CN113764494A - 一种彩膜结构及其制备方法、显示装置 - Google Patents
一种彩膜结构及其制备方法、显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113764494A CN113764494A CN202111051880.1A CN202111051880A CN113764494A CN 113764494 A CN113764494 A CN 113764494A CN 202111051880 A CN202111051880 A CN 202111051880A CN 113764494 A CN113764494 A CN 113764494A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- material layer
- transparent material
- interface
- color film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims abstract description 306
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 95
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 142
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 12
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 3
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 claims description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 103
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- -1 perfluorovinyl Chemical group 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
一种彩膜结构及其制备方法、显示装置,彩膜结构包括彩膜基板以及设置于所述彩膜基板出光侧的减反层,所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵,所述减反层包括第一透明材料层和第二透明材料层,所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率,所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面,所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵。
Description
技术领域
本公开实施例涉及但不限于显示技术领域,具体涉及一种彩膜结构及其制备方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,简称OLED)和量子点发光二极管(Quantum-dot Light Emitting Diodes,简称QLED)为主动发光显示器件,具有自发光、广视角、高对比度、低耗电、极高反应速度、轻薄、可弯曲和成本低等优点。随着显示技术的不断发展,以OLED或QLED为发光器件、由薄膜晶体管(Thin Film Transistor,简称TFT)进行信号控制的柔性显示装置(Flexible Display)已成为目前显示领域的主流产品。
手机,平板等消费者业务的快速发展,带动了OLED屏幕的技术更新,对于OLED屏幕来说,降低功耗成为OLED屏幕的一个重要发展方向。具有彩膜结构的OLED器件可以降低约20%的功耗,但是由于OLED器件中加入彩膜结构后,不再使用偏光片,而是通过彩膜(CF)对于光的选择性透过以及黑矩阵(BM)来降低OLED器件的反射率,但是仅仅通过CF、BM无法满足OLED器件对于反射率的需求,具有彩膜结构的OLED器件很难满足较低反射率的要求(<5%)。
发明内容
以下是对本公开详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
在相关技术中,彩膜结构降低反射率的方法一般有:增大黑矩阵的面积或者使用AR减反层。增大黑矩阵的面积会使黑矩阵的面积占比增加,影响大角度下的出光效率,从而降低OLED器件的光取出效率。AR减反层是通过光的干涉现象实现反射率的降低,所以在减反射的波长上就会受到限制。AR减反层只能对于特定范围内的波长有作用,而无法对于380nm-780nm的可见光波长全部起作用,因此AR减反层有一定的局限性。
第一方面,本公开实施例提供了一种彩膜结构,包括彩膜基板以及设置于所述彩膜基板出光侧的减反层,所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵,所述减反层包括第一透明材料层和第二透明材料层,所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率,所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面,所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵。
在示例性实施方式中,所述第一透明材料层包括远离所述彩膜基板一侧的第一表面以及靠近所述彩膜基板一侧的第二表面,所述第一表面至少部分覆盖所述彩膜层,所述第二表面至少部分覆盖所述黑矩阵。
在示例性实施方式中,所述第一反射界面包括相对设置的第一界面和第二界面,所述第一界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述第二界面,所述第二界面配置为将入射所述第二界面的至少部分光线反射至所述黑矩阵。
在示例性实施方式中,所述第一界面至少部分覆盖所述彩膜层,且所述第一界面至少部分位于所述第一表面与所述彩膜层之间。
在示例性实施方式中,所述第二界面至少部分覆盖所述第二表面和所述黑矩阵。
在示例性实施方式中,所述第二透明材料层包括第一子材料层和第二子材料层,所述第一透明材料层位于所述第一子材料层和所述第二子材料层之间,所述第一透明材料层与所述第一子材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第一子材料层的交界形成所述第一界面,所述第一透明材料层与所述第二子材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二子材料层的交界形成所述第二界面。
在示例性实施方式中,所述第一界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面倾斜设置;和/或,所述第二界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面倾斜设置。
在示例性实施方式中,所述第一界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面形成的倾斜角度为43°-45°;和/或,所述第二界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面形成的倾斜角度为43°-45°。
在示例性实施方式中,所述第一子材料层的截面为正三角形或正梯形;和/或,所述第二子材料层的截面为倒三角形或倒梯形。
在示例性实施方式中,所述第一透明材料层的折射率为1.8-1.9,所述第二透明材料层的折射率为1.3-1.4。
在示例性实施方式中,所述第一透明材料层的材料包括引进硫、磷原子的丙烯酸树脂材料、环氧树脂、环硫树脂、烯烃类树脂好和聚氨酯树脂中的至少一种。
在示例性实施方式中,所述第二透明材料层的材料为硅氧烷树脂或全氟乙烯树脂。
在示例性实施方式中,还包括第三透明材料层,所述第三透明材料层位于所述减反层与所述彩膜基板之间,所述第三透明材料层的折射率大于所述彩膜基板的折射率,小于所述第一透明材料层的折射率。
在示例性实施方式中,所述第三透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率。
在示例性实施方式中,还包括聚光层,所述聚光层位于所述减反层远离所述彩膜基板一侧,所述聚光层包括第四透明材料层和第五透明材料层,所述第四透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第四透明材料层与所述第五透明材料层至少部分相连,且所述第四透明材料层的折射率大于所述第五透明材料层的折射率,所述第四透明材料层与所述第五透明材料层的交界形成第二反射界面,所述第二反射界面配置为将入射所述第四透明材料层靠近所述彩膜基板一侧的至少部分光线汇聚至所述第四透明材料层远离所述彩膜基板一侧。
第二方面,本公开实施例还提供了一种显示装置,包括前述的彩膜结构,
第三方面,本公开实施例还提供了一种彩膜结构的制备方法,包括:
形成彩膜基板,所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵;
在所述彩膜基板的出光侧形成第一透明材料层和第二透明材料层,所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率,所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面,所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵。
在示例性实施方式中,在所述彩膜基板的出光侧形成第一透明材料层和第二透明材料层,包括:
在所述彩膜基板的出光侧形成至少两个第一子材料层,相邻所述第一子材料层之间形成第一槽体;
在所述第一槽体中形成第一透明材料层;所述第一透明材料层的至少部分与所述第一子材料层相连,所述第一透明材料层与所述第一子材料层的交界形成第一界面;
在所述第一透明材料层中形成第二槽体,在所述第二槽体中形成第二子材料层,所述第一透明材料层的至少部分与所述第二子材料层相连,所述第一透明材料层与所述第二子材料层的交界形成第二界面;所述第一界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述第二界面,所述第二界面配置为将入射所述第二界面的至少部分光线反射至所述黑矩阵;
其中,所述第一子材料层和所述第二子材料层形成所述第二透明材料层,所述第一界面和所述第一界面形成所述第一反射界面。
在阅读并理解了附图和详细描述后,可以明白其他方面。
附图说明
附图用来提供对本申请技术方案的理解,并且构成说明书的一部分,与本申请的实施例一起用于解释本申请的技术方案,并不构成对本申请技术方案的限制。
图1为本申请实施例彩膜结构的剖视图一;
图2为本申请实施例彩膜结构的光路示意图;
图3为本申请实施例彩膜结构的剖视图二;
图4为本申请实施例形成彩膜基板以及第三透明材料层后的结构示意图;
图5为本申请实施例形成第一子材料层后的结构示意图;
图6为本申请实施例形成第一透明材料层后的结构示意图;
图7为本申请实施例形成第二槽体后的结构示意图;
图8为本申请实施例形成第二子材料层后的结构示意图;
图9为本申请实施例形成第四透明材料层后的结构示意图。
具体实施方式
下文中将结合附图对本公开的实施例进行详细说明。注意,实施方式可以以多个不同形式来实施。所属技术领域的普通技术人员可以很容易地理解一个事实,就是方式和内容可以在不脱离本公开的宗旨及其范围的条件下被变换为各种各样的形式。因此,本公开不应该被解释为仅限定在下面的实施方式所记载的内容中。在不冲突的情况下,本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
在本说明书中,为了方便起见,使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系,仅是为了便于描述本说明书和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此,不局限于在说明书中说明的词句,根据情况可以适当地更换。
在本说明书中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如,可以是固定连接,或可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或通过中间件间接相连,或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据情况理解上述术语在本公开中的含义。
本公开中的“约”,是指不严格限定界限,允许工艺和测量误差范围内的数值。
图1为本申请实施例彩膜结构的剖视图一。如图1所示,本申请实施例提供了一种彩膜结构,包括彩膜基板10以及层叠设置于彩膜基板10出光侧的减反层20,彩膜基板10包括彩膜层1以及位于彩膜层1周围的黑矩阵2。黑矩阵2采用吸光材料,黑矩阵2对于光线的吸收率为99.9%。减反层20包括第一透明材料层3和第二透明材料层4。第一透明材料层3的折射率大于第二透明材料层4的折射率,第一透明材料层3至少部分覆盖彩膜层1,第一透明材料层3与第二透明材料层4至少部分相连,第一透明材料层3与第二透明材料层4的交界形成第一反射界面5,第一反射界面5配置为将入射第一透明材料层3远离彩膜基板10一侧的至少部分光线反射至黑矩阵2。其中,彩膜基板10出光侧是指显示光线透过彩膜基板10射出的一侧,即彩膜基板10远离显示基板的一侧。
本申请实施例彩膜结构通过第一反射界面5,使外界进入彩膜基板10的光线发生反射,改变外界光线的传播路径,使原本照射到彩膜基板10中彩膜层1的外界光线通过第一反射界面5的反射照射到黑矩阵2上,通过黑矩阵2吸收外界光线,可以降低显示器件的反射率。同时不需要增加黑矩阵2的面积占比,从而不会牺牲显示器件的功耗。此外,黑矩阵2对于380nm-780nm波段的可见光都可以实现较高的吸收率,从而满足具有彩膜结构的显示屏幕对于反射率的要求。
在示例性实施方式中,在平行于彩膜结构的方向上,第一透明材料层3和第二透明材料层4交替排列,第一透明材料层3的侧壁与第二透明材料层4的侧壁至少部分连接,第一透明材料层3的侧壁与第二透明材料层4的侧壁的交界形成第一反射界面5。
在示例性实施方式中,如图1所示,第一透明材料层3包括远离彩膜基板10一侧的第一表面301以及靠近彩膜基板10一侧的第二表面302,第一表面301至少部分覆盖彩膜层1;第二表面302至少部分覆盖黑矩阵2,使原本进入彩膜层1的外界光线通过第一表面301进入第一透明材料层3中后,通过第一反射界面5发生反射,再通过第二表面302进入黑矩阵2上。
在示例性实施方式中,如图1所示,第一反射界面5至少部分覆盖彩膜层1,且第一反射界面5至少部分位于第一表面301与彩膜层1之间;以及第一反射界面5至少部分覆盖第二表面302和黑矩阵2。当原本进入彩膜层1的外界光线通过第一表面301进入第一透明材料层3中后,照射在第一反射界面5,发生反射后,照射到第二表面302,通过第二表面302进入黑矩阵2上。
在示例性实施方式中,如图1所示,减反层20包括至少两个第一透明材料层3,相邻两个第一透明材料层3的第一表面301相连,覆盖整个彩膜层1;相邻两个第一透明材料层3的第二表面302分别覆盖相邻的黑矩阵2。第一反射界面5覆盖整个彩膜层1,且第一反射界面5位于第一表面301与彩膜层1之间,从而使原本进入彩膜层1的所有外界光线均通过第一表面301照射在第一反射界面5,发生反射后,照射到第二表面302,透过第二表面302进入黑矩阵2上。
在一些实施例中,减反层也可以包括三个或三个以上的透明材料层,只要相邻透明材料层的交界能够形成反射界面,且该反射界面能够改变外界光线的传播路径,使原本照射到彩膜基板中彩膜层的外界光线通过反射照射到黑矩阵上即可,本申请实施例在此不再赘述。
在示例性实施方式中,第一透明材料层3可以采用多种透明材料,只要第一透明材料层3的折射率大于第二透明材料层4的折射率即可。例如,第一透明材料层3可以采用透明树脂材料。示例的,第一透明材料层3的材料包括丙烯酸树脂材料、环氧树脂、环硫树脂、烯烃类树脂好和聚氨酯树脂中的至少一种。
在示例性实施方式中,第二透明材料层4可以采用多种透明材料,只要第二透明材料层4的折射率小于第一透明材料层3的折射率即可。例如,第二透明材料层4可以采用透明树脂材料。示例的,第二透明材料层4的材料为硅氧烷树脂或全氟乙烯树脂。
图2为本申请实施例彩膜结构的光路示意图。在示例性实施方式中,如图2所示,第一反射界面5包括相对设置的第一界面501和第二界面502,第一界面501配置为将入射第一透明材料层3远离彩膜基板10一侧的至少部分光线反射至第二界面502,第二界面502配置为将入射第二界面502的至少部分光线反射至黑矩阵2。本申请实施例彩膜结构通过第一界面501和第二界面502,改变外界光线的传播路径,使原本照射到彩膜基板10中彩膜层1的外界光线通过第一反射界面5的反射照射到黑矩阵2上,降低显示器件的反射率。
在示例性实施方式中,如图2所示,第一界面501至少部分覆盖彩膜层1,且第一界面501至少部分位于第一透明材料层3的第一表面301与彩膜层1之间,使原本进入彩膜层1的外界光线能够照射在第一界面501,发生反射后,照射到第二界面502。
在示例性实施方式中,如图2所示,第二界面502至少部分覆盖第一透明材料层3的第二表面302和黑矩阵2,使入射第二界面502的光线发生反射后,通过第二表面302照射到黑矩阵2上。
在示例性实施方式中,如图2所示,第二透明材料层4包括第一子材料层401和第二子材料层402。在平行于彩膜结构的方向上,第一子材料层401和第二子材料层402交替排列,且第一子材料层401和第二子材料层402之间设置有间隔。第一透明材料层3位于第一子材料层401和第二子材料层402之间的间隔中。第一透明材料层3具有相对设置的两侧壁,第一透明材料层3一侧的侧壁与第一子材料层401的侧壁至少部分相连,第一透明材料层3与第一子材料层401的交界形成第一界面501。第一透明材料层3另一侧的侧壁与第二子材料层402至少部分相连,第一透明材料层3与第二子材料层402的交界形成第二界面502。
在示例性实施方式中,如图2所示,第一子材料层401至少部分覆盖彩膜层1,使第一子材料层401与第一透明材料层3形成的第一界面501至少部分覆盖彩膜层1。
在示例性实施方式中,如图2所示,第一界面501与彩膜基板10靠近减反层20一侧表面倾斜设置,从而使原本进入彩膜层1的外界光线能够照射在第一界面501,发生反射后,照射到第二界面502。
在示例性实施方式中,如图2所示,第二界面502与彩膜基板10靠近减反层20一侧表面倾斜设置,从而使入射第二界面502的光线发生反射后,通过第二界面502照射到黑矩阵2上。
在示例性实施方式中,第一界面与彩膜基板靠近减反层一侧表面形成的倾斜角度可以采用多种角度,只要能够使原本进入彩膜层1的外界光线通过第一界面501反射到第二界面502即可。例如,第一界面与彩膜基板靠近减反层一侧表面形成的倾斜角度可以为43°-45°。
在示例性实施方式中,第二界面与彩膜基板靠近减反层一侧表面形成的倾斜角度可以采用多种角度,只要能够使入射第二界面的光线发生反射后,通过第二界面照射到黑矩阵上即可。例如,第二界面与彩膜基板靠近减反层一侧表面形成的倾斜角度可以为43°-45°。
在示例性实施方式中,如图2所示,在垂直于彩膜结构的方向上,第一子材料层401的截面为正三角形,第一子材料层401包括两个第一倾斜面,两个第一倾斜面均与第一透明材料层3相连,形成两个第一界面501,两个第一界面501组合形成倒V形界面。第一子材料层401覆盖整个彩膜层1,使倒V形界面覆盖整个彩膜层1,从而使原本进入彩膜层1的所有外界光线均通过第一界面501发生反射。
在示例性实施方式中,如图2所示,在垂直于彩膜结构的方向上,第二子材料层402的截面为倒三角形,第二子材料层402包括两个第二倾斜面,两个第二倾斜面均与第一透明材料层3相连,形成两个第二界面502,两个第二界面502组合形成V形界面。第二子材料层402覆盖整个黑矩阵2,使V形界面覆盖整个黑矩阵2。第二透明材料层4包括至少两个第二子材料层402,相邻两个第二子材料层402位于第一子材料层401的两侧,相邻两个第二子材料层402中的一个与第一透明材料层3形成的第二界面502与第一子材料层401一侧与第一透明材料层3形成的第一界面501对应,相邻两个第二子材料层402中的另一个与第一透明材料层3形成的第二界面502与第一子材料层401另一侧与第一透明材料层3形成的第一界面501对应,从而使照射到第一界面501的光线均能够被反射到第二界面502。
在一些实施例中,在垂直于彩膜结构的方向上,第一子材料层的截面也可以采用其他形状,只要第一子材料层能够与第一透明材料层形成第一界面即可,例如,第一子材料层的截面可以采用正梯形。
在一些实施例中,在垂直于彩膜结构的方向上,第二子材料层的截面也可以采用其他形状,只要第二子材料层能够与第一透明材料层形成第二界面即可,例如,第二子材料层的截面可以采用倒梯形。
在示例性实施方式中,第一子材料层401和第二子材料层402可以采用相同的材料,也可采用不同的材料,只要第一子材料层401的折射率和第二子材料层402的折射率均小于第一透明材料层3的折射率即可。
在一些实施例中,第一反射界面5也可以包括其他数量的界面,比如1个、3个、4个等数量的界面,只要能够改变外界光线的传播路径,使原本照射到彩膜基板中彩膜层的外界光线通过反射照射到黑矩阵上即可,本申请实施例在此不再赘述。
在示例性实施方式中,由于外界光线通过第一界面501和第二界面502发生两次全发射,因此对于第一透明材料层3与第二透明材料层4的折射率搭配有一定的要求。例如。当控制第一界面501和第二界面502的全反射的临界角在43°-45°之间时,外界光线射入到第一界面501时都可以发生全发射现象,最大限度地使射入彩膜层1的外界光线通过全发射到达黑矩阵2,使黑矩阵2吸收外界射入的光线。此外临界角不宜过小,因为光线出射时要经过两次折射率不同的界面,当两种透明材料的折射率差异较大时,就会减少透过率,因此全反射的临界角的选择在43°-45°之间最为合适。
在示例性实施方式中,第一透明材料层3的折射率为1.8-1.9,第二透明材料层4的折射率为1.3-1.4,从而使第一反射界面5的全反射临界角在43°-45°之间。
在示例性实施方式中,第一透明材料层3的折射率和第二透明材料层4的折射率可以通过使用不同的主体材料来调节。例如,第一透明材料层3的材料和第二透明材料层43的材料均采用透明的树脂材料。第一透明材料层3的折射率和第二透明材料层4的折射率可以通过使用不同的树脂材料来调节,第一透明材料层3的材料可以为引进硫、磷原子的丙烯酸树脂材料,通过调整硫、磷原子的比例,使第一透明材料层3的折射率为1.8-1.9之间。第二透明材料层4的材料可以为有机硅树脂,通过调整有机硅树脂中的羟基的比例可以调整第二透明材料层4的折射率,使第二透明材料层4的折射率为1.3-1.4之间。
在示例性实施方式中,如图1所示,本申请实施例彩膜结构还包括第三透明材料层6,第三透明材料层6位于减反层20与彩膜基板10之间,第三透明材料层6的折射率大于彩膜基板10的折射率,小于第一透明材料层3的折射率。例如,彩膜基板10的折射率为1.5,第一透明材料层3的折射率为1.8-1.9,第三透明材料层6的折射率可以为1.6-1.7,第三透明材料层6的材料可以为聚氨酯系列树脂或者引进硫、磷原子的丙烯酸树脂,通过调整硫、磷原子的比例使第三透明材料层6的折射率在1.6-1.7之间。本申请实施例彩膜结构的第三透明材料层6能够避免第一透明材料层3与彩膜基板10较大的折射率差异所引起的波导损失。
在示例性实施方式中,第三透明材料层6的折射率大于第二透明材料层4的折射率。当彩膜结构的出射光线经过第一反射界面5时也会发生反射现象,该反射光线就会到达第三透明材料层6与第二透明材料层4的交界面,从而在第三透明材料层6与第二透明材料层4的交界面发生反射,增加光取出效率。
图3为本申请实施例彩膜结构的剖视图二。如图3所示,本申请实施例彩膜结构还包括聚光层7,聚光层7位于减反层20远离彩膜基板10一侧,聚光层7包括第四透明材料层701和第五透明材料层702,第四透明材料层701至少部分覆盖彩膜层1。在平行于彩膜结构的方向上,第四透明材料层701和第五透明材料层702交替排列,第四透明材料层701的侧壁与第五透明材料层702的侧壁至少部分连接,且第四透明材料层701的折射率大于第五透明材料层702的折射率,第四透明材料层701的侧壁与第五透明材料层702的侧壁的交界形成第二反射界面8,第二反射界面8配置为将入射第四透明材料层701靠近彩膜基板10一侧的至少部分光线汇聚至第四透明材料层701远离彩膜基板10一侧,从而改变出射光线的的出射角度,也可以有效地避免出射光线在大视角时的波导损失以及在第一反射界面5上反射损失。其中,出射光线是指透过彩膜结构射出的显示光线。
在示例性实施方式中,第四透明材料层701的材料可以与第一透明材料层3的材料相同;第五透明材料层702的材料可以与第二透明材料层4的材料相同。
在示例性实施方式中,第四透明材料层701至少部分与第一透明材料层3相连,第四透明材料层701的折射率与第一透明材料层3的折射率相同,第四透明材料层701至少部分覆盖第一界面501,使外界光线能够透过第四透明材料层701照射至第一界面501,同时出射光线能够透过第四透明材料层701与第一透明材料层3的交界射出。
本申请实施例还提供了一种彩膜结构的制备方法,包括:
形成彩膜基板,所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵;
在所述彩膜基板的出光侧形成第一透明材料层和第二透明材料层,所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率,所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面,所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵。
其中,在所述彩膜基板的出光侧形成第一透明材料层和第二透明材料层,包括:
在所述彩膜基板的出光侧形成至少两个第一子材料层,相邻所述第一子材料层之间形成第一槽体;
在所述第一槽体中形成第一透明材料层;所述第一透明材料层的至少部分与所述第一子材料层相连,所述第一透明材料层与所述第一子材料层的交界形成第一界面;
在所述第一透明材料层中形成第二槽体,在所述第二槽体中形成第二子材料层,所述第一透明材料层的至少部分与所述第二子材料层相连,所述第一透明材料层与所述第二子材料层的交界形成第二界面;所述第一界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述第二界面,所述第二界面配置为将入射所述第二界面的至少部分光线反射至所述黑矩阵;
其中,所述第一子材料层和所述第二子材料层形成所述第二透明材料层,所述第一界面和所述第一界面形成所述第一反射界面。
图4至图9为本申请实施例彩膜结构的制备过程示意图。
本申请实施例彩膜结构的制备方法,包括:
(1)形成彩膜基板。制备彩膜基板包括:在显示基板30的封装层上形成彩膜基板10,该彩膜基板10包括彩膜层1以及位于彩膜层1周围的黑矩阵2,如图4所示。
(2)形成第三透明材料层。形成第三透明材料层包括:在彩膜基板10的出光侧通过喷墨打印工艺形成第三透明材料层6。其中,第三透明材料层6的折射率可以为1.6-1.7,第三透明材料层6的厚度可以为2-3um。形成第三透明材料层的过程中不需要进行图案化设计,因此在加工时不需要曝光即可完成,如图4所示。
(3)形成第一子材料层。形成第一子材料层包括:通过光刻工艺,在第三透明材料层6远离彩膜基板10一侧形成第一子材料层401,第一子材料层401至少部分覆盖彩膜层1;第一子材料层401的截面为正三角形,第一子材料层401在第三透明材料层6上间隔排列,相邻第一子材料层401之间形成第一槽体11。其中,第一子材料层401的折射率为1.3-1.4,第一子材料层401的厚度为15-20um。光刻工艺加工精度高,通过调整曝光时间,使第一子材料层401上下的曝光程度不同,然后通过洗胶,形成截面为正三角形的第一子材料层401,如图5所示。此外,可以使用激光工艺辅助加工来降低第一子材料层401中两侧边的粗糙度,增强两侧边的反射效果。激光工艺方法为:采用激光光斑直径为2-3um,激光入射方向与第一子材料层401中两侧边平行,例如,激光采用45°方向入射。激光光斑直径为2-3um,能量密度大,有利于达到第一子材料层401的烧蚀阈值而不会影响第三透明材料层6的材料;同时也会提高加工精度。
(4)形成第一透明材料层。形成第一透明材料层包括:通过喷墨打印工艺,在第一子材料层401之间的第一槽体11中形成第一透明材料层3,如图6所示。其中,第一透明材料层3的折射率为1.8-1.9,第一透明材料层3的厚度为17-22um。形成第一透明材料层3的过程中不需要进行图案化设计,因此在加工时不需要曝光即可完成。在形成第一透明材料层3过程中,需要调整第一透明材料层3材料的粘度,增加其流动性,从而在第一子材料层401之间的第一槽体11中达到填覆效果。
(5)形成第二槽体。形成第二槽体包括:通过激光加工将第一透明材料层3中形成第二槽体12,第二槽体12至少部分覆盖黑矩阵2,如图7所示。其中,第二槽体12的截面为倒三角形。形成第二槽体过程中,利用激光能量在光斑平面上分布的不均匀性的特点,即光斑的中心区域能量比较高,在光斑的边缘部分能量较低的特点,使得光斑的中心区域刻蚀深度大,光斑边缘区域刻蚀深度小,即可形成倒三角形的第二槽体12。此外,还可以使用激光光束整形器对于激光的能量分布进行整形,可以将高斯型能量分布光束整形为类三角形的能量分布,以此提高第二槽体12的加工精度。具体加工方法为:首先将激光光斑直径调整到20um,使用振镜加工的方式进行加工。首先将光斑定位到第二槽体12的位置,然后调整激光能量,是激光功率密度略高于第一透明材料层3的烧蚀阈值,增大重复频率,连续扫描即可完成第二槽体12的加工。
(6)形成第二子材料层。形成第二子材料层包括:通过喷墨打印工艺,在第二槽体12中形成第二子材料层402,如图8所示。第二子材料层402的折射率为1.3-1.4,第二子材料层402的厚度与第一透明材料层3的厚度相同,第二子材料层402的厚度为17-22um。其中,第一子材料层401和第二子材料层402形成第二透明材料层4。
(7)形成第四透明材料层。形成第四透明材料层包括:通过光刻工艺,在第一透明材料层3上形成第四透明材料层701,相邻第四透明材料层701之间形成第三槽体13,第三槽体13与第二子材料层402一一对应,如图9所示。其中,第四透明材料层701的折射率为1.8-1.9,第四透明材料层701的厚度为17-22um。
(8)形成第五透明材料层。形成第五透明材料层包括:在第三槽体13中形成第五透明材料层702,如图3所示。其中,第五透明材料层702的折射率为1.3-1.4,第五透明材料层702的厚度与第四透明材料层701相同,第五透明材料层702的厚度为17-22um。第四透明材料层701和第五透明材料层702形成聚光层7。
本申请实施例彩膜结构的制备方法采用的光刻工艺以及激光辅助加工的方法。光刻工艺主要用于第三透明材料层6、第一透明材料层3、第四透明材料层701、第五透明材料层702的图案化加工。此外第一子材料层401也可以通过光刻工艺实现图案化,当光刻工艺无法满足精度要求时,就需要使用激光辅助加工,提高第一子材料层401的加工精度。第二子材料层402的加工就需要使用激光刻蚀的方法刻蚀出第二子材料层402的图案。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括前面任一所述的量子点发光器件。该显示装置包括手机、平板电脑、智能穿戴产品(例如智能手表、手环等)、个人数字助理(personal digital assistant,PDA)、车载电脑等。本申请实施例对上述可折叠显示装置的具体形式不做特殊限制
本公开中的附图只涉及本公开涉及到的结构,其他结构可参考通常设计。在不冲突的情况下,本公开的实施例即实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
本领域的普通技术人员应当理解,可以对本公开的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本公开技术方案的精神和范围,均应涵盖在本公开的权利要求的范围当中。
Claims (18)
1.一种彩膜结构,其特征在于,包括彩膜基板以及设置于所述彩膜基板出光侧的减反层,所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵,所述减反层包括第一透明材料层和第二透明材料层,所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率,所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面,所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵。
2.根据权利要求1所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一透明材料层包括远离所述彩膜基板一侧的第一表面以及靠近所述彩膜基板一侧的第二表面,所述第一表面至少部分覆盖所述彩膜层,所述第二表面至少部分覆盖所述黑矩阵。
3.根据权利要求2所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一反射界面包括相对设置的第一界面和第二界面,所述第一界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述第二界面,所述第二界面配置为将入射所述第二界面的至少部分光线反射至所述黑矩阵。
4.根据权利要求3所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一界面至少部分覆盖所述彩膜层,且所述第一界面至少部分位于所述第一表面与所述彩膜层之间。
5.根据权利要求3所述的彩膜结构,其特征在于,所述第二界面至少部分覆盖所述第二表面和所述黑矩阵。
6.根据权利要求3所述的彩膜结构,其特征在于,所述第二透明材料层包括第一子材料层和第二子材料层,所述第一透明材料层位于所述第一子材料层和所述第二子材料层之间,所述第一透明材料层与所述第一子材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第一子材料层的交界形成所述第一界面,所述第一透明材料层与所述第二子材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二子材料层的交界形成所述第二界面。
7.根据权利要求6所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面倾斜设置;和/或,所述第二界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面倾斜设置。
8.根据权利要求7所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面形成的倾斜角度为43°-45°;和/或,所述第二界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面形成的倾斜角度为43°-45°。
9.根据权利要求6所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一子材料层的截面为正三角形或正梯形;和/或,所述第二子材料层的截面为倒三角形或倒梯形。
10.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一透明材料层的折射率为1.8-1.9,所述第二透明材料层的折射率为1.3-1.4。
11.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一透明材料层的材料包括引进硫、磷原子的丙烯酸树脂材料、环氧树脂、环硫树脂、烯烃类树脂好和聚氨酯树脂中的至少一种。
12.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,所述第二透明材料层的材料为硅氧烷树脂或全氟乙烯树脂。
13.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,还包括第三透明材料层,所述第三透明材料层位于所述减反层与所述彩膜基板之间,所述第三透明材料层的折射率大于所述彩膜基板的折射率,小于所述第一透明材料层的折射率。
14.根据权利要求13所述的彩膜结构,其特征在于,所述第三透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率。
15.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,还包括聚光层,所述聚光层位于所述减反层远离所述彩膜基板一侧,所述聚光层包括第四透明材料层和第五透明材料层,所述第四透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第四透明材料层与所述第五透明材料层至少部分相连,且所述第四透明材料层的折射率大于所述第五透明材料层的折射率,所述第四透明材料层与所述第五透明材料层的交界形成第二反射界面,所述第二反射界面配置为将入射所述第四透明材料层靠近所述彩膜基板一侧的至少部分光线汇聚至所述第四透明材料层远离所述彩膜基板一侧。
16.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至15任一所述的彩膜结构。
17.一种彩膜结构的制备方法,其特征在于,包括:
形成彩膜基板,所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵;
在所述彩膜基板的出光侧形成第一透明材料层和第二透明材料层,所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率,所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面,所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵。
18.根据权利要求17所述的彩膜结构的制备方法,其特征在于,在所述彩膜基板的出光侧形成第一透明材料层和第二透明材料层,包括:
在所述彩膜基板的出光侧形成至少两个第一子材料层,相邻所述第一子材料层之间形成第一槽体;
在所述第一槽体中形成第一透明材料层;所述第一透明材料层的至少部分与所述第一子材料层相连,所述第一透明材料层与所述第一子材料层的交界形成第一界面;
在所述第一透明材料层中形成第二槽体,在所述第二槽体中形成第二子材料层,所述第一透明材料层的至少部分与所述第二子材料层相连,所述第一透明材料层与所述第二子材料层的交界形成第二界面;所述第一界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述第二界面,所述第二界面配置为将入射所述第二界面的至少部分光线反射至所述黑矩阵;
其中,所述第一子材料层和所述第二子材料层形成所述第二透明材料层,所述第一界面和所述第一界面形成所述第一反射界面。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111051880.1A CN113764494B (zh) | 2021-09-08 | 2021-09-08 | 一种彩膜结构及其制备方法、显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111051880.1A CN113764494B (zh) | 2021-09-08 | 2021-09-08 | 一种彩膜结构及其制备方法、显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113764494A true CN113764494A (zh) | 2021-12-07 |
CN113764494B CN113764494B (zh) | 2024-04-09 |
Family
ID=78794105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202111051880.1A Active CN113764494B (zh) | 2021-09-08 | 2021-09-08 | 一种彩膜结构及其制备方法、显示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113764494B (zh) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040201798A1 (en) * | 2003-04-09 | 2004-10-14 | Sheng-Shiou Yeh | Method for manufacturing color filter having low reflection and liquid crystal display device incorporating same |
WO2011030374A1 (ja) * | 2009-09-09 | 2011-03-17 | パナソニック株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
WO2013065178A1 (ja) * | 2011-11-04 | 2013-05-10 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
CN104112764A (zh) * | 2014-07-02 | 2014-10-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种amoled显示面板及其制备方法和显示装置 |
CN104656380A (zh) * | 2015-03-13 | 2015-05-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种曝光装置和光路控制装置 |
US20160178812A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | Industrial Technology Research Institute | Optical film and display assembly applying the same |
US20180053918A1 (en) * | 2016-08-19 | 2018-02-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same |
CN109742108A (zh) * | 2019-01-03 | 2019-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 |
CN111610661A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-09-01 | 上海天马微电子有限公司 | 一种显示装置及其制备方法 |
-
2021
- 2021-09-08 CN CN202111051880.1A patent/CN113764494B/zh active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040201798A1 (en) * | 2003-04-09 | 2004-10-14 | Sheng-Shiou Yeh | Method for manufacturing color filter having low reflection and liquid crystal display device incorporating same |
WO2011030374A1 (ja) * | 2009-09-09 | 2011-03-17 | パナソニック株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
WO2013065178A1 (ja) * | 2011-11-04 | 2013-05-10 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
CN104112764A (zh) * | 2014-07-02 | 2014-10-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种amoled显示面板及其制备方法和显示装置 |
US20160178812A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | Industrial Technology Research Institute | Optical film and display assembly applying the same |
CN104656380A (zh) * | 2015-03-13 | 2015-05-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种曝光装置和光路控制装置 |
US20180053918A1 (en) * | 2016-08-19 | 2018-02-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same |
CN109742108A (zh) * | 2019-01-03 | 2019-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 |
CN111610661A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-09-01 | 上海天马微电子有限公司 | 一种显示装置及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113764494B (zh) | 2024-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11194099B2 (en) | Silicon-based optical antenna with reflective layer and preparation method therefor | |
CN110335883B (zh) | 显示面板及显示装置 | |
US7428367B2 (en) | Light control devices and methods of making same | |
US20180203299A1 (en) | Backlight module, display panel and display device | |
US20230251404A1 (en) | Texture image acquiring device, display device, and collimator | |
US20230137477A1 (en) | Light guide plate, backlight module, and liquid crystal display module | |
CN109765728B (zh) | 量子点彩膜及其制备方法、显示面板、显示装置 | |
US10818695B2 (en) | Anti-reflective substrate and method for preparing the same, array substrate and display device | |
CN109935726A (zh) | 有机发光显示面板、其制造方法及显示装置 | |
CN113809064B (zh) | 显示面板、显示装置和光场显示装置 | |
US10788614B2 (en) | Optical module and display device | |
US7955465B2 (en) | Display element and method of manufacturing display element | |
CN114994814A (zh) | 偏光散射膜及其制作方法、显示面板 | |
CN110632786A (zh) | 显示面板及显示装置 | |
CN111933626B (zh) | 柔性mini-LED背光灯板及其柔性电子设备 | |
CN113764494B (zh) | 一种彩膜结构及其制备方法、显示装置 | |
WO2020211534A1 (zh) | 移动终端、盖板、显示组件 | |
CN216793711U (zh) | 一种倒装led芯片及显示装置 | |
US20230200189A1 (en) | Display panel and display device | |
CN116266031A (zh) | 投影膜及其制备方法、投影显示组件 | |
CN114171650A (zh) | 一种倒装led芯片、倒装led芯片制作方法及显示装置 | |
CN111667761B (zh) | 显示模组和显示装置 | |
EP2966491A1 (en) | Lens assembly, optoelectronic package and method of producing an optoelectronic package with lens assembly | |
CN114624917B (zh) | 彩膜基板、显示面板及显示装置 | |
CN110888255A (zh) | 显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |