CN114014573A - 一种基于紫外线照射的机制砂改性装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其包括输料皮带、紫外线发生装置和机制砂平铺装置,其中,紫外线发生装置固定设置在输料皮带的上方,使得输料皮带上的机制砂处于紫外线发生装置的照射范围内,紫外线发生装置至少能够发出UVA、UVB和UVC三种不同波段的紫外线;机制砂平铺装置固定设置在输料皮带的进料端。机制砂平铺装置能够将机制砂单层平铺在输料皮带上,紫外线发生装置发出的UVA、UVB和UVC波段的紫外线能够削弱机制砂表面氢键的缔合作用,裂解聚丙烯酰胺等絮凝剂水解后形成的网络结构,并对附着的微生物具有灭杀作用,能够改善含机制砂水泥混凝土的流变性能。
Description
技术领域
本发明涉及物理方法对建筑材料表面改性技术领域,尤其涉及一种基于紫外线照射的机制砂改性装置。
背景技术
混凝土是当前使用量最大,也是消耗自然资源量最大的工程材料。混凝土中主要的原材料包括水泥、砂子、石子、水和化学外加剂等。其中的砂子过去主要来自江河流域,但随着用量的增加,河道保护和环境执法趋严,使得天然砂的来源日益紧张,这样,机制砂就应运而生。机制砂是采用石料经破碎、分选、清洗等过程而得到的石制颗粒材料,是当前配置混凝土的主要细骨料,在我国混凝土生产中机制砂使用比例已远远超过天然砂而达到60%以上。
机制砂生产工艺分为干法和湿法,目前以湿法居多。以湿法工艺生产的机制砂表面常常附着有污染物、包括泥土、石粉、絮凝剂和微生物。当机制砂进入应用时,这些表面附着物就会在混凝土中产生不良影响,主要的不良影响是降低流动性,增加坍落度损失,削弱砂-水泥界面结合强度,也容易造成水泥混凝土强度的下降,为抵消絮凝剂等附着物的副作用,配制混凝土时常常需要加大减水剂的用量,从而使混凝土生产成本增加,有时单方面外加剂费用会增加一倍以上。尽管市场上出现了针对絮凝剂副作用的外加剂小料,但其增加了混凝土生产过程的复杂性,效果不稳定,且总的成本没有得到有效控制。
紫外线携带的能量高,具有裂解聚合物中大分子链的能力,也可以对沙土中的微生物起到杀灭作用,还可以改变水分子的结合状态,因此能够改变机制砂表面性质,从而改善含有机制砂的水泥基材料的流变性质和物理力学性能。
专利(申请号:201910173884.3)公开了一种耐黄变砂基透水砖,其包括透水基层和位于所述透水基层表面的透水表层,所述透水基层的组分按重量份数计包括:机制砂5-15份、级配碎石50-90份、无机胶结材料15-30份、水2.6-6份和减水剂0.1-0.3份;所述透水表层的组分按重量份数计包括:氢化双酚A环氧树脂2-6份、聚醚胺1-3份、脂环胺0.5-1.6份、风积砂92-96份、抗氧化剂0.04-0.24份、紫外线吸收剂0.08-0.48份和偶联剂0.09-0.36份。
该方案的目的在于向透水砖的透水表层的组分中添加紫外线吸收剂,与机制砂等组分混合后制成上述透水砖,来提高透水砖中位于内层的机制砂等组分的抗紫外线照射性能,而无法将原材料中的有机物杂质降解,以提高机制砂水泥混凝土的性能。
发明内容
本发明针对当前机制砂附着有机污染物而导致混凝土物理力学性能劣化的共性问题,提出一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,通过紫外线照射而达到表面有机污染物(絮凝剂、微生物等)的快速降解,从而缓解或解决携带有机污染物的机制砂导致混凝土流动性和强度等指标下降等技术问题。
为达到上述技术目的,本发明的技术方案提供一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,包括:
输料皮带,用于输送机制砂;
紫外线发生装置,固定设置在所述输料皮带的上方,使得所述输料皮带上的机制砂处于所述紫外线发生装置的照射范围内,所述紫外线发生装置至少能够发出UVA、UVB和UVC三种不同波段的紫外线;
机制砂平铺装置,固定设置在所述输料皮带的进料端,使得进入所述输料皮带的机制砂能够在所述输料皮带上平铺一薄层,所述薄层的厚度与机制砂最大粒径的2~3倍。
进一步的,所述输料皮带的进料端还设置有机制砂筛选装置,用以控制进入所述输料皮带的机制砂的粒径。
进一步的,所述紫外线发生装置包括灯罩和若干个固定安装在所述灯罩底部的第一紫外线灯、第二紫外线灯以及第三紫外线灯,所述第一紫外线灯、所述第二紫外线灯和所述第三紫外线灯分别能够发出UVA、UVB和UVC三种不同波段的紫外线灯光。
进一步的,所述第一紫外线灯、所述第二紫外线灯以及所述第三紫外线灯依次交替设置在所述灯罩的底部。
进一步的,所述灯罩上从所述输料皮带的进料端至出料端分为三个照射单元,所述第一紫外线灯、所述第二紫外线灯以及所述第三紫外线灯分别安装在所述灯罩上三个所述照射单元对应的位置,其中,所述第三紫外线灯安装在靠近所述进料端的所述照射单元处。
进一步的,所述机制砂平铺装置包括:
升降驱动装置,固定设置在所述输料皮带进料端的一侧;
异型刮板,沿着所述输料皮带的宽度方向横跨设置在所述所述输料皮带的进料端,并与所述升降驱动装置的顶端固定连接。
进一步的,所述异型刮板为U型刮板,U型的所述异型刮板在所述输料皮带的上表面形成一储料区。
进一步的,所述输料皮带进料端的两侧均沿竖直方向滑动设置有挡片,所述升降驱动装置的输出端通过所述挡片与所述异型刮板一端固定连接。
进一步的,所述挡片的高度远大于机制砂的粒径。
进一步的,所述基于紫外线照射的机制砂改性装置还包括若干个沿所述输料皮带长度方向分布的翻料机构,所述翻料机构包括支撑架和料刷,其中,所述支撑架横跨设置在所述输料皮带的上方,所述支撑架上固定装有所述料刷。
与现有技术相比,本发明的有益效果包括:
所述基于紫外线照射的机制砂改性装置中,所述机制砂平铺装置能够将机制砂以薄层平铺在所述输料皮带上,以使机制砂受到所述紫外线发生装置的充分照射,所述紫外线发生装置发出的UVA、UVB和UVC波段的紫外线能够削弱机制砂表面氢键的缔合作用,裂解聚丙烯酰胺等絮凝剂水解后形成的网络结构,或者对附着的微生物具有灭杀作用,能够改善含机制砂水泥混凝土的流变性能。
附图说明
图1是本发明提供的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置的正视图;
图2是本发明提供的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置去掉机制砂筛选装置后的俯视图;
图3是本发明中紫外线发生装置的结构示意图;
图4是本发明中异型刮板和挡片的连接示意图;
图5是本发明中控制电路的电路连接示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例一
本发明提供了一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其结构如图1和图2所示,包括输料皮带1、紫外线发生装置2和机制砂平铺装置3,其中,所述输料皮带1用于输送机制砂;所述紫外线发生装置2固定设置在所述输料皮带1的上方,使得所述输料皮带1上的机制砂处于所述紫外线发生装置2的照射范围内,所述紫外线发生装置2至少能够发出UVA、UVB和UVC三种不同波段的紫外线;所述机制砂平铺装置3固定设置在所述输料皮带1的进料端,使得进入所述输料皮带1的机制砂能够在所述输料皮带1上平铺一薄层,所述薄层的厚度为机制砂最大粒径的2~3倍。
所述基于紫外线照射的机制砂改性装置中,所述机制砂平铺装置3能够将机制砂单层平铺在所述输料皮带1上,以使机制砂受到所述紫外线发生装置2的充分照射,所述紫外线发生装置2发出的UVA、UVB和UVC波段的紫外线能够削弱正、负离子基团形成分子内或分子间氢键的缔合作用,裂解聚丙烯酰胺等絮凝剂水解后形成的网络结构,或者对附着的微生物具有灭杀作用,能够改善含机制砂水泥混凝土的流变性能。
作为优选的实施例,请参照图3,所述紫外线发生装置2包括灯罩21和若干个固定安装在所述灯罩21底部的第一紫外线灯22、第二紫外线灯23以及第三紫外线灯24,所述第一紫外线灯22、所述第二紫外线灯23和所述第三紫外线灯24分别能够发出UVA、UVB和UVC三种不同波段的紫外线灯光,不同波段紫外线照射对机制砂表面性质的影响情况如表1~表3所示:
表1紫外线照射引起机制砂表面温度的变化(℃)
初始温度 | 5min | 10min | 15min | 20min | |
无照射 | 22 | 22 | 22 | 22 | 22 |
UVA | 22 | 22.2 | 22.8 | 23.1 | 23.6 |
UVB | 22 | 22.3 | 23.1 | 23.4 | 24 |
UVC | 22 | 22.8 | 23 | 24.1 | 25.0 |
表2紫外线照射引起的机制砂含水率的变化(%)
初始含水率 | 5min | 10min | 15min | 20min | |
无照射 | 2.67 | 2.62 | 2.59 | 2.55 | 2.50 |
UVA | 2.67 | 2.62 | 2.58 | 2.53 | 2.47 |
UVB | 2.67 | 2.62 | 2.58 | 2.51 | 2.44 |
UVC | 2.67 | 2.60 | 2.55 | 2.49 | 2.38 |
注:表1和表2中,UVB和UVC均为40W。
表3紫外线照射引起的机制砂砂浆流动性的变化
注:所用水泥450g,机制砂1350g,水202.5g,高效减水剂2.5g。
作为具体的实施例,此处定义若干个所述第一紫外线灯22、若干个所述第二紫外线灯23和若干个所述第三紫外线灯24在所述输料皮带1上的照射区域长度分别为L1、L2和L3,机制砂在所述输料皮带1上的运行速度为v,L1/v、L2/v和L3/v分别为机制砂在所述输料皮带1上对应于第一紫外线灯22、所述第二紫外线灯23和所述第三紫外线灯24的照射时长t1、t2和t3,则t1不小于10min,t2不小于10min,t3不小于5min。
作为优选的实施例,所述灯罩21的内表面为一弧形的凹面,且内侧涂有反射层,用以将所述紫外线发生装置2发出的紫外线反射至所述输料皮带1上的机制砂表面。在该实施例中,所述灯罩21采用镀锌的不锈钢薄板制成。
作为优选的实施例,为保证不同波段的紫外线达到均匀分布,所述第一紫外线灯22、所述第二紫外线灯23以及所述第三紫外线灯24依次交替设置在所述灯罩21的底部,具体地,所述第一紫外线灯22、所述第二紫外线灯23以及所述第三紫外线灯24的功率均为5W~50W。
作为优选的实施例,请继续参照图1,所述输料皮带1的进料端还设置有机制砂筛选装置4,用以控制进入所述输料皮带1的机制砂的粒径,使得进入所述输料皮带1的机制砂粒径处于一定的范围。
作为优选的实施例,请参照图1和图4,所述机制砂平铺装置3包括升降驱动装置31和异型刮板32,所述升降驱动装置31固定设置在所述输料皮带1进料端的一侧;所述异型刮板32沿着所述输料皮带1的宽度方向横跨设置在所述所述输料皮带1的进料端,并与所述升降驱动装置31的顶端固定连接。在该实施例一种,所述升降驱动装置31可以是气缸、液压缸或电动推杆。
通过设置所述机制砂平铺装置3,可以根据所述机制砂筛选装置4筛选的机制砂粒径大小,调节所述升降驱动装置31使所述异型刮板32与所述输料皮带1上表面之间的间距为机制砂最大粒径的2~3倍,在机制砂从该间距通过时受到所述异型刮板32的阻挡作用,使从该间距通过的机制砂平铺在所述输料皮带1的上表面,从而保证机制砂充分受到紫外线的照射。
作为优选的实施例,所述异型刮板32为U型刮板,U型的所述异型刮板32在所述输料皮带1的上表面形成一储料区320。
作为优选的实施例,所述输料皮带1进料端的两侧均沿竖直方向滑动设置有挡片33,所述升降驱动装置31的输出端通过所述挡片33与所述异型刮板32一端固定连接。作为优选的实施例,所述挡片33的高度远大于机制砂的粒径,使所述挡片33在上升时,始终紧贴所述输料皮带1的两侧,用于阻挡所述输料皮带1上的机制砂,避免机制砂受到阻挡洒落。
作为优选的实施例,考虑到机制砂照射的均匀性,所述基于紫外线照射的机制砂改性装置还包括若干个沿所述输料皮带1长度方向分布的翻料机构5,用于翻动所述输料皮带1上的机制砂,所述翻料机构5包括支撑架和料刷,其中,所述支撑架横跨设置在所述输料皮带1的上方,所述支撑架上固定装有所述料刷。
通过设置所述翻料机构5对所述输料皮带1上的机制砂进行翻料,有利于机制砂的充分、均匀照射,同时,在翻料时能够促进机制砂表面的附着物脱落,从而改善界面结合,进而改善机制砂混凝土的物理力学性能。
实施例二
本实施例与实施例一的区别仅在于,所述灯罩21上从所述输料皮带1的进料端至出料端分为三个照射单元,所述第一紫外线灯22、所述第二紫外线灯23以及所述第三紫外线灯24分别安装在所述灯罩21上三个所述照射单元对应的位置,其中,所述第三紫外线灯24安装在靠近所述进料端的所述照射单元处。
当机制砂中的含水率较高时,所述第三紫外线灯24安装在靠近所述进料端的所述照射单元处,通过所述第三紫外线灯24产生的UVC紫外线,能够对机制砂进行快速脱水;而所述第一紫外线灯22和所述第二紫外线灯23产生的UVA、UVB紫外线,能够对机制砂表面高分子残留物进行加速降解。
作为优选的实施例,请参照图5,所述基于紫外线照射的机制砂改性装置还包括控制电路,所述控制电路包括交流电源、断路器、电源总开关、整流变压器、控制器、指示灯1、指示灯2、指示灯3、UVA灯管、UVB灯管、UVC灯管、镇流器U、继电器等,其中,紫外灯与指示灯串联,经镇流器U、继电器与断路器输出端连接,控制器通过整流变压器与断路器的输出端连接,断路器的输入端接交流电源,配电系统的工作电压为220V。
每一个紫外发生器的工作程序(连续或间歇照射、单一波段或多波段组合照射)均由控制器所控制。紫外线发生器的工作程序取决于事先对机制砂的颗粒级配、高分子附着物种类和数量、泥粉含量、含水率和亚甲蓝值等指标的测评结果。具体影响如下,机制砂颗粒级配对空隙率存在显著影响,当机制砂为平均粒径大于0.35mm的中砂或者粗砂时,且粒径在1.18mm以上的砂所占比例在50%以上,或者机制砂的空隙率大于40%时,则应优先选用UVB和UVC为主的组合波段连续照射,UVA灯管间歇照射,反之,则应优先选用UVA和UVB为主的组合波段连续照射,UVC灯管间歇照射;絮凝剂的种类众多,分子量存在较大差异,对于分子量较高的1500万~2500万的阴离子型絮凝剂则应优选UVB和UVC为主的组合波段连续照射,UVA灯管间歇照射,对于分子量较低的600万~1000万的阳离子型和800万~1500万的非离子型絮凝剂则应优选UVA和UVB为主的组合波段连续照射,UVC灯管间歇照射;泥粉含量严重影响了紫外线对高分子附着物的分解效率,当泥粉含量大于1%时,则优先选择的是UVA、UVB、UVC三者组合的混合波段连续照射,反之,则选用UVB、UVC为主的混合波段连续照射,UVA灯管间歇照射;含水率也是影响紫外线对絮凝剂照射效果的另一重要因素,当机制砂中含水率高于3%时则优先选用UVB和UVC为主的波长连续照射,UVA灯管间歇照射,反之,则选用UVA和UVB为主的组合波段连续照射,UVC灯管间歇照射;其中亚甲蓝值是判断机制砂中石粉和泥粉的指标,当其值大于1.4时应选择UVA、UVB、UVC的组合波段连续照射,反之,当亚甲蓝值小于1.4时应选择UVB和UVC为主的组合波段连续照射,UVA灯管间歇照射。并且根据上述影响因素综合情况,设置出最合适的紫外发生器程序。
为了方便地理解本发明,以下结合图1-图5对本发明的工作原理进行详细说明:
机制砂在进入所述输料皮带1前,根据所述机制砂筛选装置4筛选的机制砂粒径大小,调节所述升降驱动装置31以改变所述异型刮板32与所述输料皮带1上表面之间的间距,使该间距为机制砂最大粒径的2~3倍,使从该间距通过的机制砂平铺在所述输料皮带1的上表面,进入所述输料皮带1的机制砂受到所述紫外线发生装置2发出的不同波长、强度紫外线的照射,使附着于机制砂表面的有机高分子和微生物等残余物得到一定程度的降解和灭杀,并且能够使附着于机制砂表面的水分的结合状态发生改变,从而改善砂-水泥浆体界面结合状态,进而改善水泥基材料的物理力学性能,同时,随着所述翻料机构5的动作,使附着于砂粒表面的泥土颗粒发生脱落。
本发明提供的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置具有以下有益效果:
(1)所述基于紫外线照射的机制砂改性装置中,所述机制砂平铺装置3能够将机制砂单层平铺在所述输料皮带1上,以使机制砂受到所述紫外线发生装置2的充分照射,所述紫外线发生装置2发出的UVA、UVB和UVC波段的紫外线能够削弱正、负离子基团形成分子内或分子间氢键的缔合作用,裂解聚丙烯酰胺等絮凝剂水解后形成的网络结构,或者对附着的微生物具有灭杀作用,能够改善含机制砂水泥混凝土的流变性能;
(2)通过设置所述机制砂平铺装置3,可以根据所述机制砂筛选装置4筛选的机制砂粒径大小,调节所述升降驱动装置31使所述异型刮板32与所述输料皮带1上表面之间的间距为机制砂最大粒径的2~3倍,在机制砂从该间距通过时受到所述异型刮板32的阻挡作用,使从该间距通过的机制砂平铺在所述输料皮带1的上表面,从而保证机制砂充分受到紫外线的照射。
以上所述本发明的具体实施方式,并不构成对本发明保护范围的限定。任何根据本发明的技术构思所做出的各种其他相应的改变与变形,均应包含在本发明权利要求的保护范围内。
Claims (10)
1.一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,包括:
输料皮带,用于输送机制砂;
紫外线发生装置,固定设置在所述输料皮带的上方,使得所述输料皮带上的机制砂处于所述紫外线发生装置的照射范围内,所述紫外线发生装置至少能够发出UVA、UVB和UVC三种不同波段的紫外线;
机制砂平铺装置,固定设置在所述输料皮带的进料端,使得进入所述输料皮带的机制砂能够在所述输料皮带上平铺一薄层,所述薄层的厚度为机制砂最大粒径的2~3倍。
2.根据权利要求1所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述输料皮带的进料端还设置有机制砂筛选装置,用以控制进入所述输料皮带的机制砂的粒径。
3.根据权利要求1所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述紫外线发生装置包括灯罩和若干个固定安装在所述灯罩底部的第一紫外线灯、第二紫外线灯以及第三紫外线灯,所述第一紫外线灯、所述第二紫外线灯和所述第三紫外线灯分别能够发出UVA、UVB和UVC三种不同波段的紫外线灯光。
4.根据权利要求3所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述第一紫外线灯、所述第二紫外线灯以及所述第三紫外线灯依次交替设置在所述灯罩的底部。
5.根据权利要求3所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述灯罩上从所述输料皮带的进料端至出料端分为三个照射单元,所述第一紫外线灯、所述第二紫外线灯以及所述第三紫外线灯分别安装在所述灯罩上三个所述照射单元对应的位置,其中,所述第三紫外线灯安装在靠近所述进料端的所述照射单元处。
6.根据权利要求1所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述机制砂平铺装置包括:
升降驱动装置,固定设置在所述输料皮带进料端的一侧;
异型刮板,沿着所述输料皮带的宽度方向横跨设置在所述输料皮带的进料端,并与所述升降驱动装置的顶端固定连接。
7.根据权利要求6所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述异型刮板为U型刮板,U型的所述异型刮板在所述输料皮带的上表面形成一储料区。
8.根据权利要求6所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述输料皮带进料端的两侧均沿竖直方向滑动设置有挡片,所述升降驱动装置的输出端通过所述挡片与所述异型刮板一端固定连接。
9.根据权利要求8所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述挡片的高度远大于机制砂的粒径。
10.根据权利要求1所述的一种基于紫外线照射的机制砂改性装置,其特征在于,所述基于紫外线照射的机制砂改性装置还包括若干个沿所述输料皮带长度方向分布的翻料机构,所述翻料机构包括支撑架和料刷,其中,所述支撑架横跨设置在所述输料皮带的上方,所述支撑架上固定装有所述料刷。
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