所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的稳定。
在本申请实施例所提供的蒸镀设备中，所述蒸镀源为线型结构。
本申请实施例的有益效果：本申请实施例提供一种蒸镀设备，所述蒸镀设备包括蒸镀基台，用于承载蒸镀基板；蒸镀源，与所述蒸镀基台相对设置，包括多个坩埚，每一所述坩埚在所述蒸镀基板上对应一蒸镀区，所述蒸镀区包括一非重叠蒸镀子区和重叠蒸镀子区，所述重叠蒸镀子区由相邻两所述坩埚在所述蒸镀基板上对应的两所述蒸镀区部分重叠形成；速率监控模块，用于获取任一所述坩埚在所述蒸镀基板上对应的所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；设置速率监控模块，用于获取任一所述坩埚在所述蒸镀基板上对应的所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，设置调节模块，获取所述坩埚的开口大小信息，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息调节所述坩埚的开口大小，以使所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内，从而使所述蒸镀基台上蒸镀的各膜层厚度均匀，进而提高有机显示器件成品的最终显示性能。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为现有蒸镀设备的结构示意图；
图2为本申请实施例所提供的蒸镀设备的示意图；
图3为本申请实施例所提供的调节模块的结构示意图；
图4为本申请实施例所提供的开口控制模块的结构示意图；
图5为本申请实施例所提供的膜厚补偿模块的结构示意图；
图6为本申请实施例所提供的蒸镀方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
请参阅图1，现有蒸镀设备的结构示意图。
在现有蒸镀设备中，包括蒸镀基台10，用于承载蒸镀基板11；蒸镀源20，与所述蒸镀基台10相对设置，包括多个坩埚21，每一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应一蒸镀区100，所述蒸镀区100包括一非重叠蒸镀子区110和重叠蒸镀子区120，所述重叠蒸镀子区120由相邻两所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的两所述蒸镀区100部分重叠形成；其中，所述坩埚21用于沉积蒸镀材料，所述蒸镀源20包括但不限于线型蒸镀源。
在现有蒸镀设备中，由于每一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应一蒸镀区100，因此在所述坩埚21的开口向所述蒸镀基板11上喷射所述蒸镀材料时，如果出现各所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应所述蒸镀区100内的蒸镀速率不均的情况，则会导致所述蒸镀基板11上蒸镀的各膜层厚度不均；此外，由于所述重叠蒸镀子区120由相邻两所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的两所述蒸镀区100部分重叠形成，因此在所述重叠蒸镀子区120内，更容易出现蒸镀的各膜层厚度不均的现象，从而影响有机显示器件成品的最终显示性能。基于此，本申请提供一种蒸镀设备，用以缓解现有蒸镀设备在蒸镀基板上蒸镀的各膜层厚度不均的缺陷。
请参阅图2～图5，本申请体提供一蒸镀设备，所述蒸镀设备包括蒸镀基台10，用于承载蒸镀基板11；蒸镀源20，与所述蒸镀基台10相对设置，包括多个坩埚21，每一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应一蒸镀区100，所述蒸镀区100包括一非重叠蒸镀子区110和重叠蒸镀子区120，所述重叠蒸镀子区120由相邻两所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的两所述蒸镀区100部分重叠形成；速率监控模块30，用于获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率；调节模块40，分别与所述速率监控模块30和所述坩埚21连接，用于获取所述坩埚21的开口大小信息，接收所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
本申请通过设置所述速率监控模块30，用于获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，设置所述调节模块40，获取所述坩埚21的开口大小信息，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内，从而使所述蒸镀基台10上蒸镀的各膜层厚度均匀，进而提高有机显示器件成品的最终显示性能。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
请参阅图2，本申请实施例所提供的蒸镀设备的示意图。
本实施例提供一种蒸镀设备，所述蒸镀设备包括蒸镀基台10，用于承载蒸镀基板11；蒸镀源20，与所述蒸镀基台10相对设置，包括多个坩埚21，每一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应一蒸镀区100，所述蒸镀区100包括一非重叠蒸镀子区110和重叠蒸镀子区120，所述重叠蒸镀子区120由相邻两所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的两所述蒸镀区100部分重叠形成。
其中，所述蒸镀源20包括但不限于线型结构，所述蒸镀源20包括由一个纵向延伸到预定距离的细长筒体形成的，用于在其中容纳多个所述坩埚21；所述坩埚21用于沉积蒸镀材料，其中，所述坩埚21包括一开口(图中未标记)，在平行于所述蒸镀源20延伸的方向上，所述开口的横截面积小于所述坩埚21的横截面积，所述开口用于向所述蒸镀基板11上喷射沉积于所述坩埚21内的蒸镀材料。
可以理解的是，所述蒸镀源20包括由一个纵向延伸到预定距离的细长筒体形成的仅用作举例说明，其中，所述预定距离根据实际生产需要进行设定，本实施例对此不做具体限制。
在本实施例中，所述蒸镀设备还包括速率监控模块30和调节模块40。
其中，所述速率监控模块30用于获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率。
需要说明的是，在本实施例中，所述速率监控模块30包括水晶子，所述水晶子的初始频率为6MHz，当所述蒸镀材料附着在所述水晶子表面时，所述水晶子的震荡频率发生变化，其变化大小与水晶子表面附着所述蒸镀材料的厚度和特性相关，因此本实施例采用具有初始震荡频率为6MHz的所述水晶子接收在所述蒸镀区100内的蒸镀材料，可以通过反推某一段时间内蒸镀到所述水晶子表面的所述蒸镀材料的厚度，从而得到所述蒸镀区100的蒸镀速率。
可以理解的是，本实施例对所述蒸镀材料的种类不做具体限制，并且所述水晶子的初始频率为6MHz仅用于举例说明。
所诉调节模块40分别与所述速率监控模块30和所述坩埚21连接，用于获取所述坩埚21的开口大小信息，接收所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
需要说明的是，所述预设范围可以根据实际生产需要进行设定，本实施例对此不做具体限制。
可以理解的是，本实施例通过设置速率监控模块30，用于获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，设置调节模块40，获取所述坩埚21的开口大小信息，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内，从而使所述蒸镀基台10上蒸镀的各膜层厚度均匀，进而提高有机显示器件成品的最终显示性能。
请结合图2和图3；其中，所述图3为本申请实施例所提供的调节模块的结构示意图。
在本实施例中，所述调节模块40包括设置于所述坩埚21上的开口控制模块41、及分别与所述开口控制模块41和所述速率监控模块30连接的膜厚补偿模块42。
所述开口控制模块41与所述坩埚21相连，用于获取所述坩埚21的开口大小信息、及调节所述坩埚21的开口大小。
所述膜厚补偿模块42用于接收所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率、在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息控制所述开口控制模块41调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
进一步地，在本实施例中，所述速率监控模块30包括分别与所述膜厚补偿模块42连接的多个第一速率监控模块30和多个第二速率监控模块30，一所述非重叠蒸镀子区110内对应设有一所述第一速率监控模块30，一所述重叠蒸镀子区120内对应设有一所述第二速率监控模块30。
所述第一速率监控模块30用于获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率，并将所述第一蒸镀速率传递给所述膜厚补偿模块42；所述第二速率监控模块30用于获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，并将所述第二蒸镀速率传递给所述膜厚补偿模块42。
承上，请结合图4和图5；其中，图4为本申请实施例所提供的开口控制模块的结构示意图；图5为本申请实施例所提供的膜厚补偿模块的结构示意图。
在本实施例中，所述膜厚补偿模块42包括信息收集单元421，信息处理单元422以及信息反馈单元423。
其中，所述信息收集单元421分别与所述速率监控模块30和所述开口控制模块41连接，用于获取所述坩埚21的开口大小信息，接收所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，并将所述坩埚21的开口大小信息、所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率传递给所述信息处理单元422，其中，所述信息收集单元421包括但不限于常规的传感器和控制器，本实施例对此不做多余赘叙。
所述信息处理单元422与所述信息收集单元421连接，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息输出调节信号至所述信息反馈单元，其中，所述信息处理单元422包括但不限于一般的计算机处理系统，本实施例对此不做多余赘叙。
所述信息反馈单元423分别与所述信息处理单元422和所述开口控制模块41连接用于将所述调节信号传递给所述开口控制模块41，其中，所述信息反馈单元423包括但不限于传统的控制器、受控对象以及反馈通路，本实施例对此不做多余赘叙。
进一步地，所述信息处理单元422包括一数据库，所述数据库用于存储各所述坩埚21的开口大小信息、各所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率。
需要说明的是，在所述数据库中，各所述坩埚21的开口大小信息、各所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率可以是在实际生产工艺中提前采集到的数据，也可以是在实际生产工艺中实时采集到的数据，本实施例对此不做具体限制。
其中，若任一所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值不在所述预设范围内，则所述信息处理单元422从所述数据库中选择一满足所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚21的开口大小信息，并将所述坩埚21的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述信息反馈单元423。
需要说明的是，在一实施例中，若所述信息处理单元422从所述数据库中不能找到一满足所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚21的开口大小信息，则所述信息处理单元422根据方程式：
y＝Ax+Bx2+Cx3+D，计算使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚21的开口大小信息，并将所述坩埚21的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述信息反馈单元423。
其中，A、B、C、D均为常数，y为所述坩埚21的开口大小信息，X为所述坩埚21在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率；并且，所述信息处理单元422的数据库可以存储计算得到的所述坩埚21开口的大小和所述坩埚21在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率。
需要说明的是在方程式中，A、B、C的取值可以根据所述坩埚21在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率进行设定，本实施例对此不做具体限制。
在本实施例中，所述开口控制模块41还包括信息传递单元411和开口控制单元412。
其中，所述信息传递单元411分别与所述信息处理单元422和所述信息反馈单元423连接，用于传递所述坩埚21的开口大小信息、接收并传递所述调节信号。
所述开口控制单元412分别与所述信息传递单元411和所述坩埚21连接，用于接收所述调节信号并调节所述坩埚21的开口大小。
需要说明的是，在本实施例中，所述开口控制单元412包括但不限于多个电磁阀，每一所述电磁阀对应一所述坩埚21的开口，所述电磁阀用于调节所述坩埚21的开口大小，从而控制所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率。
具体地，为了能清楚的对本申请的技术方案进行描述，本实施例以所述预设范围为±5％为例对本申请的技术方案进行举例说明。
在一实施例中，所述第一速率监控模块30获取的任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率为0.9A/S，所述第二速率监控模块30获取的所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率为0.95A/S，所述开口控制模块41获取的所述坩埚21的开口大小信息为y。
由于所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率0.9A/S与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率0.95A/S的差值为-5.5％，不在所述预设范围内±5％内，因此所述膜厚补偿模块42从所述数据库中选择一满足所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚21的开口大小信息，并将所述坩埚21的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述开口控制模块41。
所述开口控制模块41根据所述调节信号调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围±5％内，从而使所述蒸镀基台10上蒸镀的各膜层厚度均匀，进而提高有机显示器件成品的最终显示性能。
可以理解的是，所述第一蒸镀速率为0.9A/S，所述第二蒸镀速率为0.95A/S，仅用作举例说明，本实施例对此不做具体限制；同时，若任一所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内，则所述膜厚补偿模块42不输出所述调节信号，所述开口控制模块41根据不调节所述坩埚21的开口大小。
在本实施例中，所述蒸镀设备还包括温度控制模块50，所述温度控制模块50与所述蒸镀源20和所述开口控制模块41连接，用于控制所述蒸镀源20的温度，并保持所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的稳定，从而使所述蒸镀基板11上蒸镀的膜层厚度均匀。
本实施例还提供一种蒸镀方法，所述蒸镀方法包括上述实施例中所述的蒸镀设备，可以理解的是，所述蒸镀设备已经在上述实施例中进行了详细的说明，在此不在过多赘叙。
具体地，请结合图2、图3、图4、图5以及图6；其中，图6为本申请实施例所提供的蒸镀方法的流程示意图。
在本实施例中，所述蒸镀方法包括以下步骤：
步骤S10：利用所述速率监控模块30获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率。
在本实施例中，所述步骤S10包括以下步骤：
步骤S11：利用所述第一速率监控模块31获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率，并将所述第一蒸镀速率传递给所述调节模块40。
步骤S12：利用所述第二速率监控模块32获取任一所述坩埚21在所述蒸镀基板11上对应的所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，并将所述第二蒸镀速率传递给所述调节模块40。
步骤S20：利用所述调节模块40获取所述坩埚21的开口大小信息，接收所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
在本实施例中，所述步骤S20包括以下步骤：
步骤S21:利用所述开口控制模块41获取所述坩埚21的开口大小信息，并将所述坩埚21的开口大小信息传递给所述膜厚补偿模块42。
在本实施例中，所述步骤S21包括以下步骤：
步骤S211:利用所述信息传递单元411获取所述坩埚21的开口大小信息，并将所述坩埚21的开口大小信息递给所述膜厚补偿模块42。
步骤S22:利用所述膜厚补偿模块42接收所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率、在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息控制所述开口控制模块41调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
在本实施例中，所述步骤S22包括以下步骤：
步骤S221:利用所述信息收集单元421获取所述坩埚21的开口大小信息，接收所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率，并将所述坩埚21的开口大小信息、所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率传递给所述信息处理单元422。
步骤S222：利用所述信息处理单元422根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚21的开口大小信息输出调节信号至所述信息反馈单元423。
其中，所述步骤S222包括以下步骤：
步骤S2221:若任一所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值不在所述预设范围内，则所述信息处理单元422从所述数据库中选择一满足所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚21的开口大小信息，若可以找到满足上述条件的所述开口大小信息，则将所述坩埚21的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述信息反馈单元423。
其中，所述步骤S2221还包括：若所述信息处理单元422从所述数据库中不能找到一满足所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚21的开口大小信息，则所述信息处理单元422根据方程式：y＝Ax+Bx2+Cx3+D，计算使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚21的开口大小信息，并将所述坩埚21的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述信息反馈单元423；其中，A、B、C均为系数，D为常数，y为所述坩埚21的开口大小信息，X为所述坩埚21在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率；并且，所述信息处理单元422的数据库可以存储计算得到的所述坩埚21开口的大小和所述坩埚21在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率。
需要说明的是，若任一所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内，则不从所述数据库中选择所述坩埚21的开口大小信息。
步骤S223:所述信息反馈单元423接收所述调节信号，并将所述调节信号传递给所述开口控制模块41。
步骤S224：利用所述开口控制模块41接收所述调节信号，调节所述坩埚21的开口大小，以使所述坩埚21在所述非重叠蒸镀子区110内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区120内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
在本实施例中，所述步骤S224包括以下步骤：
步骤S2241：利用所述信息传递单元411接收并传递所述调节信号至所述开口控制单元412。
步骤S2242：利用所述开口控制单元412接收所述调节信号并调节所述坩埚21的开口大小。
综上所述，本申请提供了一种蒸镀设备，包括蒸镀基台；蒸镀源，包括多个坩埚，每一坩埚在蒸镀基板上对应一蒸镀区，蒸镀区包括一非重叠蒸镀子区和重叠蒸镀子区，重叠蒸镀子区由相邻两坩埚在蒸镀基板上对应的两蒸镀区部分重叠形成；速率监控模块，用于获取任一坩埚在蒸镀基板上对应的非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；调节模块用于获取坩埚的开口大小信息，接收坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，并根据第一蒸镀速率、第二蒸镀速率以及坩埚的开口大小信息调节坩埚的开口大小，以使坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：
蒸镀基台，用于承载蒸镀基板；
蒸镀源，与所述蒸镀基台相对设置，包括多个坩埚，每一所述坩埚在所述蒸镀基板上对应一蒸镀区，所述蒸镀区包括一非重叠蒸镀子区和重叠蒸镀子区，所述重叠蒸镀子区由相邻两所述坩埚在所述蒸镀基板上对应的两所述蒸镀区部分重叠形成；
速率监控模块，用于获取任一所述坩埚在所述蒸镀基板上对应的所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；
调节模块，分别与所述速率监控模块和所述坩埚连接，用于获取所述坩埚的开口大小信息，接收所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息调节所述坩埚的开口大小，以使所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述调节模块包括设置于所述坩埚上的开口控制模块、及分别与所述开口控制模块和所述速率监控模块连接的膜厚补偿模块；
所述开口控制模块与所述坩埚相连，用于获取所述坩埚的开口大小信息、及调节所述坩埚的开口大小；
所述膜厚补偿模块用于接收所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率、在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息控制所述开口控制模块调节所述坩埚的开口大小，以使所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
3.如权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述速率监控模块包括分别与所述膜厚补偿模块连接的多个第一速率监控模块和多个第二速率监控模块，一所述非重叠蒸镀子区内对应设有一所述第一速率监控模块，一所述重叠蒸镀子区内对应设有一所述第二速率监控模块。
4.如权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述膜厚补偿模块包括信息收集单元，信息处理单元以及信息反馈单元；其中，
所述信息收集单元分别与所述速率监控模块和所述开口控制模块连接，用于获取所述坩埚的开口大小信息，接收所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，并将所述坩埚的开口大小信息、所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率传递给所述信息处理单元；
所述信息处理单元与所述信息收集单元连接，并根据所述第一蒸镀速率、所述第二蒸镀速率以及所述坩埚的开口大小信息输出调节信号至所述信息反馈单元；
所述信息反馈单元分别与所述信息处理单元和所述开口控制模块连接，用于将所述调节信号传递给所述开口控制模块。
5.如权利要求4所述蒸镀设备，其特征在于，所述信息处理单元包括一数据库，所述数据库用于存储各所述坩埚的开口大小信息、各所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；
若任一所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值不在所述预设范围内，则所述信息处理单元从所述数据库中选择一满足所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚的开口大小信息，并将所述坩埚的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述信息反馈单元。
6.如权利要求5所述蒸镀设备，其特征在于，若所述信息处理单元从所述数据库中不能找到一满足所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚的开口大小信息；
则所述信息处理单元根据方程式：y＝Ax+Bx2+Cx3+D，计算使所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在所述预设范围内的所述坩埚的开口大小信息，并将所述坩埚的开口大小信息作为所述调节信号传递给所述信息反馈单元；
其中，A、B、C、D均为常数，y为所述坩埚的开口大小信息，X为所述坩埚在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率。
7.如权利要求6所述的蒸镀设备，其特征在于，所述开口控制模块还包括信息传递单元和开口控制单元；
其中，所述信息传递单元分别与所述信息处理单元和所述信息反馈单元连接，用于传递所述坩埚的开口大小信息、接收并传递所述调节信号；
所述控制单元分别与所述信息传递单元和所述坩埚连接，用于接收所述调节信号并调节所述坩埚的开口大小。
8.如权利要求7所述蒸镀设备，其特征在于，所述开口控制单元包括多个电磁阀，每一所述电磁阀对应一所述坩埚的开口，所述电磁阀用于调节所述坩埚的开口大小。
9.如权利要求1所述蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括温度控制模块，用于控制所述蒸镀源的温度，并保持所述坩埚在所述非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在所述重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的稳定。
10.如权利要求1所述蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀源为线型结构。
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