CN113828466A - 一种用于真空镀膜的雾化装置 - Google Patents

一种用于真空镀膜的雾化装置 Download PDF

Info

Publication number
CN113828466A
CN113828466A CN202111203394.7A CN202111203394A CN113828466A CN 113828466 A CN113828466 A CN 113828466A CN 202111203394 A CN202111203394 A CN 202111203394A CN 113828466 A CN113828466 A CN 113828466A
Authority
CN
China
Prior art keywords
atomizer body
cooling
coating material
organic coating
atomizer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202111203394.7A
Other languages
English (en)
Inventor
李小彭
姜翠宁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Luoyang Shengbo Vacuum Equipment Co ltd
Original Assignee
Luoyang Shengbo Vacuum Equipment Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Luoyang Shengbo Vacuum Equipment Co ltd filed Critical Luoyang Shengbo Vacuum Equipment Co ltd
Priority to CN202111203394.7A priority Critical patent/CN113828466A/zh
Publication of CN113828466A publication Critical patent/CN113828466A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
    • B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
    • B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
    • B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B16/00—Spray booths
    • B05B16/20—Arrangements for spraying in combination with other operations, e.g. drying; Arrangements enabling a combination of spraying operations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
    • B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
    • B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
    • B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers
    • B05B17/0653—Details
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Special Spraying Apparatus (AREA)

Abstract

本发明提供一种用于真空镀膜的雾化装置，包括壳体和设于壳体内的雾化器本体，雾化器本体的两端分别设有通液接口和雾化喷头，通液接口用于通入供雾化器本体进行雾化的液态有机镀膜材料，雾化器本体上设有用于增压的增压接头。本发明先对液态有机镀膜材料的雾化，而后可以再对雾化后液态有机镀膜材料进行汽化，汽化后的有机镀膜材料可均匀地附着并涂覆于基材的表面上，成膜的过程在真空环境下完成，其适用范围广，可以获得较薄的镀膜层，也可以满足厚膜的需要，其均匀性容易控制，效率高，并且可以获得均匀性高和更高膜层性能的薄膜。

Description

一种用于真空镀膜的雾化装置
【技术领域】
本发明涉及真空镀膜领域，尤其是一种用于真空镀膜的雾化装置。
【背景技术】
目前在真空状态下常用的薄膜制备方法有磁控溅射、蒸发、等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)等，根据所用原材料的特性选取不同的镀膜方式。针对一些镀膜原材料为有机液态物的情况，在真空状态的镀膜方式一般采用PECVD的方式，也有一些采用在大气环境下在基材表面直接涂布的方式来制备薄膜。
在真空状态下采用PECVD的方式来制备薄膜，尤其是在柔性基材上进行镀膜时，此种薄膜的制备方式，对箱体(真空室)内部及传动系统都有一定的污染，从而导致基材在卷绕行走的过程造成损坏，另外其相对效率会也会降低。为了提高效率，增加一次成膜的厚度，就需要增加PECVD源，PECVD源数量的增加则会导致设备的卷绕系统变得复杂，使得薄膜在卷绕过程中容易出现褶皱，对于需要完成不同材料组成的叠加膜层，各源之间就会出现不同程度的相互干扰，而解决干扰问题带来的困扰同样也会使得设备变大，卷绕系统变得复杂，设备加工难度陡增。
如果在大气下通过涂布方式完成膜层的制备，膜层的整体性能达不到真空状态制备的膜层性能，如果采用在真空下涂布的方式，同样无法获得良好的膜层性能，且对腔体造成严重污染，效率低下，无法获得均匀且较薄的膜层。
【发明内容】
本发明要解决的技术问题是提供适用范围广且效率高的一种用于真空镀膜的雾化装置。
本发明的目的是这样实现的：
一种用于真空镀膜的雾化装置，包括壳体和设于所述壳体内的雾化器本体，所述雾化器本体的两端分别设有通液接口和雾化喷头，所述通液接口用于通入供所述雾化器本体进行雾化的液态有机镀膜材料，所述雾化器本体上设有用于增压的增压接头。
本发明采用上述结构，先对液态有机镀膜材料的雾化，而后可以再对雾化后液态有机镀膜材料进行汽化，汽化后的有机镀膜材料可均匀地附着并涂覆于基材的表面上，成膜的过程在真空环境下完成，其适用范围广，可以获得较薄的镀膜层，也可以满足厚膜的需要，其均匀性容易控制，效率高，并且可以获得均匀性高和更高膜层性能的薄膜。基材传送装置对涂覆有有机镀膜材料的基材进行冷却，使得有机镀膜材料冷却成型于基材上，从而完成薄膜的涂覆。雾化器本体可将液态有机镀膜材料雾化为微小颗粒，增压接头接入高压气，使得微小颗粒状的液态有机镀膜材料经过雾化喷头喷出并在加热装置内迅速扩散以提高其在加热装置内的汽化效率。采用本发明解决了以往薄膜制备方式效率低、膜层厚度受限、腔体污染及为提高效率导致系统复杂等技术问题，可以更高效的获得性能优良的膜层。
如上所述的一种用于真空镀膜的雾化装置，所述壳体包括外壳体和内壳体，所述外壳体与所述内壳体之间形成有第一冷却空间，所述外壳体上设有与所述第一冷却空间相连通且与冷却液体相连通的水冷进口和水冷出口，从而实现水冷以有效对雾化装置进行降温，防止其温度过高。
如上所述的一种用于真空镀膜的雾化装置，所述雾化器本体内设有第二冷却空间，所述雾化器本体的外侧设有与所述第二冷却空间相连通且与冷却气体相连通的气冷进口和气冷出口，从而实现气冷以进一步提高对雾化装置的冷却效果，保证雾化装置可在较低的温度下正常工作。
如上所述的一种用于真空镀膜的雾化装置，所述雾化器本体为超声雾化器，其外侧设有电连接头，从而使得雾化器本体可将泵入的液态有机镀膜材料雾化为<20μm的微小颗粒。
【附图说明】
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细说明，其中：
图1为本发明的剖视结构示意图；
图2为本发明的立体结构示意图；
图3为本发明与加热装置的装配结构示意图；
图4为本发明的使用状态参考图。
【具体实施方式】
一种用于真空镀膜的雾化装置，包括壳体211和设于壳体211内的雾化器本体212，雾化器本体212的两端分别设有通液接口2121和雾化喷头2122，通液接口2121用于通入供雾化器本体212进行雾化的液态有机镀膜材料，雾化器本体212上设有用于增压的增压接头213。
为实现水冷以有效对雾化装置进行降温并防止其温度过高，壳体211包括外壳体2111和内壳体2112，壳体211包括外壳体2111和内壳体2112，外壳体2111与内壳体2112之间形成有第一冷却空间2113，外壳体2111上设有与第一冷却空间2113相连通且与冷却液体相连通的水冷进口214和水冷出口215。外部冷却液通过水冷进口214进入至第一冷却空间2113，并从水冷出口215回流，从而实现循环水冷，保证雾化器本体21可以在80℃以下的环境温度下正常工作。
为实现气冷以进一步提高对雾化装置的冷却效果，雾化器本体212内设有第二冷却空间，雾化器本体212的外侧设有与第二冷却空间相连通且与冷却气体相连通的气冷进口216和气冷出口217。通过水冷和气冷可对雾化装置进行双重的冷却保护。
为保证雾化器本体212可将泵入的液态有机镀膜材料雾化为微小的颗粒，雾化器本体212为超声雾化器，其外侧设有电连接头2120。
本发明使用时，抽真空装置101首先对真空室100进行抽真空，使得镀膜工艺处于真空的状态下进行。随后外部泵体驱动液态有机镀膜材料通过通液接口2121泵入雾化器本体212内，雾化器本体212将泵入的液态有机镀膜材料雾化为<20μm的微小颗粒，增压接头213接入外部高压气，使得微小颗粒状的液态有机镀膜材料经过雾化喷头2122增压喷出并在加热装置22内迅速扩散以提高其在加热装置22内的汽化效率，此时加热装置22对微小颗粒状的液态有机镀膜材料进行加热，使其内迅速汽化并将其快速蒸发为具有压力的气体分子(雾化后的有机镀膜材料的蒸发率高，且效率快)，并均匀的附着于基材10的表面上，基材传送装置1对基材10进行冷却，使得附着于基材10表面上的气态有机镀膜材料发生液化后固化或直接发生凝华，从而成型于基材10上。

Claims (4)

1.一种用于真空镀膜的雾化装置，其特征在于包括壳体(211)和设于所述壳体(211)内的雾化器本体(212)，所述雾化器本体(212)的两端分别设有通液接口(2121)和雾化喷头(2122)，所述通液接口(2121)用于通入供所述雾化器本体(212)进行雾化的液态有机镀膜材料，所述雾化器本体(212)上设有用于增压的增压接头(213)。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的雾化装置，其特征在于所述壳体(211)包括外壳体(2111)和内壳体(2112)，所述外壳体(2111)与所述内壳体(2112)之间形成有第一冷却空间(2113)，所述外壳体(2111)上设有与所述第一冷却空间(2113)相连通且与冷却液体相连通的水冷进口(214)和水冷出口(215)。
3.根据权利要求1或2所述的一种用于真空镀膜的雾化装置，其特征在于所述雾化器本体(212)内设有第二冷却空间，所述雾化器本体(212)的外侧设有与所述第二冷却空间相连通且与冷却气体相连通的气冷进口(216)和气冷出口(217)。
4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的雾化装置，其特征在于所述雾化器本体(212)为超声雾化器，其外侧设有电连接头(2120)。
CN202111203394.7A 2021-10-15 2021-10-15 一种用于真空镀膜的雾化装置 Pending CN113828466A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111203394.7A CN113828466A (zh) 2021-10-15 2021-10-15 一种用于真空镀膜的雾化装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111203394.7A CN113828466A (zh) 2021-10-15 2021-10-15 一种用于真空镀膜的雾化装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113828466A true CN113828466A (zh) 2021-12-24

Family

ID=78965149

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111203394.7A Pending CN113828466A (zh) 2021-10-15 2021-10-15 一种用于真空镀膜的雾化装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113828466A (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1121511C (zh) 控制气氛化学气相淀积的设备和方法
JP5841156B2 (ja) 酸化膜成膜方法および酸化膜成膜装置
US20140060058A1 (en) Gas turbine system having an evaporative cooler
KR101518545B1 (ko) 저온 스프레이 방식 그래핀 증착 장치
WO2011097238A2 (en) Fine droplet atomizer for liquid precursor vaporization
JP2003249492A (ja) プラズマ放電処理装置、薄膜形成方法及び基材
CN102747327B (zh) 抗污薄膜的常压蒸镀方法、常压蒸镀装置与制作设备
CN216419938U (zh) 一种用于真空镀膜的雾化装置
WO2018011854A1 (ja) ミスト塗布成膜装置及びミスト塗布成膜方法
JP2016528033A (ja) 固相パウダーコーティング装置及びコーティング方法
CN113828466A (zh) 一种用于真空镀膜的雾化装置
TWI824379B (zh) Ｐｅｃｖｄ鍍膜系統和鍍膜方法
JP2012223757A (ja) 防汚フィルムの常圧蒸着法
CN216404532U (zh) 一种新型真空镀膜设备
KR101038187B1 (ko) 온도조절장치가 구비된 고상파우더 진공증착장치 및 고상파우더 진공증착방법
CN113969397A (zh) 一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法
CN216427388U (zh) 一种用于真空镀膜的雾化加热装置
CN216404515U (zh) 一种气态有机镀膜材料的涂覆载体组件
CN113789499A (zh) 一种用于真空镀膜的雾化加热装置
JP2012529417A (ja) ガラス基板を被覆する方法及び装置
JPS61244025A (ja) 薄膜製造方法
KR102555279B1 (ko) 기화효율이 향상된 반도체 공정용 기화기
CN112687594B (zh) 半导体器件解理装置及解理方法
CN113832433A (zh) 一种气态有机镀膜材料的涂覆载体组件
CN113913787A (zh) 一种新型薄膜制备工艺及真空镀膜设备

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination