CN113713588B - 一种注入式等离子废气处理装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种注入式等离子废气处理装置，涉及等离子/废气处理装置领域。本发明中：废气处理装置内分为中和反应腔、中间缓冲腔、隔断处理腔以及离子废气混合腔；废气处理装置内设置有内位隔离层板；废气处理装置的中和反应腔的底部设置有位于内位隔离层板外围的一段隔离板；一段隔离板上设置有自调节进气体；废气处理装置的下部设有气体隔断处理机构；隔断处理腔位于气体隔断处理机构内部；等离子真空注入管道的端侧位于废气处理装置的离子废气混合腔内。本发明使得废气的初步处理、反应物的析出以及气体的传导、处理更加高效，便于离子废气混合腔对预热后的气体进行高效分子改性，提升工业废气的最终处理效果。
Description
技术领域
本发明涉及等离子/废气处理装置领域，尤其涉及一种注入式等离子废气处理装置。
背景技术
如今，采用等离子处理有机废气的企业越来越多，比如用来处理喷塑烘干产生的废气、橡胶挤压时产生的废气等。在对废气进行等离子处理前，工业生产所产生的废气中存在许多不同种类的废气物质，不同种类的废气同时进行相同状态的等离子处理，产生的物质也不并相同。尤其是一些酸碱性较强的废气，直接进行等离子处理，产生的物质中也存在一定的酸碱性，对工业产生的废气进行初步的处理后，对成分种类较少的废气进行等离子处理，能够有效提升工业废气的处理效果。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种注入式等离子废气处理装置，从而使得废气的初步处理、反应物的析出以及气体的传导、处理更加高效，便于离子废气混合腔对预热后的气体进行高效分子改性，提升工业废气的最终处理效果。
为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：
本发明提供一种注入式等离子废气处理装置，包括等离子发生器，等离子发生器的一侧连接有用于定向输出等离子体的等离子真空注入管道；等离子真空注入管道的一端连接有废气处理装置；废气处理装置内分为中和反应腔、中间缓冲腔、隔断处理腔以及离子废气混合腔；废气处理装置内设置有内位隔离层板；废气处理装置的中和反应腔的底部设置有位于内位隔离层板外围的一段隔离板；一段隔离板上设置有自调节进气体；废气处理装置的中间缓冲腔位于自调节进气体的下方；废气处理装置的中间缓冲腔位于内位隔离层板的外侧；废气处理装置的离子废气混合腔位于内位隔离层板的内侧。
包括与废气处理装置的中和反应腔相连通的废气注入管道；包括与废气处理装置的中和反应腔相连通的中和反应气体注入管道；自调节进气体上开设有外位进气通道、活动导气内腔以及内位进气通道；活动导气内腔内设置有活动调节的导气活塞。
废气处理装置的下部设有气体隔断处理机构；隔断处理腔位于气体隔断处理机构内部；气体隔断处理机构的上部开设有与中间缓冲腔相连通的第二入气通道；气体隔断处理机构上密封安装有第二动力装置；第二动力装置的输出端连接有第二伸缩连杆；第二伸缩连杆的端侧安装有与第二入气通道相配合的第二端侧活塞；气体隔断处理机构的下部开设有与离子废气混合腔相连通的第二出气通道；气体隔断处理机构上密封安装有第三动力装置；第三动力装置的输出端连接有第三伸缩连杆；第三伸缩连杆的端侧安装有与第二出气通道相配合的第三端侧活塞。
等离子真空注入管道的端侧位于废气处理装置的离子废气混合腔内；废气处理装置的离子废气混合腔内设置有气压传感装置；废气处理装置上连接有与离子废气混合腔相连通的排气管道。
作为本发明的一种优选技术方案，等离子真空注入管道上安装有真空定向注入装置。
作为本发明的一种优选技术方案，废气处理装置的中和反应腔内设置有用于给废气与中和反应气体加热的一级加热装置；废气处理装置的中和反应腔内设置有第一温度传感器。
作为本发明的一种优选技术方案，导气活塞的环侧面上设置有密封环圈；导气活塞的底侧面上连接有若干活动穿过自调节进气体一侧的第一活动导杆；第一活动导杆上设有位于活动导气内腔内的第一内侧挡环；第一活动导杆的外端侧设有第一外侧挡环；第一活动导杆上套设有用于支撑调节导气活塞的内位调节弹簧。
作为本发明的一种优选技术方案，气体隔断处理机构的第二入气通道的内端口开设有与第二端侧活塞相配合的第二入气锥口；气体隔断处理机构的第二出气通道的外端口开设有与第三端侧活塞相配合的第三锥形出口。
作为本发明的一种优选技术方案，气体隔断处理机构上设置有用于加热待进入离子废气混合腔内的内位预热装置；气体隔断处理机构的隔断处理腔内设置有第二温度传感器。
作为本发明的一种优选技术方案，等离子真空注入管道上设置有电子控制阀；等离子真空注入管道的端侧设有若干等间隔分布的斜向出口；废气处理装置上密封安装有用于加速离子废气混合腔内气体运动的内位混搅装置。
与现有的技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明通过将废气与中和气体充入中和反应腔，进行反应后，进入中间缓冲腔进行冷却析出，并在气体隔断处理机构内的隔断处理腔进行隔断气体存储，在离子废气混合腔需要注入气体时，快速的进行预热供给，保证了各个腔体内的气体反应、存储的独立性，同时也能够保证气体流动性，使得废气的初步处理、反应物的析出以及气体的传导、处理更加高效；
2、本发明在气体隔断处理机构内设置内位预热装置，并通过上部的第二端侧活塞、下部的第三端侧活塞进行气体导通配合，便于离子废气混合腔对预热后的气体进行高效分子改性，提升工业废气的最终处理效果。
附图说明
图1为本发明的整体装置结构示意图；
图2为图1中A处局部放大的结构示意图；
图3为图2中B处局部放大的结构示意图；
图4为本发明中气体隔断处理机构的结构示意图；
其中：1-等离子发生器；2-等离子驱动电源；3-等离子真空注入管道；4-真空定向注入装置；5-废气处理装置；6-中和反应腔；7-中间缓冲腔；8-离子废气混合腔；9-废气注入管道；10-中和反应气体注入管道；11-一段隔离板；12-自调节进气体；13-内位隔离层板；14-气体隔断处理机构；15-隔断处理腔；16-外位进气通道；17-活动导气内腔；18-内位进气通道；19-导气活塞；20-密封环圈；21-第一活动导杆；22-第一内侧挡环；23-第一外侧挡环；24-内位调节弹簧；25-第二入气通道；26-第二入气锥口；27-第二动力装置；28-第二伸缩连杆；29-第二端侧活塞；30-第二出气通道；31-第三动力装置；32-第三伸缩连杆；33-第三锥形出口；34-第三端侧活塞；35-安装密封垫板；36-电子控制阀；37-斜向出口；38-气压传感装置；39-一级加热装置；40-内位预热装置；41-内位混搅装置；42-排气管道；43-排气泵；44-第一温度传感器；45-第二温度传感器；46-底部外输管道。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明为一种注入式等离子废气处理装置，包括等离子发生器1，等离子发生器1的一侧连接有用于定向输出等离子体的等离子真空注入管道3；等离子真空注入管道3的一端连接有废气处理装置5；废气处理装置5内分为中和反应腔6、中间缓冲腔7、隔断处理腔15以及离子废气混合腔8；废气处理装置5内设置有内位隔离层板13；废气处理装置5的中和反应腔6的底部设置有位于内位隔离层板13外围的一段隔离板11；一段隔离板11上设置有自调节进气体12；废气处理装置5的中间缓冲腔7位于自调节进气体12的下方；废气处理装置5的中间缓冲腔7位于内位隔离层板13的外侧；废气处理装置5的离子废气混合腔8位于内位隔离层板13的内侧。
包括与废气处理装置5的中和反应腔6相连通的废气注入管道9；包括与废气处理装置5的中和反应腔6相连通的中和反应气体注入管道10；自调节进气体12上开设有外位进气通道16、活动导气内腔17以及内位进气通道18；活动导气内腔17内设置有活动调节的导气活塞19。
废气处理装置5的下部设有气体隔断处理机构14；隔断处理腔15位于气体隔断处理机构14内部；气体隔断处理机构14的上部开设有与中间缓冲腔7相连通的第二入气通道25；气体隔断处理机构14上密封安装有第二动力装置27；第二动力装置27的输出端连接有第二伸缩连杆28；第二伸缩连杆28的端侧安装有与第二入气通道25相配合的第二端侧活塞29；气体隔断处理机构14的下部开设有与离子废气混合腔8相连通的第二出气通道30；气体隔断处理机构14上密封安装有第三动力装置31；第三动力装置31的输出端连接有第三伸缩连杆32；第三伸缩连杆32的端侧安装有与第二出气通道30相配合的第三端侧活塞34。
等离子真空注入管道3的端侧位于废气处理装置5的离子废气混合腔8内；废气处理装置5的离子废气混合腔8内设置有气压传感装置38；废气处理装置5上连接有与离子废气混合腔8相连通的排气管道42。
进一步的，等离子真空注入管道3上安装有真空定向注入装置4。
进一步的，废气处理装置5的中和反应腔6内设置有用于给废气与中和反应气体加热的一级加热装置39；废气处理装置5的中和反应腔6内设置有第一温度传感器44。
进一步的，导气活塞19的环侧面上设置有密封环圈20；导气活塞19的底侧面上连接有若干活动穿过自调节进气体12一侧的第一活动导杆21；第一活动导杆21上设有位于活动导气内腔17内的第一内侧挡环22；第一活动导杆21的外端侧设有第一外侧挡环23；第一活动导杆21上套设有用于支撑调节导气活塞19的内位调节弹簧24。
进一步的，气体隔断处理机构14的第二入气通道25的内端口开设有与第二端侧活塞29相配合的第二入气锥口26；气体隔断处理机构14的第二出气通道30的外端口开设有与第三端侧活塞34相配合的第三锥形出口33。
进一步的，气体隔断处理机构14上设置有用于加热待进入离子废气混合腔8内的内位预热装置40；气体隔断处理机构14的隔断处理腔15内设置有第二温度传感器45。
进一步的，等离子真空注入管道3上设置有电子控制阀36；等离子真空注入管道3的端侧设有若干等间隔分布的斜向出口37；废气处理装置5上密封安装有用于加速离子废气混合腔8内气体运动的内位混搅装置41。
在本发明中，工业生产所产生的废气经过粉尘、水分等过滤装置，将废气中的杂质颗粒、大量凝结水汽进行过滤，然后经过传输泵将初步处理后的废气传输至废气注入管道9，进入废气处理装置5内的中和反应腔6，中和反应气体注入管道10注入适量的与废气初步反应的中和气体，并采用一级加热装置39进行加热辅助；随着废气、中和气体的持续输入至中和反应腔6，中和反应腔6内气体初步反应的同时，气压也逐渐增大，对自调节进气体12造成气压驱动，导气活塞19活动打开气流导通通道，初步反应后的气体进入中间缓冲腔7，初步反应后的气体在中间缓冲腔7逐渐冷却，初步反应所产生的水分、气化物逐渐析出，落入中间缓冲腔7的底部[长期使用后，可在未使用时通过底部外输管道46进行析出物的排出，底部外输管道46上同样设置有密封阀门机构，保证腔体在运作状态时的密封性]。
初步反应、冷却的废气经过中间缓冲腔7后，气体隔断处理机构14上的第二端侧活塞29打开[打开前隔断处理腔15内的气压较低]，中间缓冲腔7内气体进入隔断处理腔15，间隔数秒后，第二端侧活塞29重新封堵第二入气通道25，中间缓冲腔7内的气压降低，隔断处理腔15内的气压升高；中和反应腔6内的反应气体气压较高，并从自调节进气体12进入中间缓冲腔7内。
离子废气混合腔8内设置气压传感装置38，监测当前离子废气混合腔8内的气压，在离子废气混合腔8内气压很低时，内位预热装置40对隔断处理腔15内的气体进行预热若干秒，然后气体隔断处理机构14底部的第三端侧活塞34打开，经过预热后的气体进入离子废气混合腔8，等离子发生器1产生的等离子体经过等离子真空注入管道3快速的进入离子废气混合腔8，与预热后的气体进行混合，并采用内位混搅装置41、旋转叶加速混合，对经过初步处理的废气气体进行混合反应，打断分子链，生成二氧化碳、水以及其他小物质分子，并通过上部的排气管道42有效抽离。
另外，为了密切监测各个腔体内的气压变化，可在中和反应腔6、中间缓冲腔7、隔断处理腔15内也设置气压传感器。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种注入式等离子废气处理装置，其特征在于：
包括等离子发生器(1)，所述等离子发生器(1)的一侧连接有用于定向输出等离子体的等离子真空注入管道(3)；
所述等离子真空注入管道(3)的一端连接有废气处理装置(5)；
所述废气处理装置(5)内分为中和反应腔(6)、中间缓冲腔(7)、隔断处理腔(15)以及离子废气混合腔(8)；
所述废气处理装置(5)内设置有内位隔离层板(13)；
所述废气处理装置(5)的中和反应腔(6)的底部设置有位于内位隔离层板(13)外围的一段隔离板(11)；
所述一段隔离板(11)上设置有自调节进气体(12)；
所述废气处理装置(5)的中间缓冲腔(7)位于自调节进气体(12)的下方；
所述废气处理装置(5)的中间缓冲腔(7)位于内位隔离层板(13)的外侧；
所述废气处理装置(5)的离子废气混合腔(8)位于内位隔离层板(13)的内侧；
包括与废气处理装置(5)的中和反应腔(6)相连通的废气注入管道(9)；
包括与废气处理装置(5)的中和反应腔(6)相连通的中和反应气体注入管道(10)；
所述自调节进气体(12)上开设有外位进气通道(16)、活动导气内腔(17)以及内位进气通道(18)；
所述活动导气内腔(17)内设置有活动调节的导气活塞(19)；
所述废气处理装置(5)的下部设有气体隔断处理机构(14)；
所述隔断处理腔(15)位于气体隔断处理机构(14)内部；
所述气体隔断处理机构(14)的上部开设有与中间缓冲腔(7)相连通的第二入气通道(25)；
所述气体隔断处理机构(14)上密封安装有第二动力装置(27)；
所述第二动力装置(27)的输出端连接有第二伸缩连杆(28)；
所述第二伸缩连杆(28)的端侧安装有与第二入气通道(25)相配合的第二端侧活塞(29)；
所述气体隔断处理机构(14)的下部开设有与离子废气混合腔(8)相连通的第二出气通道(30)；
所述气体隔断处理机构(14)上密封安装有第三动力装置(31)；
所述第三动力装置(31)的输出端连接有第三伸缩连杆(32)；
所述第三伸缩连杆(32)的端侧安装有与第二出气通道(30)相配合的第三端侧活塞(34)；
所述等离子真空注入管道(3)的端侧位于废气处理装置(5)的离子废气混合腔(8)内；
所述废气处理装置(5)的离子废气混合腔(8)内设置有气压传感装置(38)；
所述废气处理装置(5)上连接有与离子废气混合腔(8)相连通的排气管道(42)；
所述气体隔断处理机构(14)上设置有用于加热待进入离子废气混合腔(8)内的内位预热装置(40)；
所述气体隔断处理机构(14)的隔断处理腔(15)内设置有第二温度传感器(45)。
2.根据权利要求1所述的一种注入式等离子废气处理装置，其特征在于：
等离子真空注入管道(3)上安装有真空定向注入装置(4)。
3.根据权利要求1所述的一种注入式等离子废气处理装置，其特征在于：
所述废气处理装置(5)的中和反应腔(6)内设置有用于给废气与中和反应气体加热的一级加热装置(39)；
所述废气处理装置(5)的中和反应腔(6)内设置有第一温度传感器(44)。
4.根据权利要求1所述的一种注入式等离子废气处理装置，其特征在于：
所述导气活塞(19)的环侧面上设置有密封环圈(20)；
所述导气活塞(19)的底侧面上连接有若干活动穿过自调节进气体(12)一侧的第一活动导杆(21)；
所述第一活动导杆(21)上设有位于活动导气内腔(17)内的第一内侧挡环(22)；
所述第一活动导杆(21)的外端侧设有第一外侧挡环(23)；
所述第一活动导杆(21)上套设有用于支撑调节导气活塞(19)的内位调节弹簧(24)。
5.根据权利要求1所述的一种注入式等离子废气处理装置，其特征在于：
所述气体隔断处理机构(14)的第二入气通道(25)的内端口开设有与第二端侧活塞(29)相配合的第二入气锥口(26)；
所述气体隔断处理机构(14)的第二出气通道(30)的外端口开设有与第三端侧活塞(34)相配合的第三锥形出口(33)。
6.根据权利要求1所述的一种注入式等离子废气处理装置，其特征在于：
所述等离子真空注入管道(3)上设置有电子控制阀(36)；
所述等离子真空注入管道(3)的端侧设有若干等间隔分布的斜向出口(37)；
所述废气处理装置(5)上密封安装有用于加速离子废气混合腔(8)内气体运动的内位混搅装置(41)。
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