CN113955830A - 一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，包括电解槽，所述电解槽包括阳极室、补充液室、阴极室，所述阳极室中放置有阳极板，所述阴极室中放置有阴极板，所述阳极室、补充液室、阴极室采用阳离子膜、阴离子膜分隔，工作时，阳极室通入待处理的氨氮废水，阴极室通入废蚀刻液，补充液室通入电解质溶液。本发明的有益效果是，通过将电解与膜分离技术相结合，解决了电解脱除氨氮工艺过程中阴极产生氢气的问题，大大降低了该设备的安全风险，并且将蚀刻液再生处理工艺与氨氮废水处理工艺合并处理，大大减少了环保设备数量、操作成本以及能耗和物耗，是一种高效、节能、环保的废水综合利用技术，便于企业推广使用。
Description
技术领域
本发明涉及废水处理技术领域，特别是一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备。
背景技术
随着人们环保意识和地方环境保护政策的加强，对工业三废排放要求日趋严格，尤其是含有氨氮的废水，因其对水体生态系统危害程度较大更受到严格管控；与此同时，清洁生产与资源再生则受到政策的鼓励与支持；近年来通讯领域和自动化领域飞速发展，各类电子元器件在各行各业都发挥着举足轻重的作用，随之也促进了印刷线路板(PCB)行业的飞速发展。
当前国内PCB生产过程中大量采用碱性蚀刻工艺，蚀刻液主要为氨水、氯化铵体系，线路板面蚀刻完成后，需要用浓度极低的稀氨水或纯水冲洗板面，以去除板面携带的碱性蚀刻液，由此产生的洗涤废液一般被称为“氨洗水”；由于氨洗水中氨和氯化铵的浓度低，没有利用价值，一般PCB企业都将其作为废水处理，但由于其中氨氮含量非常高，随着近年来对氨氮排放要求日趋严格，此类废水的处理成本不断提高，氨洗水作为危废也受到管控，这部分的处理也给企业增加了负担。
当前对氨氮废水的处理工艺中，考虑到安全、环保以及成本等因素，许多企业逐步采用电解工艺，通过电解在阳极生成次氯酸根进而氧化氨氮，使其转化为无害的氮气，但是，电解过程最大的缺陷在于阳极产生的气体为氢气，氢气的爆炸极限范围非常宽，危险性较大。由于在技术推广和应用时，相关企业重点关注和描述相关技术去除氨氮的效果方面，而回避了阳极产氢问题，因此该问题尚未得到环保、安监等的重视，但实际上已经有企业在使用此类设备时发生过装置爆裂的事故，基于现有技术，有必要提供一种设备，解决现有存在的问题。
发明内容
由于目前对于废水处理存在一些缺陷，安全隐患也比较大，因此我们在现有技术缺陷的基础上设计了一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，能够有效对氨氮废水进行处理，并且能够对含铜废水进行处理，进一步帮助企业降低能耗，实现资源再生。
实现上述目的本发明的技术方案为，一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，包括电解槽，所述电解槽包括阳极室、补充液室、阴极室，所述阳极室中放置有阳极板，所述阴极室中放置有阴极板，所述阳极室、补充液室、阴极室采用阳离子膜、阴离子膜分隔，工作时，阳极室通入待处理的氨氮废水，阴极室通入废蚀刻液，补充液室通入电解质溶液。
对本技术方案的进一步补充，所述的阳离子膜即阳离子交换膜，通过膜本体修饰制备或通过膜表面处理而获得。
对本技术方案的进一步补充，所述的阴离子膜即阴离子交换膜，通过膜本体修饰制备或通过膜表面处理而获得。
对本技术方案的进一步补充，所述的废蚀刻液为含有氯化铜的废酸性蚀刻液、含有铜氨络合物的废碱性蚀刻液、硝酸剥挂液、硫酸铜电解液中任一种。
对本技术方案的进一步补充，所述电解质溶液采用氯化氢水溶液或氯化钠水溶液。
对本技术方案的进一步补充，所述电解质溶液的选择为与阴极室的再生液对应的阳离子相匹配。
对本技术方案的进一步补充，所述电解质溶液的浓度范围为5％－饱和浓度。
对本技术方案的进一步补充，所述电解质溶液的浓度范围为8％－18％。
其有益效果在于，通过将电解与膜分离技术相结合，解决了电解脱除氨氮工艺过程中阴极产生氢气的问题，大大降低了该设备的安全风险，该设备能够协同处理含铜蚀刻废液并实现蚀刻液再生，大大减少了线路板相关企业的废水产生量和处理成本，同时，本发明能够将蚀刻液再生处理工艺与氨氮废水处理工艺合并处理，大大减少了环保设备数量、操作成本以及能耗和物耗，是一种高效、节能、环保的废水综合利用技术，便于企业推广使用。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图；
图中，1、电解槽；2、阳极室；3、补充液室；4、阴极室；5、阳极板；6、阴极板；7、阴离子膜；8、阳离子膜。
具体实施方式
由于目前对于废水处理存在一些缺陷，安全隐患也比较大，因此我们在现有技术缺陷的基础上设计了一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，能够有效对氨氮废水进行处理，并且能够对含铜废水进行处理，进一步帮助企业降低能耗，实现资源再生。。
为了便于本领域技术人员对本技术方案更加清楚，下面将结合附图1详细阐述本发明的技术方案：
实现上述目的本发明的技术方案为，一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，包括电解槽1，所述电解槽1包括阳极室2、补充液室3、阴极室4，所述阳极室2中放置有阳极板5，所述阴极室4中放置有阴极板6，所述阳极室2、补充液室3、阴极室4采用阳离子膜8、阴离子膜7分隔，工作时，阳极室2通入待处理的氨氮废水，阴极室4通入废蚀刻液，补充液室3通入电解质溶液；其中，所述的阳离子膜8即阳离子交换膜，通过膜本体修饰制备或通过膜表面处理而获得；所述的阴离子膜7即阴离子交换膜，通过膜本体修饰制备或通过膜表面处理而获得。
进一步地，所述的废蚀刻液为含有氯化铜的废酸性蚀刻液、含有铜氨络合物的废碱性蚀刻液、硝酸剥挂液、硫酸铜电解液中任一种。
进一步地，，所述电解质溶液采用氯化氢水溶液或氯化钠水溶液；优选地，所述电解质溶液的选择为与阴极室4的再生液对应的阳离子相匹配，效果更好地，所述电解质溶液的浓度范围为5％－饱和浓度，进一步地，所述电解质溶液的浓度范围为8％－18％。
本发明主要采用一套电解设备，电源正极一侧为阳极室2，电源负极一侧为阴极室4，阳极室2与阴极室4之间采用阳离子膜8、阳离子膜8隔开，中间的隔离室为补充液室3；将废弃的氨洗水等碱性氨氮废水通入阳极室2，其中氯离子在阳极放电产生氯气并进一步与碱反应转化为次氯酸根，次氯酸根与氨氮反应使氮元素转化为无害的氮气，同时次氯酸根转变为氯离子可再次参与反应；同时，向阴极室4通入含铜的酸性或碱性蚀刻废液，其中的铜离子在阴极板6放电转变为金属铜，从而实现金属铜资源再生，同时处理后的酸性或碱性蚀刻液能够再次恢复蚀刻性能，可直接返回蚀刻工段循环利用，而无需过多处理或是作为危废处置；而两极室之间的补充液室3则通入一定浓度的电解质溶液，用于平衡离子浓度，同时实现蚀刻液再生。
上述技术方案仅体现了本发明技术方案的优选技术方案，本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本发明的原理，属于本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，其特征在于，包括电解槽(1)，所述电解槽(1)包括阳极室(2)、补充液室(3)、阴极室(4)，所述阳极室(2)中放置有阳极板(5)，所述阴极室(4)中放置有阴极板(6)，所述阳极室(2)、补充液室(3)、阴极室(4)采用阳离子膜(8)、阴离子膜(7)分隔，工作时，阳极室(2)通入待处理的氨氮废水，阴极室(4)通入废蚀刻液，补充液室(3)通入电解质溶液。
2.根据权利要求1所述的一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，其特征在于，所述的阳离子膜(8)即阳离子交换膜，通过膜本体修饰制备或通过膜表面处理而获得。
3.根据权利要求2所述的一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，其特征在于，所述的阴离子膜(7)即阴离子交换膜，通过膜本体修饰制备或通过膜表面处理而获得。
4.根据权利要求1所述的一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，其特征在于，所述的废蚀刻液为含有氯化铜的废酸性蚀刻液、含有铜氨络合物的废碱性蚀刻液、硝酸剥挂液、硫酸铜电解液中任一种。
5.根据权利要求1－4任一项所述的一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，其特征在于，所述电解质溶液采用氯化氢水溶液或氯化钠水溶液。
6.根据权利要求5所述的一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，其特征在于，所述电解质溶液的选择为与阴极室(4)的再生液对应的阳离子相匹配。
7.根据权利要求6所述的一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，其特征在于，所述电解质溶液的浓度范围为5％－饱和浓度。
8.根据权利要求7所述的一种协同处理含铜废水与氨氮废水的设备，其特征在于，所述电解质溶液的浓度范围为8％－18％。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4490224A (en) * | 1984-04-16 | 1984-12-25 | Lancy International, Inc. | Process for reconditioning a used ammoniacal copper etching solution containing copper solute |
| CN102324542A (zh) * | 2011-07-28 | 2012-01-18 | 西安交通大学 | 一种协同处理重金属废水和有机废水并产电的装置 |
| CN105523668A (zh) * | 2015-12-04 | 2016-04-27 | 陈丽珊 | 一种pcb含氨氮废水零排放处理方法及装置 |
| CN205892820U (zh) * | 2016-07-11 | 2017-01-18 | 苏州美源达环保科技股份有限公司 | 一种电解催化氧化法处理氨性氯化铜废水中氨氮的系统 |
| CN110408936A (zh) * | 2019-07-18 | 2019-11-05 | 惠州市臻鼎环保科技有限公司 | 一种电解电路板酸性蚀刻废液的方法 |
-
2021
- 2021-10-18 CN CN202111212586.4A patent/CN113955830A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4490224A (en) * | 1984-04-16 | 1984-12-25 | Lancy International, Inc. | Process for reconditioning a used ammoniacal copper etching solution containing copper solute |
| CN102324542A (zh) * | 2011-07-28 | 2012-01-18 | 西安交通大学 | 一种协同处理重金属废水和有机废水并产电的装置 |
| CN105523668A (zh) * | 2015-12-04 | 2016-04-27 | 陈丽珊 | 一种pcb含氨氮废水零排放处理方法及装置 |
| CN205892820U (zh) * | 2016-07-11 | 2017-01-18 | 苏州美源达环保科技股份有限公司 | 一种电解催化氧化法处理氨性氯化铜废水中氨氮的系统 |
| CN110408936A (zh) * | 2019-07-18 | 2019-11-05 | 惠州市臻鼎环保科技有限公司 | 一种电解电路板酸性蚀刻废液的方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 张昊: "离子膜金属电积生产回收技术及中试研究", no. 2016, pages 14 * |
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