CN113996191B - 一种b掺杂分子筛膜、制备方法及用途 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种B掺杂分子筛膜、制备方法及用途,属于分子筛膜技术领域。通过原位骨架掺杂将B掺杂进入DDR分子筛的骨架,提高分子筛膜对CO2的吸附并减小膜的孔径,解决CO2/H2分离选择性较低的问题。
Description
技术领域
本发明涉及一种B掺杂分子筛膜、制备方法及用途,属于分子筛膜技术领域。
背景技术
DDR分子筛膜由于其对CO2表现出优先吸附,且在分离CO2/CH4时分子筛分作用使得CH4无法进入分子筛的孔道,因而表现出较高的分离选择性。但是当其用于分离CO2/H2时,由于H2的动力学直径小于分子筛的孔径,单单依靠CO2的优先吸附,很难达到很高的CO2/H2分离选择性。Zheng等人[1]通过二次生长法制备的DDR分子筛膜在常温下表现出优先透CO2,CO2/H2选择性为1.4,王琳等人[83]在臭氧环境下低温(473K)脱除分子筛膜模板,制备了高性能无缺陷的DDR分子筛膜,然而,该膜在常温分离等摩尔CO2/H2时,理想选择性仅为5。
[1]Mirfendereski M,Sadrzadeh M,Mohammadi T.Effect of synthesisparameters on single gas permeation through T-type zeolite membranes,International Journal of Greenhouse Gas Control,2008,2(4):531-538.
[2]Wang L,Zhang C,Gao X,et al.Preparation of defect-free DDR zeolitemembranes by eliminating template with ozone at low temperature,Journal ofMembrane Science,2017,539:152-160.
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:DDR分子筛膜对分离CO2/H2时的分离系数低。采用的技术手段是通过原位骨架掺杂将B掺杂进入DDR分子筛的骨架,提高分子筛膜对CO2的吸附并减小膜的孔径,解决CO2/H2分离选择性较低的问题。
技术方案:
一种B掺杂分子筛膜,包括支撑层和分离层,所述的分离层材质是DDR分子筛,且分子筛骨架中部分Si被B取代。
在一个实施方式中,所述的分离层的厚度1-20μm。
在一个实施方式中,所述的支撑层的材质为多孔陶瓷。
上述的B掺杂分子筛膜的制备方法,包括如下步骤:
步骤a,将Sigma-1分子筛晶种制备成晶种液,涂覆于支撑体的表面;
步骤b,将步骤a中得到的支撑体与含有硼源的合成液接触并进行水热合成反应,干燥后,脱模板剂,得到B掺杂分子筛膜。
在一个实施方式中,所述的Sigma-1分子筛晶种是通过二次生长法制备得到。
在一个实施方式中,所述的二次生长法包括:将原位合成得到Sigma-1分子筛进行球磨处理后,置于晶种合成液中进行水热合成反应。
在一个实施方式中,晶种合成液中的原料摩尔配比ADA(金刚烷胺):SiO2:Al2O3:NaOH:H2O=5-20:30-100:1-4:1-6:500-4000。
在一个实施方式中,Sigma-1分子筛在晶种合成液中的浓度0.05-2wt%。
在一个实施方式中,水热合成反应条件400-500K下1-72h。
在一个实施方式中,含有硼源的合成液中的原料摩尔配比是:ADA:SiO2:EN:H2O:Na2B4O7=1-6:20-300:20-100:2000-8000:0.01-1。
在一个实施方式中,水热合成反应条件400-500K下1-72h。
在一个实施方式中,脱模板剂是指放入含有臭氧和氧气的气氛中煅烧脱除,煅烧过程温度420-520K,升温速率0.5-5K/min。
B掺杂分子筛膜在用于气体分离中的用途。
在一个实施方式中,所述的气体分离是指CO2/CH4或者CO2/H2气体分离。
在一个实施方式中,所述的气体分离是指含有水蒸汽的气体。
硼在用于提高DDR分子筛膜对CO2/H2气体分离因子中的用途。
有益效果
本发明将B引入到DDR分子筛的骨架,增强了CO2吸附性能,进而显著提高了CO2/H2分离选择性。制备得到的B-DDR分子筛膜应用于等摩尔CO2/H2气体分离时,当温度为298K,压力为3.5bar时,CO2的渗透性为3.5×10-8mol m-2s-1Pa-1,分离选择性为16.5。
附图说明
图1:不同B掺杂量DDR分子筛的XRD图:(a)2θ范围为5-50°;(b)2θ范围为14-18.5°
图2:不同B掺杂量DDR分子筛的FT-IR图
图3:不同B掺杂量DDR分子筛膜SEM图
图4:B0.8-DDR分子筛膜对加湿的CO2/H2分离稳定性
具体实施方式
实施例1Sigma-1分子筛的制备
采用二次生长法制备Sigma-1分子筛晶种:合成液摩尔配比为ADA:SiO2:Al2O3:NaOH:H2O=10:60:2:3:2400,将合成液搅拌混合均匀后,将原位合成法制备的Sigma-1分子筛经球磨处理后以0.2wt.%的量添加到配制的合成液中,超声并搅拌使球磨晶种在合成液中分散均匀,然后将合成液倒入不锈钢反应釜中,置于453K烘箱中水热合成24h。
利用德国Retsch公司的高能行星球磨仪对制备得到的Sigma-1分子筛进行球磨处理,球磨机中使用的研磨罐和研磨球材质均为氧化锆。球磨转速为300rpm,球磨时间为3.6h,然后使用离心机,离心转速设置为11000rpm,离心时间设置为20min,将离心得到的固体在333K下干燥12h,得到的固相分子筛研磨备用。
实施例2B掺杂DDR(B-DDR)分子筛膜的制备
步骤1,晶种液的配制及晶种涂覆
称取一定量的球磨Sigma-1晶种置于去离子水中,加入1wt.%的硅溶胶溶液,搅拌并超声后配制成0.5wt.%Sigma-1晶种液,通过浸渍提拉法在预处理的四通道α-Al2O3中空纤维支撑体表面涂覆一层球磨Sigma-1晶种,涂覆时间控制为15s,然后放入333K烘箱烘干。实验中所用的四通道α-Al2O3中空纤维支撑体为实验室自制,外径为3.7mm,孔隙率约44%,N2渗透性为2.5×10-5mol·m-2·s-1·Pa-1。
步骤2,B-DDR分子筛膜的制备
制备B-DDR沸石分子筛膜的合成液所需的原料为金刚烷胺、乙二胺、硅溶胶、去离子水和四硼酸钠,其摩尔配比为ADA:SiO2:EN:H2O:Na2B4O7=3:100:50:4000:x(x=0,0.05,0.1,0.2,0.4),为方便标记,制备得到的分子筛膜分别标记为DDR,B0.2-DDR,B0.4-DDR,B0.8-DDR和B1.6-DDR。称取一定量的金刚烷胺置于聚四氟乙烯锥形瓶中,接着加入相应量的乙二胺,超声搅拌处理使金刚烷胺溶解完全,快速加入去离子水后在室温下搅拌20min。然后在搅拌的状态下逐滴加入硅溶胶并加入相应量的四硼酸钠。最后将合成液在333K下搅拌陈化1h。
将涂晶的中空纤维载体垂直放置于装有聚四氟乙烯内衬的不锈钢反应釜中,缓慢加入合成液,将反应釜放入温度为413K的烘箱,控制合成时间为44h。将合成得到的B-DDR分子筛膜用去离子水洗净并干燥。最后将B-DDR分子筛膜放入混有臭氧和氧气的气氛炉内煅烧脱除模板剂,温度设置为473K,升降温速率设置为1K/min,煅烧时间设置为72h。
B-DDR分子筛及分子筛膜的表征
B-DDR分子筛膜的微观形貌采用场发射扫描电子显微镜进行分析(FE-SEM,Hitachi公司,S-4800)表征。B-DDR分子筛膜的晶体结构通过X射线衍射仪(XRD,MiniFlex600,Rigaku)进行分析,样品的物相鉴定在常温下进行,采用铜靶产生Kα射线,衍射范围5°~50°,衍射步长为0.02°/sec。B-DDR分子筛的傅里叶变换红外图谱通过红外光谱仪(FT-IR,Nicolet 8700,Nicolet)测试。B-DDR分子筛的比表面积和孔体积采用物理吸附仪(BET,JW-BK300C)表征。11B MAS NMR实验在Agilent 600DD2光谱仪上以192.39MHz的共振频率进行,在室温下用4mm探针以15kHz的自旋速率记录11B NMR偶极解耦魔角自旋(DD/MAS)光谱。
采用二次生长法在涂覆了球磨Sigma-1晶种的中空纤维外表面制备B-DDR分子筛膜,主要考察了四硼酸钠含量对膜气体分离性能的影响。图1为B-DDR分子筛的XRD图谱,从图1的(a)区域中可以看出,不同四硼酸钠添加量制备得到的B-DDR分子筛均具有DDR的典型特征峰,且没有杂晶峰的出现,表明合成的分子筛是纯相的且结晶度较高。由图1的(b)区域局部放大图谱可以看出,随着四硼酸钠添加量的增加,衍射角向更高的角度偏移,根据布拉格方程表明分子筛孔径的减小,证明B掺杂进入了DDR分子筛的骨架。
表1为不同B掺杂量DDR分子筛的比表面积和孔体积数据,从表中结果可以看出,随着四硼酸钠添加量的增加,B-DDR分子筛比表面积由365.9m2 g-1降低到339.3m2 g-1,孔体积由0.136cm3 g-1降低到0.125cm3 g-1,这是因为B原子代替了骨架中的Si原子,使得键长减小,键角增大,导致了分子筛的比表面积和孔体积的缩小,进一步证明B掺杂进入了DDR分子筛的骨架。
表1不同B掺杂量DDR分子筛的比表面积和孔体积
对不同B掺杂量制备的DDR分子筛进行傅里叶变换红外测试,得到的数据如图2所示。从图2可以看出,3461cm-1为SiO-H伸缩振动峰,1111cm-1为Si-O-Si伸缩振动峰,789cm-1为Si-O四面体振动峰,452cm-1为Si-O-Si弯曲振动峰,与文献中报道的DDR分子筛出峰位置相一致。当四硼酸钠添加摩尔比大于等于0.2(即B0.8-DDR和B1.6-DDR)时,在961cm-1处出现了明显的B-O-Si对称伸缩振动峰,进一步表明B掺杂进入DDR分子筛骨架,当掺杂量较小时,B-O-Si对称伸缩振动峰可能因为强度较弱而没有被检测到。
图3为不同B掺杂量DDR分子筛膜的表面和断面SEM图,从左侧表面图中可以看出,随着合成液中四硼酸钠摩尔比增加,膜表面晶型由规则的菱形转变为不规则块状结构,这可能是因为B原子的掺杂改变了分子筛的孔径而引起的,膜层连续致密,分子筛交互生长良好,从右侧断面SEM图可以看出,B原子的掺杂对膜的厚度影响不大,B-DDR分子筛膜的厚度基本保持不变,大约为5μm。
CO2/CH4及CO2/H2气体分离
B-DDR分子筛膜的质量通过CO2/CH4及CO2/H2气体分离性能评价。将中空纤维B-DDR分子筛膜置于自制的不锈钢分离膜组件中,两端采用硅橡胶O型密封圈密封。原料侧压力通过背压阀调节,渗透侧保持常压,通过配备有温度控制器的加热炉控制分离体系的温度。膜的外表面作为进料侧通入等摩尔CO2/CH4或者CO2/H2混合气,混合气流量为100mL min-1,氦气作为吹扫气进入膜的内腔,流量为50mL min-1。此外,在考察B-DDR分子筛膜的水汽稳定性时,在膜的进料测增加气体增湿装置,采用鼓泡的方式使得水汽与原料气混合,在CO2/H2/H2O的体系中,水汽含量为1.5%。渗透侧气体经干燥柱后通入色谱(GC2014,日本岛津)分析。膜的分离性能分别采用气体渗透性(Pm,i,mol m-2s-1Pa-1)与分离选择性(Si/j)表示:
Pm,i=Fi/Δp
Si/j=Pm,i/Pm,j
其中Fi为气体渗透通量,mol m-2s-1;Δp为跨膜压差,Pa。
合成液四硼酸钠含量对B-DDR分子筛膜CO2/CH4分离的影响
表2为不同B掺杂量制备得到的DDR分子筛膜对等摩尔CO2/CH4分离性能的影响,操作温度为298K,进料侧压力为0.2MPa,渗透测为常压。从表中可以看出,随着合成液中四硼酸钠摩尔比的增加,CO2和CH4渗透性均呈现下降的趋势,选择性则呈现先上升后略微减小的趋势。这是因为随着B掺杂量的增加,分子筛孔径降低,阻碍了气体分子的扩散,另一方面,B的掺杂增强了膜表面对CO2的吸附性能,导致CO2的渗透性下降幅度小于CH4。当四硼酸钠的添加摩尔比小于等于0.2时,CO2吸附增强导致渗透性提高占据主导地位,而当四硼酸钠的摩尔比为0.4时,孔径缩小导致渗透性下降占据主导地位。因此,当四硼酸钠添加摩尔比为0.2,CO2/CH4选择性最高,
即B0.8-DDR分子筛膜的选择性最高为467,此时的CO2渗透性为3.5×10-8mol m-2s- 1Pa-1。
表2不同B掺杂量制备的DDR分子筛膜对CO2/CH4分离性能的影响
合成液四硼酸钠含量对B-DDR分子筛膜CO2/H2分离的影响
表3为不同B掺杂量制备得到的DDR分子筛膜对等摩尔CO2/H2分离性能的影响,操作温度为298K,进料侧压力为0.3MPa,渗透测为常压。从表中可以看出,随着合成液中四硼酸钠摩尔比的增加,CO2和H2渗透性均呈现下降的趋势,选择性则呈现先上升后基本保持不变的趋势。这是因为B的掺杂导致分子筛膜的孔径减小,气体分子传质阻力增大,另一方面,B的掺杂强化了对CO2的吸附,对CO2的渗透性有一定强化作用。当四硼酸钠的添加摩尔比小于等于0.2时,CO2吸附增强导致渗透性提高占据主导地位,而当四硼酸钠的摩尔比为0.4时,孔径缩小导致渗透性下降占据主导地位。因此,当四硼酸钠添加摩尔比为0.2,即B0.8-DDR分子筛膜的CO2/H2选择性最高为15.6,约是DDR分子筛膜CO2/H2选择性的3倍,此时的CO2渗透性为3.6×10-8mol m-2s-1Pa-1。
表3不同B掺杂量制备的DDR分子筛膜对CO2/H2分离性能的影响
B0.8-DDR分子筛膜CO2/H2/H2O分离稳定性
如图4所示,原料温度为298K,原料压力为0.2MPa。没加水汽之前运行的4h内,CO2和H2的渗透性分别为4.1×10-8mol m-2s-1Pa-1和3.3×10-9mol m-2s-1Pa-1,分离选择性为12.4。当加入体积比为1.5%的水汽之后,CO2和H2的渗透性分别降为约1.1×10-8mol m-2s- 1Pa-1和1.08×10-9mol m-2s-1Pa-1,分离选择性约为10.2,并且稳定运行了48h,气体渗透性的下降是因为水蒸气很容易的吸附在分子筛的孔道中,并且部分的阻塞了气体分子的扩散通道,且水蒸气的存在对CO2的渗透性影响更大,因此分离选择性有略微的下降。重新撤出水汽后,分离性能基本恢复,CO2和H2的渗透性分别为3.7×10-8mol m-2s-1Pa-1和3.1×10-9molm-2s-1Pa-1,分离选择性为12.1,表明B-DDR分子筛膜在潮湿的环境下也具有良好的耐水性。
Claims (7)
1.一种B掺杂分子筛膜,包括支撑层和分离层,其特征在于,所述的分离层材质是DDR分子筛,且分子筛骨架中部分Si被B取代;
所述的B掺杂分子筛膜的制备方法包括如下步骤,
步骤a,将Sigma-1分子筛晶种制备成晶种液,涂覆于支撑体的表面;
步骤b,将步骤a中得到的支撑体与含有硼源的合成液接触并进行水热合成反应,干燥后,脱模板剂,得到B掺杂分子筛膜;
含有硼源的合成液中的原料摩尔配比是:ADA: SiO2: EN: H2O: Na2B4O7=1-6:20-300:20-100:2000-8000:0.01-1;
水热合成反应条件400-500K下1-72h;
脱模板剂是指放入含有臭氧和氧气的气氛中煅烧脱除,煅烧过程温度420-520K,升温速率0.5-5K/min。
2.根据权利要求1所述的B掺杂分子筛膜,其特征在于,所述的分离层的厚度1-20μm。
3.根据权利要求1所述的B掺杂分子筛膜,其特征在于,所述的支撑层的材质为多孔陶瓷。
4.根据权利要求1所述的B掺杂分子筛膜,其特征在于,所述的Sigma-1分子筛晶种是通过二次生长法制备得到。
5.根据权利要求4所述的B掺杂分子筛膜,其特征在于,所述的二次生长法包括如下步骤:将原位合成得到Sigma-1分子筛进行球磨处理后,置于晶种合成液中进行水热合成反应;
晶种合成液中的原料摩尔配比ADA: SiO2: Al2O3: NaOH: H2O = 5-20 :30-100: 1-4:1-6: 500-4000;
Sigma-1分子筛在晶种合成液中的浓度0.05-2wt%;
水热合成反应条件400-500K下1-72h。
6.权利要求1所述的B掺杂分子筛膜在气体分离中的用途。
7.根据权利要求6所述的用途,其特征在于,所述的气体分离是指CO2/CH4或者CO2/H2气体分离。
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GR01 | Patent grant | ||
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