CN113939769A - 密封装置、部件及光刻设备 - Google Patents

Abstract

一种密封装置(300)，其相对于光刻设备(100A、100B)的第二部件部分(206)密封该光刻设备(100A、100B)的第一部件部分(202)，该密封装置包括许多密封环(302)和许多连接位置(304)，其中密封环(302)借助于连接位置(304)彼此连接。

Description

密封装置、部件及光刻设备

技术领域

本发明涉及光刻设备的密封装置，涉及一种包括该类型密封装置的光刻设备的部件，以及涉及一种包括该类型密封装置和/或该类型部件的光刻设备。

背景技术

优先权申请案DE 10 2019 204 699.1的内容以引用方式完整并入本文中。

光刻技术用来生产微型结构部件，例如集成电路。光刻制程使用具有照明系统以及投射系统的光刻设备来执行。藉由照明系统所照明的掩模(掩模母版)的影像，在此案例中由投射系统投射至基板(例如硅晶片)上，该基板涂上感光层(光刻胶)并配置在该投射系统的像平面内，以便将掩模结构转印至基板的感光涂层。

在集成电路生产中对越来越小结构需求的驱使之下，当前正在开发的是使用波长在0.1nm至30nm范围内、特别是13.5nm的光的EUV光刻设备。在这种EUV光刻设备的情况下，由于大多数材料对该波长的光有高吸收力，因此必须使用反射光学单元，即反射镜，而不是像以前那样使用折射光学单元，即透镜元件。

如上所述EUV光刻设备包括具有冷却回路的部件，该回路例如用于用水冷却各个部件，或具有冲洗回路，该回路例如用于使用冲洗气体，特别是惰性气体，冲洗各个部件。这类型的部件可为例如所谓的致动传感器单元，借助于该单元可使分面反射镜、例如场分面反射镜或光瞳分面反射镜的各分面偏转。在这种情况下，为了使分面偏转，将所谓的致动传感器封装分配给每个分面。该致动传感器封装应相对于致动传感器单元的主体或框架以流体密封方式密封。

为了密封，可使用O形圈或密封垫当成密封件。为了在运行期间和整个使用寿命中保持密封功能，可通过预应力或在压力方向上支撑的方式，将密封件夹紧在相应的致动传感器封装上。因此，可以获得密封件的定心。在这种情况下，应考虑到密封件需要一定的屈服体积才能压紧。可通过在相应密封件内部轮廓与致动传感器封装之间保持足够的可用空间，来产生所述屈服体积。然而，就密封件的良好定中心而言，该空间又是不利的。

发明内容

在这种背景下，本发明的一个目的在于提供一种改良的密封装置。

因此，提出一种用于相对于光刻设备的多个第二部件部分来密封该光刻设备的第一部件部分的密封装置。该密封装置包括多个密封环和多个连接位置，其中，所述密封环借助于所述连接位置彼此连接。

由于所述密封环借助于所述连接位置彼此连接的事实，与没有这种连接位置的密封装置相比，这简化了密封装置的安装。

密封装置也可称为密封垫。较佳是，提供形成二维图案或网格的多个密封环。也就是说，密封环特别布置成网格状或图案状。较佳是，每个密封环都分配有多个连接位置，例如四个。所述连接位置也可称为接触位置。较佳是，密封环借助于连接位置、一体地尤其是材料上单件地彼此连接。“一体地”在当前情况下是指密封环一起形成共同的部件部分，即该密封装置。“材料单件地”是指密封装置始终由相同的材料制成。较佳是，密封装置由塑料材料制成。举例来说，全氟橡胶(perfluoro rubber，FFKM)可用来当成合适的材料。密封装置例如可借助于激光从合适的塑料材料片或薄膜上切下来。

根据一个实施例，连接位置各自包括用于将相应密封环挤压在第一部件部分与第二部件部分之一之间的屈服体积。

由于提供了屈服体积，可始终充分压紧各个密封环，从而可防止或至少显著减少光刻设备在安装过程中以及整个使用寿命期间泄漏。可在相应密封环的内轮廓和容纳在该内轮廓中的第二部件部分之间提供屈服体积。然而，屈服体积也可直接设置在相应连接位置中或相应连接位置处，例如以切口、凹槽、孔等的形式。在此唯一重要的是，在压紧相应密封环的过程中，将密封环的材料压入屈服体积中。密封环的上述内部轮廓可具有任意形状。内部轮廓可为圆形、椭圆形、三角形、多边形等。此外，内部轮廓，如下所述，也可为三叶形。屈服体积特别是设置在密封装置本身之内或密封装置处。

根据进一步实施例，每个密封环都包括内部轮廓，在每个内部轮廓中能够容纳至少部分第二部件部分，并且其中，屈服体积通过内部轮廓在连接位置处加宽而形成。

内部轮廓“加宽”这一事实意味着，在当前情况下，内部轮廓至少在相应密封环未压紧状态下不抵靠对应第二部件部分，因此特别是与第二部件部分分离。由于内部轮廓在连接位置处变宽的事实，因此可在连接位置处提供足够大用于压紧各个密封环的屈服体积。

根据进一步实施例，内部轮廓在连接位置处包括连接半径，其中内轮廓分别在两个相邻的连接位置之间包括中间半径，并且其中该中间半径和该连接半径以其绝对值表示时彼此不同，以使内部轮廓在连接位置处变宽并且在两个相邻的连接位置之间变窄。

由于内部轮廓在两个相邻连接位置之间变窄，使得密封环在相应的中间半径处居中成为可能。因此，借助于加宽和变窄，可同时确保足够大的屈服体积，用于压紧密封环和使密封环在第二部件部分处居中。

根据密封装置的一个较佳实施例，该密封装置包括多个密封环、多个连接位置，其中所述密封环借助于连接位置彼此连接，其中每一密封环包括内部轮廓，在每个轮廓中能够容纳至少部分的第二部件部分，其中该内部轮廓在连接位置处包括连接半径，其中该内部轮廓分别在两个相邻的连接位置之间包括中间半径，其中，该中间半径和该连接半径的绝对值彼此不同，使得该内部轮廓在连接位置处变宽并且在两个相邻的连接位置之间变窄。

该内部轮廓尤其由多个半径构成，也就是说，内部轮廓较佳不是圆形的。该内部轮廓也可具有任何其他几何形状，如上所述。在连接位置的区域中，该内部轮廓加宽或外扩，并且在连接位置之间的区域中，该内部轮廓变窄、收缩或受约束。这导致内部轮廓成为三叶形或三叶类型几何形状，偏离圆形形状。因此，该内部轮廓可称为“三叶形”或“三叶类型”。该密封装置特别定位在第一部件部分的密封表面与第二部件部分的密封表面之间，并且相对于这两者当成液密密封件。

在本发明中应理解，第二部件部分“能够容纳”在内部轮廓中的事实是指可将相应的密封环放到第二部件部分上，反之亦然。在这种情况下，第二部件部分较佳具有圆柱形的基座部分，在该处，密封环借助于中间半径居中。

较佳地，如上述，设置有四个连接位置。因此，该内部轮廓还具有四倍的连接半径和四倍的中间半径。因此，尤其是，还存在四对相邻的连接位置，在其间提供连接半径。该半径彼此过渡，使得该内部轮廓没有折线，而是弯曲的形状。

中间半径和连接半径彼此“不同”的事实尤其应理解为，中间半径大于连接半径，反之亦然。连接半径的中心点可相对于中间半径的中心点偏移，使得如果该连接半径大于该中间半径，并且如果该连接半径小于该中间半径，则既满足该内部轮廓在连接位置处变宽又在两个相邻连接位置之间变窄的条件。

根据进一步实施例，中间半径大于连接半径。

例如，连接半径约为5mm，中间半径可大约为11至12mm。

根据进一步实施例，内部轮廓包括第一中间半径和第二中间半径，其中第一中间半径和第二中间半径的大小相等或不等。

较佳是，该第一中间半径大于该第二中间半径。另外，该第一中间半径也可小于该第二中间半径。借助于不同的中间半径，如果连接位置在方位角方向或圆周方向上以不同的方位角彼此间隔的方式定位，则可能考虑到这样的事实：在两连接位置之间产生以方位角/360°为因数缩短的密封环，以为了在密封装置安装过程，防止连接位置沿方位角移动，否则会导致密封装置翘曲。对于方位角大小相等的情况，较佳是第一中间半径和第二中间半径在幅度方面也相等。较佳是，连接位置构建成分别相对于分配给各个连接位置的对称线对称。所述方位角在连接位置的对称线之间测量。连接半径的各个中心点位于分配连接半径的那个连接位置的对称线上。

根据进一步实施例，第二中间半径的幅度大于第一中间半径的幅度。

另外，第二中间半径也可具有小于第一中间半径的幅度。

根据进一步实施例，其间设置有第一中间半径的两个相邻连接位置，以及其间设置有该第二中间半径的两个相邻连接位置，以彼此以相同距离或不同距离相隔的方式布置。

较佳是，连接位置以在圆周方向上观察到彼此不均等间隔开的方式定位。也就是说，在连接位置之间提供不同的方位角。在这种情况下，第一中间半径位于一对连接位置之间，而在该连接位置之间提供较小的方位角。第二中间半径位于一对连接位置之间，而在该连接位置之间提供较大的方位角。对于方位角幅度相等的情况，连接位置也以彼此等距间隔的方式布置。

根据进一步实施例，中间半径的中心点相对于连接半径的中心点偏移布置。

较佳是，密封环包括第一对称平面和第二对称平面，而该密封环相对于此两者对称构造。对称平面尤其垂直于彼此定位。中间半径的中心点偏心定位。连接半径的中心点也偏心定位。如上述，连接半径的中心点位于连接位置的相应对称线上。

根据进一步实施例，第一中间半径的中心点相对于连接半径的中心点在密封环的x方向和y方向上偏移布置，其中第二中间半径的中心点相对于连接半径的中心点在密封环的x方向和y方向上偏移布置。

尤其是，具有第一空间方向或x方向、第二空间方向或y方向以及第三空间方向或z方向的坐标系统指派给密封环。所述空间方向彼此垂直定位。尤其是，第一对称平面跨越y方向和z方向。尤其是，第二对称平面跨越x方向和z方向。内部轮廓尤其在x方向和y方向上作为二维几何形状延伸。第一中间半径的中心点相对于连接半径的中心点在x方向和y方向上偏移定位，使得内部轮廓在第一中间半径区域内收缩，即使第一中间半径大于连接半径也是如此。尤其是，第二中间半径的中心点相对于连接半径的中心点在x方向和y方向上偏移定位，使得内部轮廓在第二中间半径区域内收缩，即使第二中间半径较佳大于连接半径也是如此。

根据进一步实施例，两个第一中间半径的中心点以在y方向上彼此间隔第一距离的方式布置，其中两个第二中间半径的中心点以在x方向上彼此间隔第二距离的方式布置，并且其中该第一距离和该第二距离的幅度相等或具有不同幅度。

尤其是，两个第一中间半径的中心点位于第一对称平面之内以及在第二对称平面之外。较佳是，该中心点相对于第二对称平面镜向对称定位。尤其是，两个第二中间半径的中心点位于第二对称平面之内以及在第一对称平面之外。较佳是，第二中间半径的中心点相对于第一对称平面镜向对称定位。对于方位角大小相等的情况，较佳是第一距离和第二距离在幅度方面相等。

根据进一步实施例，第一中间半径和第二中间半径沿内部轮廓交替布置。

这意味着，沿着内部轮廓看过去，每一第一中间半径都布置在两个第二中间半径之间，反之亦然。两个第一中间半径相对布置或以180°的圆周角布置。这对第二中间半径同样有效。

根据进一步实施例，内部轮廓具有过渡半径，其中中间半径借助于过渡半径过渡到连接半径中。

这确保从中间半径到过渡半径的连续可变过渡。较佳是，过渡半径小于中间半径和连接半径。

根据进一步实施例，每个连接位置提供两个屈服体积，其中在两个屈服体积之间提供连接位置的连接腹板，并且其中连接腹板将相邻的密封环彼此连接。

尤其是，连接腹板将密封环一体地、特别是材料单件地彼此连接。

根据进一步实施例，屈服体积是一凹槽，其完全穿过密封装置的壁厚度，或者仅延伸到壁厚度中的定义深度。

对于凹槽仅穿透壁厚度达到定义深度的情况，该凹槽的横截面可为矩形或圆形。如果该凹槽没有完全穿透壁厚度，则该凹槽也可延伸穿过连接腹板。该凹槽可包括彼此平行的侧壁。该侧壁也可相对于彼此倾斜定位，使得该凹槽为楔形。

根据进一步实施例，屈服体积包括多个孔，其完全穿透密封装置的壁厚度或者仅延伸到壁厚度中的定义深度。

所述孔可全部具有相同或不同的直径。所述孔可以均匀或不均匀地彼此相隔的方式布置。所述孔可排成一列或多列。

更进一步，提出一种用于光刻设备的部件。该部件包括第一部件部分、至少部分容纳在第一部件部分内的多个第二部件部分以及这种类型的密封装置。

举例来说，该部件可为光刻设备的光束成形和照明系统或投射系统的一部分。该部件可为所谓的致动传感器单元(ASU)，借助于该单元可使分面反射镜、例如场分面反射镜或光瞳分面反射镜的分面偏转。这种具有可偏转分面的分面反射镜可为例如光束成形和照明系统的一部分。第一部件部分可为例如部件的主体或框架。第一部件部分可包括用于冷却部件、特别是第二部件部分的冷却系统。冷却系统可借助于设置在第一部件部分中的冷却通道来形成。第二部件部分可为例如致动传感器封装(ASP)，其适合于如上所述使分面反射镜的分面偏转。第二部件部分可至少部分具有圆柱几何形状。借助于密封装置，第二部件部分相对于第一部件部分被密封，以便相对于该部件的周围环境密封冷却系统。

根据一个实施例，密封环分别被压在第一部件部分与第二部件部分之一之间，使得密封装置的相应屈服体积至少部分填入相应的密封材料。

在压紧密封环期间，将密封环至少部分压入屈服体积中。结果，实现防止泄漏的永久性保护措施。

根据一个较佳实施例，该部件包括第一部件部分、至少部分容纳在第一部件部分中的多个第二部件部分、如上述的密封装置，其中内部轮廓用于以下目的：使相应的密封环在第二部件部分之一处居中、抵靠具有中间半径的第二部件部分，并且其中，为了在内部轮廓与第二部件部分之间提供屈服体积，内部轮廓以连接半径远离第二部件部分。

为了提供屈服体积，内部轮廓以连接半径“远离”第二部件部分的事实应理解为尤其是指，在连接半径区域内，内部轮廓不与第二部件部分接触。也就是说，内部轮廓和第二部件部分在连接半径处无接触或不接触。

更进一步，提出一种光刻设备。该光刻设备相应地包括如上述的密封装置和/或如上述的部件。

光刻设备可为EUV光刻设备或DUV光刻设备。EUV代表“极紫外线”，表示工作光的波长在0.1nm至30nm之间。DUV代表“深紫外线”，表示工作光的波长在30nm至250nm之间。

在当前情况下，“一、一个”不必理解为仅限于恰好一个元件。相反，也可设置为多个元件，例如两个、三个或更多个。同样，在此使用的任何其他数字也不应理解为对所规定元件数量有精确限制。而是，向上和向下的数值偏差是可能的，除非相反地指出。

对于密封装置描述的实施例和特征相对适用于所提出的部件，并且分别适用于所提出的光刻设备，反之亦然。

本发明的其他可能实施方式还包括未在上面或下面相对于说明性实施例描述的特征或实施例的组合。在此案例中，本领域技术人员也可新增个别方面，改善或补充本发明个别基本形式。

附图说明

本发明的进一步优势构造与方面为从属权利要求的主题以及本发明示范实施例的主题，如底下所描述。在下文中，根据较佳实施例并参考附图更详细解释本发明。

图1A显示EUV光刻设备的一个实施例的示意图；

图1B显示DUV光刻设备的一个实施例的示意图；

图2显示用于根据图1A或图1B的光刻设备的一部件的一个实施例的示意图；

图3显示根据图2中剖面线III-III的部件的示意剖面图；

图4显示根据图3的细节图IV；

图5显示根据图2中剖面线V-V的部件的进一步示意剖面图；

图6显示根据图5的细节图VI；

图7显示用于根据图2的部件的密封装置的一个实施例的示意图；

图8显示根据图7的细节图IIX；

图9显示根据图7的细节图IX；

图10显示根据图9中剖面线X-X的密封装置的示意剖面图；

图11显示用于根据图2的部件的密封装置的进一步实施例的示意剖面图；

图12显示用于根据图2的部件的密封装置的进一步实施例的示意细节图；

图13显示用于根据图2的部件的密封装置的进一步实施例的示意细节图；以及

图14显示用于根据图2的部件的密封装置的进一步实施例的示意细节图。

具体实施方式

除非相反地指出，否则附图中相同的元件或具有相同功能的元件具有相同的参考符号。另请注意，图式内的图例并不需要按照比例。

图1A显示包含光束成形和照明系统102以及投射系统104的EUV光刻设备100A的示意图。在此情况下，EUV代表“极紫外线”，表示工作光的波长在0.1nm至30nm之间。光束成形和照明系统102以及投射系统104分别设置于真空壳体内(未显示)，每一真空壳体都借助于排放装置(未显示)抽真空。真空壳体被机房(未示出)包围，其中设有用于机械移动或设定光学元件的驱动装置。再者，还可在机房中设置电气控制器等。

EUV光刻设备100A包括EUV光源106A。等离子体源(或同步加速器)例如设置成EUV光源106A，其发出在EUV范围(极紫外线范围)内的辐射108A，也就是说例如波长范围为5nm至20nm，。在光束成形和照明系统102中，EUV辐射108A聚焦并且从EUV辐射108A中滤出期望的工作波长。由EUV光源106A所产生的EUV辐射108A具有相对低的空气穿透率，因此抽掉光束成形和照明系统102内以及投射系统104内光束引导空间的空气。

图1A所示的光束成形和照明系统102具有五个反射镜110、112、114、116、118。在通过光束成形和照明系统102之后，EUV辐射108A被引导到光掩模(称为掩模母版)120上。光掩模120可具体实施为一反射光学元件，并且可配置在系统102、104之外。更进一步，可通过反射镜122将EUV辐射108A引导到光掩模120上。光掩模120具有通过投射系统104以缩小的方式成像到晶片124等之上的结构。

投射系统104(也称为投射镜头)具有六个反射镜M1至M6，用于将光掩模120成像到晶片124上。在这种情况下，可相对于投射系统104的光轴126对称布置投射系统104的各个反射镜M1至M6。请注意，EUV光刻设备100A的反射镜M1至M6的数量并不受限于所呈现的数量，也可设置较多或较少数量的反射镜M1至M6。更进一步，所述反射镜M1至M6的正面一般都为弯曲的，用于光束成形。

图1B显示包含光束成形和照明系统102以及投射系统104的DUV光刻设备100B的示意图。在此情况下，DUV代表“深紫外线”，表示工作光的波长在30nm至250nm之间。如已经参照图1A所描述的那样，光束成形和照明系统102以及投射系统104可布置在真空壳体中和/或被具有相应驱动装置的机房包围。

DUV光刻设备100B包括DUV光源106B。举例来说，可提供例如在193nm的DUV范围内发射辐射108B的ArF准分子激光器作为DUV光源106B。

图1B所示的光束成形和照明系统102将DUV辐射108B引导至光掩模120上。光掩模120具体实施为一透射光学元件，并且可配置在系统102、104之外。光掩模120具有通过投射系统104以缩小的方式成像到晶片124等之上的结构。

投射系统104具有多个透镜元件128和/或反射镜130，用于将光掩模120成像到晶片124上。在这种情况下，可相对于投射系统104的光轴126对称布置投射系统104的各个透镜元件128和/或反射镜130。请注意，DUV光刻设备100B的透镜元件128和反射镜130的数量并不受限于所呈现的数量，也可设置较多或较少数量的透镜元件128和/或反射镜130。更进一步，所述反射镜130的正面一般都为弯曲的，用于光束成形。

最后的透镜元件128与晶片124之间的气隙可由折射率大于1的液体介质132代替。液体介质132可为例如高纯度水。这种构造也称为浸没式光刻，并且具有提高的光学光刻分辨率。介质132也可称为浸没液体。

图2显示用于如上述的EUV光刻设备100A的部件200的平面图。举例来说，部件200可为EUV光刻设备100A的光束成形和照明系统102或投射系统104的一部分。然而，如上所述，部件200也可为DUV光刻设备100B的一部分。

部件200可为例如所谓的致动传感器单元(ASU)，借助于该单元可使分面反射镜、例如场分面反射镜或光瞳分面反射镜的分面偏转。这种具有可偏转分面的分面反射镜可为例如光束成形和照明系统102的一部分。

部件200包括第一部件部分202，第一部件部分202可为例如部件200的主体或框架。第一部件部分202可由金属制成，较佳由铜、高级钢或铝制成。较佳是，第一部件部分202是主动冷却的。在当前情况下，“主动冷却”应理解为是指引导例如水这类流体通过第一部件部分202，以便在此吸收热量并将热量运走。为此，第一部件部分202可包括冷却系统204，特别是冷却回路，其在图2中详细示意性示出。冷却系统204可借助于设置在第一部件部分202中的冷却通道来形成。

部件200包括多个第二部件部分206，然而，在图2中仅其中一个标示参考符号。第二部件部分206可为例如致动传感器封装(ASP)，其适合于如上所述使分面反射镜的分面偏转。在这种情况下，将这种类型的第二部件部分206指派给每个分面。较佳是，设置多个第二部件部分206。举例来说，可设置数百个第二部件部分206。如图2内所示，第二部件部分206布置成网格状或图案状。第二部件部分206可具有圆柱形几何形状。

第二部件部分206至少部分容纳在第一部件部分202中，并且相对于第一部件部分密封。第二部件部分206可借助于冷却系统204冷却。第一部件部分202具有接收部分，例如孔洞或凹槽，第二部件部分206部分容纳在其中。

图3显示根据图2中剖面线III-III通过两个第二部件部分206的示意剖面图。图4显示根据图3的细节图IV。请同时参阅图3与图4。

如已经提到的，第一部件部分202包括接收部分208，第二部件部分206容纳其中。接收部分208可具体实施为第一部件部分202内的孔洞。更进一步，第一部件部分202包括一个密封表面210或多个密封表面210。尤其是，将这种类型的密封表面210分配给每个第二部件部分206。密封表面210分别围绕相应的第二部件部分206圆形延伸。如图3所示，第二部件部分206各自突出到分配给它的密封表面210上方。

每个第二部件部分206都包括一主体212，其具有圆柱形基座部分214和围绕基座部分214延伸的一凸缘部分216。基座部分214可相对于中心轴线或对称轴线218旋转对称构造。凸缘部分216不会相对于对称轴线218旋转对称构造。

凸缘部分216可为多边形。沿剖面线III-III观察，两个相邻第二部件部分206的凸缘部分216之间的距离A1仅为几百μm。举例来说，该距离A1可为200μm。基座部分214容纳在接收部分208中，并且突出超过相应的密封表面210。在每一情况下，凸缘部分216包括分别面对第一部件部分202的相应密封表面210的密封表面220。

环形主体222放置在主体212上。环形主体222用陶瓷板朝着图3中方位朝上封闭。该陶瓷板可焊接至环形主体222。环形主体222可熔接至主体212。每一第二部件部分206都包括一传感器系统以及一致动器。该致动器可包括许多线圈。

借助于密封装置300，第二部件部分206，特别是密封表面220，相对于第一部件部分202，特别是密封表面210被密封。为此，将密封装置300定位并压在密封表面210、220之间。在密封装置300和基座部分214之间分别设有用于压紧密封装置300的屈服体积226。屈服体积226可称为补偿体积。

图5显示根据图2中剖面线V-V通过两个第二部件部分206的示意剖面图。图6显示根据图5的细节图VI。请同时参阅图5与图6。

沿剖面线V-V观察时，第一部件部分202通过轴承部分224在密封表面210外延伸。第二部件部分206支撑在轴承部分224上，如此密封表面210、220以彼此间隔限定距离的方式来定位。当沿着剖面线V-V观察时，距离A1明显大于沿着剖面线III-III观察时的距离。

图3和图4与图5和图6的比较表明，沿剖面线III-III存在很小的结构空间。第二部件部分206的密封表面220与密封装置300之间的重叠很小。因此，密封装置300相对于相应对称轴218的偏心容易导致泄漏。此外，在相邻的第二部件部分206之间，也仅存在很小或几乎没有用于按压密封装置300的屈服体积226。因此，在两个相邻第二部件部分206之间可能发生泄漏。

相反，沿着剖面线V-V，在两个相邻第二部件部分206之间设置有脊形轴承部分224，而第二部件部分206的凸缘部分216则由该轴承部分支撑。密封装置300在轴承部分224与相应第二部件部分206的主体212的基座部分214之间延伸。与沿着剖面线III-III的视图相比，在相邻第二部件部分206之间存在明显更多的结构空间。第二部件部分206的密封表面220与密封装置300之间有显著较大的重叠。因此，就泄漏而言，密封装置300的偏心在这里不是很关键。沿剖面线V-V观察，用于挤压密封装置300的屈服体积226也明显更大。

然而，如果增大密封装置300的内径以增大屈服体积226，则不再确保密封装置300的居中。密封装置300缺乏居中可具有以下效果：在沿剖面线III-III的视图中，密封装置300抵靠两个相邻第二部件部分206之一，并且与两个第二部件部分206中的另一个相隔两倍的距离。由于密封表面220与密封装置300之间少量重叠，因此会发生泄漏。在最坏的情况下，密封表面220与密封装置300之间根本不发生重叠。这必须避免。

第二部件部分206之间的小结构空间不允许将密封装置300分离成单独的密封环，例如分离成O形环。此外，由于小结构空间，因此不能防止各个密封环倾斜。因此，如图7所示，将密封装置300制造成密封垫，其例如藉助激光从合适的塑料材料中切出。举例来说，全氟橡胶(FFKM)可用来当成合适的材料。

如图7所示，密封装置300包括彼此连接的多个密封环302，但是在图7中仅其中一个标示有参考符号。由于密封环302彼此连接的事实，如此防止密封环302倾斜。

图8显示根据图7的细节图IIX。密封环302在连接位置304处彼此连接，在图8中仅其中两个标示有参考符号。因此密封装置300是一体的部件部分，尤其是材料上单件的部分。在当前情况下，“一体的”应理解为在当前情况下密封装置300形成单个部件部分，不是由相互分开的部件部分所构成。也就是说，密封环302彼此固定连接，其中全部密封环302的整体构成了密封装置300。在当前情况下，“材料上单件”应理解为是指密封装置300是完全由相同材料制成的一体部件部分。

密封环302各具有恒定的外径DA，其仅在连接位置304的区域中是平坦的。对于如此具体实施密封环302，使得其各自也具有恒定的内径，如此第二部件部分206的相应基座部分214居中生效，问题是，沿着图2中的剖面线III-III观察，几乎不存在用于压紧密封装置300的屈服体积226。因此，无法将密封装置300充分压在相邻的第二部件部分206之间。

这可能导致密封装置300损坏，而导致泄漏，或者不能达到各个第二部件部分206所需的安装位置。这最后会导致部件200在高度方向上的位置误差(z误差)。为了获得足够的屈服体积226，可增加密封环302的内径，从而在第二部件部分206和密封装置300之间保持足够大的屈服体积226。然而，这具有以下缺点：不能确保在第二部件部分206的基座部分214处足够居中。然后，密封环302不沿圆周抵靠在基座部分214上，这会随时间流逝或在安装过程中直接导致泄漏。

为了同时获得足够大的屈服体积226和良好居中，密封环302各包括一内部轮廓306，其并非圆形，而是如下面将要解释那样为三叶形。也就是说，密封环302具有变化的内径而不是恒定的内径。下面仅参考一个密封环302。密封环302的理论内径DI在图8中用虚线表示。内径DI对应于第二部件部分206的基座部分214的外径。

每个密封环302都包括第一对称平面E1和第二对称平面E2。对称平面E1、E2相互垂直放置并交叉。密封环302相对于第一对称平面E1和相对于第二对称平面E2对称构建，特别是镜像对称。直径DA、DI的中心点位于两对称平面E1、E2的相交线上。具有第一空间方向或x方向x、第二空间方向或y方向y以及第三空间方向或z方向z的坐标系统指派给密封环302。所述方向x、y、z彼此垂直定位。

此外，方位角方向或圆周方向U也指派给密封环302。圆周方向U可沿顺时钟方向或逆时钟方向定向。圆周方向U沿图8中的逆时钟方向定向。圆周方向U沿着内部轮廓306延伸。

连接位置304相对于第一对称平面E1和相对于第二对称平面E2镜像对称布置。在两个相邻连接位置304之间设置有各自的方位角α、β。方位角α可称为第一方位角，方位角β可称为第二方位角，方位角β大于方位角α。举例来说，方位角α约为71°，方位角β约为108°。方位角α在各个情况下设置在相对于第一对称平面E1镜像对称布置的两连接位置304之间。方位角β在各个情况下设置在相对于第二对称平面E2镜像对称布置的两连接位置304之间。

密封环302在连接位置304处具有连接半径R304。因此，内部轮廓306在连接位置304的区域中具有连接半径R304。也就是说，提供四个连接半径R304，但是在图8中仅显示其中一个。连接半径R304的相应中心点MR304-1至MR304-4位于对称平面E1、E2之外。设置四个中心点MR304-1至MR304-4，其位于连接位置304的对称线L1至L3上。每个连接位置304均分配有一条对称线L1至L3，其中在图8中仅显示三条对称线L1至L3。连接位置304分别相对于对称线L1至L3对称构建。换句话说，对称线L1至L3从中心穿过连接位置304。在对称线L1至L3之间绘制方位角α、β。

中心点MR304-1至MR304-4相对于对称平面E1、E2镜像对称定位。中心点MR304-1、MR304-4和中心点MR304-2、MR304-3以在y方向y上彼此相隔距离A2的方式定位。中心点MR304-1、MR304-2和中心点MR304-3、MR304-4以在x方向x上彼此相隔距离A3的方式定位。距离A2大于距离A3。相应连接半径R304在圆周方向U上延伸方位角γ，该方位角γ例如为20°。对于方位角α、β分别为90°的情况，距离A2、A3的幅度相等。连接半径R304小于内径DI的一半。

内部轮廓306具有在x方向x上相邻两连接位置304之间的相应第一中间半径R11、R12。内部轮廓306包括两个第一中间半径R11、R12。第一中间半径R11、R12分别位于图8所示方向的顶部和底部。第一中间半径R11、R12分别大于连接半径R304，如此以下适用：R11、R12>R304。

第一中间半径R11、R12的各自中心点MR11、MR12位于第一对称平面E1上，并且在图8的取向上相对于第二对称平面E2分别向上和向下偏移。如在y方向y上观察，第一中间半径R11、R12的中心点MR11、MR12以彼此相隔距离A4的方式定位。在这种情况下，中心点MR11分配给第一中间半径R11，中心点MR12分配给第一中间半径R12。

内部轮廓306包括在y方向y上相邻两连接位置304之间的相应第二中间半径R21、R22。内部轮廓306包括两个第二中间半径R21、R22。第二中间半径R21、R22分别位于图8所示方向的左侧和右侧。第二中间半径R21、R22分别大于连接半径R304，并且小于第一中间半径R11、R12。如此以下适用：R11、R12>R21、R22>R304。但是，也可选择其他合适的尺寸关系。中间半径R11、R12、R21、R22大于内径DI的一半。

第二中间半径R21、R22的各自中心点MR21、MR22位于第二对称平面E2上，并且在图8的取向上相对于第一对称平面E1分别向左和向右偏移。如在x方向x上观察，第二中间半径R21、R22的中心点MR21、MR22以彼此相隔距离A5的方式定位。在这种情况下，中心点MR21分配给第二中间半径R21，中心点MR22分配给第二中间半径R22。距离A4大于距离A5。对于方位角α、β分别为90°并且幅度相等的情况，距离A4、A5的幅度相等。因此，中间半径R11、R12、R21、R22的幅度也可相等。

内部轮廓306还包括可选的过渡半径RU，中间半径R11、R12、R21、R22借助于该过渡半径过渡到相应的连接半径R304中。在每种情况下，每个连接位置304都提供两个过渡半径RU。过渡半径RU较佳相同，但是也可单独实施。过渡半径RU提供从相应连接半径R304到中间半径R11、R12、R21、R22的连续可变过渡。

密封环302在相应第二部件部分206的基座部分214上的预应力与方位角α、β成比例。举例来说，在已知方位角α为71°的情况下，必须将相应连接位置304之间的密封环302缩短α/360°或71°/360°。如上所述，已知不同的距离或不同的方位角α、β，选择互不相同的第一中间半径R11、R12和第二中间半径R21、R22。因此，可防止连接位置304在安装过程中沿方位角移动，并且因此防止密封装置300翘曲。

通过这样的事实，内部轮廓306在连接位置304的区域中具有连接半径R304，该连接半径经选择使得其小于第二部件部分206的基座部分214的外径，并因此小于内径DI，如此在连接位置304处提供用于压紧密封环302的足够大屈服体积226。

相比之下，在连接位置304之间设置的中间半径R11、R12、R21、R22的区域中，内部轮廓306经历收缩或变窄，使得内部轮廓306抵靠基座部分214并且可在此居中。因此，在连接位置304之间，内部轮廓306以预应力抵靠在基座部分214上。连接位置304之间内部轮廓306的变窄以及在连接位置304处内部轮廓的变宽，导致内部轮廓306具有上述的三叶形(trefoiled)或三叶类型设计。

图9显示根据图7的细节图IV。图7详细显示两密封环302之间的连接位置304。在两侧的连接位置304处分别设置有屈服体积308，该屈服体积与屈服体积226一样，使得密封环302能够被压紧。屈服体积308可称为补偿体积。然而，与屈服体积226不同，屈服体积308直接设置在密封装置300处。在屈服体积308之间设置有连接腹板310，该连接腹板将相邻的密封环302彼此一体连接。连接位置304本身在连接腹板310处具有宽度B304，宽度B304可例如为两毫米。

屈服体积308可具体实施为密封环302的相应外径DA的平坦部分。也就是说，相邻密封环302的外径DA不会彼此过渡。举例来说，屈服体积308在每种情况下都具体实施为完全延伸穿过密封装置300的壁厚度W300(图10)的切口或凹槽。在这种情况下，凹槽型的屈服体积308可具有宽度B308，宽度B308可例如为0.1至0.3毫米，尤其是0.2毫米。壁厚度W300可为1至3毫米，尤其是2毫米。

图11显示参考图9和图10说明的连接位置304的发展例。与图9和图10相反，屈服体积308没有完全延伸穿过壁厚度W300，而是仅延伸到深度T308，该深度T308可例如为1毫米。

图12再次显示根据图7的细节图IV，但是图9和图10所示的连接位置304的发展例则例示于图12中。在这种情况下，屈服体积308不具体实施为切口或凹槽。相反，屈服体积308包括多个彼此相邻放置的孔洞312、314、316，但是在图12中只有三个孔洞具有参考符号。孔洞312、314、316可为任意数量，举例来说，可为每个屈服体积308提供六个这种类型的孔洞312、314、316。

孔洞312、314、316可为圆形并且分别具有直径D308。然而，孔洞312、314、316也可具有任何其他几何形状。举例来说，孔洞312、314、316也可为椭圆形或多边形。直径D308可例如为0.2毫米。孔洞312、314、316可全部具有相同的直径D308或彼此不同的直径D308。孔洞312、314、316可排成一列，如图12所示。另外，孔洞312、314、316也可多列排列。孔洞312、314、316可以彼此均匀或不均匀相隔的方式定位。

如图12所示，沿着宽度B304的连接位置304本身，即在连接腹板310处可以无孔洞312、314、316，也可以无孔。孔洞312、314、316可延伸穿过整个壁厚度W300或仅延伸到上述深度T308。

图13再次显示根据图7的细节图IV，但是图12所示的连接位置304的发展例则例示于图13中。在这种情况下，每个屈服体积308都包括多孔洞列318、320，其依次具有多个孔洞312、314、316，如上所述。孔洞列318、320可为任意数量。孔洞312、314、316可排成两列，如图13所示。然而，孔洞312、314、316也可排成三列或四列。孔洞孔318、320中的各个孔312、314、316可彼此相邻放置，如图13所示。然而，孔洞312、314、316也可彼此交错排列。

图14再次显示根据图7的细节图IV，但是图12所示的连接位置304的发展例则例示于图14中。在连接位置304的该实施例中，整个连接腹板310设置有孔洞312、314、316，使得仅提供由孔洞312、314、316形成的单一连续屈服体积308。

上面说明的所有屈服体积308构造可靠地使得能够在连接位置304的区域中挤压相应密封环302。因此，能够可靠地防止在安装过程中以及随着时间流逝直接泄漏。同时，如上所述，由于内部轮廓306的三叶形几何形状，总是确保密封环302在第二部件部分206的基座部分214上居中。

尽管已经根据例示性实施例描述本发明，但是本发明可用多种方式修改。

参考符号列表

100A EUV 光刻设备

100B DUV 光刻设备

102 光束成形和照明系统

104 投射系统

106A EUV 光源

106B DUV 光源

108A EUV 辐射

108B DUV 辐射

110 反射镜

112 反射镜

114 反射镜

116 反射镜

118 反射镜

120 光掩模

122 反射镜

124 晶片

126 光轴

128 透镜元件

130 反射镜

132 介质

200 部件

202 部件部分

204 冷却系统

206 部件部分

208 接收部分

210 密封表面

212 主体

214 基座部分

216 凸缘部分

218 对称轴

220 密封表面

222 环主体

224 轴承部分

226 屈服体积

300 密封装置

302 密封环

304 连接位置

306 内部轮廓

308 屈服体积

310 连接腹板

312 孔洞

314 孔洞

316 孔洞

318 孔洞列

320 孔洞列

A1 距离

A2 距离

A3 距离

A4 距离

A5 距离

B304 宽度

DA 外径

DI 内径

D308 直径

E1 对称平面

E2 对称平面

L1 对称线

L2 对称线

L3 对称线

MR11 中心点

MR12 中心点

MR21 中心点

MR22 中心点

MR304-1 中心点

MR304-2 中心点

MR304-3 中心点

MR304-4 中心点

M1 反射镜

M2 反射镜

M3 反射镜

M4 反射镜

M5 反射镜

M6 反射镜

RU 过渡半径

R11 中间半径

R12 中间半径

R21 中间半径

R22 中间半径

R304 连接半径

T308 深度

U 圆周方向

W300 壁厚度

x x方向

y y方向

z z方向

α 方位角

β 方位角

γ 方位角

Claims (19)

1.一种密封装置(300)，用于相对于光刻设备(100A、100B)的多个第二部件部分(206)来密封该光刻设备(100A、100B)的第一部件部分(202)，包括：

多个密封环(302)，以及

多个连接位置(304)，

其中所述密封环(302)借助于所述连接位置(304)彼此连接。

2.如权利要求1所述的密封装置，其中所述连接位置(304)各自包括用于将相应密封环(302)挤压在该第一部件部分(202)与该第二部件部分(206)中的一个之间的屈服体积(226、308)。

3.如权利要求2所述的密封装置，其中每一密封环(302)都包括内部轮廓(306)，在每个内部轮廓中能够容纳至少部分第二部件部分(206)，并且其中，该屈服体积(226)通过该内部轮廓(306)在该连接位置(304)处加宽而形成。

4.如权利要求3所述的密封装置，其中该内部轮廓(306)在该连接位置(304)处包括连接半径(R304)，其中该内部轮廓(306)在各个情况下在两个相邻连接位置(304)之间包括中间半径(R11、R12、R21、R22)，并且其中该中间半径(R11、R12、R21、R22)和该连接半径(R304)以其绝对值表示时彼此不同，以使该内部轮廓(306)在该连接位置(304)处变宽并且在两个相邻连接位置(304)之间变窄。

5.如权利要求4所述的密封装置，其中该中间半径(R11、R12、R21、R22)大于该连接半径(R304)。

6.如权利要求5所述的密封装置，其中该内部轮廓(306)包括第一中间半径(R11、R12)和第二中间半径(R21、R22)，其中该第一中间半径(R11、R12)和该第二中间半径(R21、R22)的幅度相等或不等。

7.如权利要求6所述的密封装置，其中该第二中间半径(R21、R22)的幅度大于该第一中间半径(R11、R12)的幅度。

8.如权利要求6或7所述的密封装置，其中其间设置有该第一中间半径(R11、R12)的两个相邻连接位置(304)，以及其间设置有该第二中间半径(R21、R22)的两个相邻连接位置(304)，以彼此以相同距离或不同距离相隔的方式布置。

9.如权利要求6至8中任一项所述的密封装置，其中该中间半径(R11、R12、R21、R22)的中心点(MR11、MR12、MR21、MR22)相对于该连接半径(R304)的中心点(MR304-1-MR304-4)偏移布置。

10.如权利要求9所述的密封装置，其中该第一中间半径(R11、R12)的中心点(MR21、MR22)相对于该连接半径(R304)的中心点(MR304-1-MR304-4)在该密封环(302)的x方向(x)和y方向(y)上偏移布置，并且其中该第二中间半径(R21、R22)的中心点(MR21、MR22)相对于该连接半径(R304)的中心点(MR304)在该密封环(302)的x方向(x)和y方向(y)上偏移布置。

11.如权利要求10所述的密封装置，其中两个第一中间半径(R11、R12)的中心点(MR11、MR12)以在y方向(y)上彼此间隔第一距离(A4)的方式布置，其中两个第二中间半径(R21、R22)的中心点(MR21、MR22)以在x方向(x)上彼此间隔第二距离(A5)的方式布置，并且其中该第一距离(A4)和该第二距离(A5)的幅度相等或具有不同幅度。

12.如权利要求11所述的密封装置，其中该第一中间半径(R11、R12)和该第二中间半径(R21、R22)都沿着该内部轮廓(306)交错布置。

13.如权利要求4至12中任一项所述的密封装置，其中该内部轮廓(306)包括一过渡半径(RU)，并且其中该中间半径(R11、R12、R21、R22)在该过渡半径(RU)的帮助之下过渡到该连接半径(R304)。

14.如权利要求2至13中任一项所述的密封装置，其中每一连接位置(304)提供两个屈服体积(308)，其中在所述两个屈服体积(308)之间设置该连接位置(304)的连接腹板(310)，并且其中该连接腹板(310)将相邻的密封环(302)彼此连接。

15.如权利要求2至14中任一项所述的密封装置，其中该屈服体积(308)是一凹槽，其完全穿过该密封装置(300)的壁厚度(W300)，或者仅延伸到该壁厚度(W300)的定义深度(T308)。

16.如权利要求2至15中任一项所述的密封装置，其中该屈服体积(308)包括许多孔洞(312、314、316)，其完全穿过该密封装置(300)的壁厚度(W300)，或者仅延伸到该壁厚度(W300)的定义深度(T308)。

17.一种用于光刻设备(100A、100B)的部件(200)，包括：

第一部件部分(202)，

许多第二部件部分(206)，其至少部分容纳在该第一部件部分(202)内，以及

如权利要求1至16中任一项所述的密封装置(300)。

18.如权利要求17所述的部件，其中该密封环(302)在各个情况下被压在该第一部件部分(202)与该第二部件部分中的一个之间，使得该密封装置(300)的相应屈服体积(226,308)至少部分填入相应密封环(302)的材料。

19.一种光刻设备(100A、100B)，包括如权利要求1至16中任一项所述的密封装置(300)和/或如权利要求17或18所述的部件(200)。

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