CN113699501B - 蒸镀监控方法及装置、存储介质、电子设备 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 307
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 96
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 258
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 255
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 51
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 18
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 claims description 10
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 28
- 238000012797 qualification Methods 0.000 abstract description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 36
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 3
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/546—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using crystal oscillators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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Abstract
本公开属于计算机技术领域,涉及一种蒸镀监控方法及装置、存储介质、电子设备。该方法包括:按照预设时间间隔获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,并对第一蒸镀频率和第二蒸镀频率进行计算得到蒸镀频率差值,其中,第一蒸镀频率和第二蒸镀频率为蒸镀源材料受热蒸镀至石英水晶片的频率;根据蒸镀频率差值,确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,若时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号。在本公开中,确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,并在时间大于时间阈值时,生成表示蒸镀异常的告警信号,在蒸镀过程中,建立了对系统信号异常时蒸镀频率监控的机制,进而可以及时的发现蒸镀过程中的问题,提高了产品的品质以及合格率。
Description
技术领域
本公开涉及计算机技术领域,尤其涉及一种蒸镀监控方法与蒸镀监控装置、计算机可读存储介质及电子设备。
背景技术
在对蒸镀源材料加热蒸镀的过程中,为了确保产品的品质以及合格率,需要在产品的生产过程中,保证石英水晶片的震动频率一直处于正常状态。
在相关技术中,通常是在使用石英水晶片之前,对石英水晶片的初始频率进行检查,以确保产品的生产过程中,石英水晶片的频率信号一直处于正常状态,然而,在产品的实际生产过程中,由于信号传输异常导致石英水晶片的监控频率不再处于正常状态,但产品的生产仍然照常进行的现象发生,不仅提高了不必要的性能损耗,而且还降低了产品的品质以及合格率。
鉴于此,本领域亟需开发一种新的蒸镀监控方法及装置。
需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开的目的在于提供一种蒸镀监控方法、蒸镀监控装置、计算机可读存储介质及电子设备,进而至少在一定程度上克服由于相关技术导致的产品品质以及合格率低的问题。
本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本公开的实践而习得。
根据本发明实施例的第一个方面,提供了一种蒸镀监控方法,所述方法包括:按照预设时间间隔获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,并对所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率进行计算得到蒸镀频率差值,其中,所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率为蒸镀源材料受热蒸镀至石英水晶片的频率;根据所述蒸镀频率差值,确定所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的时间,若所述时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号。
在本发明的一种示例性实施例中,所述根据所述蒸镀频率差值,确定所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的时间,包括:若所述蒸镀频率差值满足于差值条件,确定所述预设时间间隔为所述第一蒸镀频率和所述第蒸镀二频率相等的时间;若所述蒸镀频率差值不满足于所述差值条件,清空所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间或维持所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间不变。
在本发明的一种示例性实施例中,所述方法还包括:若所述时间小于或等于所述时间阈值,确定下一个所述预设时间时间间隔内的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率;对所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率进行计算,以更新所述蒸镀频率差值;若更新后的所述蒸镀频率差值满足所述差值条件,在所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间的基础上累加所述预设时间间隔,以更新所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间;若所述蒸镀频率差值不满足于所述差值条件,清空所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间或维持所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间不变;以此循环,直至所述蒸镀源材料不再受热。
在本发明的一种示例性实施例中,所述生成用于表示蒸镀异常的告警信号之后,所述方法还包括:将所述告警信号发送至目标终端,并生成暂停信号;其中,所述暂停信号用于暂停对产品的生产,所述产品的生产与所述蒸镀源材料的加热相关;接收所述目标终端发送的调整参数,以根据所述调整参数重新启动对所述产品的生产。
在本发明的一种示例性实施例中,所述方法还包括:若所述时间小于或等于所述时间阈值,生成用于表示蒸镀正常的提示信号,以将所述提示信号发送至目标终端。
在本发明的一种示例性实施例中,所述方法还包括:按照所述预设时间间隔获取蒸镀活性,并按照所述预设时间间隔获取所述石英水晶片的生命周期,以将所述蒸镀活性以及所述生命周期发送至目标终端。
在本发明的一种示例性实施例中,所述生成用于表示蒸镀异常的告警信号之后,所述方法还包括:生成用于表示所述蒸镀活性错误的的第一错误信号,并生成用于表示所述生命周期错误的第二错误信号,以将所述第一错误信号和所述第二错误信号发送至所述目标终端。
根据本发明实施例的第二个方面,提供一种蒸镀监控装置,所述装置包括:计算模块,被配置为按照预设时间间隔获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,并对所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率进行计算得到蒸镀频率差值,其中,所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率为蒸镀源材料受热蒸镀至石英水晶片的频率;告警模块,被配置为根据所述蒸镀频率差值,确定所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的时间,若所述时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号。
根据本发明实施例的第三个方面,提供一种电子设备,包括:处理器和存储器;其中,存储器上存储有计算机可读指令,所述计算机可读指令被所述处理器执行时实现上述任意示例性实施例的蒸镀监控方法。
根据本发明实施例的第四个方面,提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现上述任意示例性实施例中的蒸镀监控方法。
由上述技术方案可知,本发明示例性实施例中的蒸镀监控方法、蒸镀监控装置、计算机存储介质及电子设备至少具备以下优点和积极效果:
在本公开的示例性实施例提供的方法及装置中,通过确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,并在时间大于时间阈值时,生成表示蒸镀异常的告警信号,在蒸镀过程中,建立了对蒸镀频率监控的机制,进而可以及时的发现蒸镀过程中的问题,不仅避免了不必要的性能损耗,而且提高了产品的品质以及合格率。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本公开。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示意性示出本公开实施例中蒸镀监控方法的流程示意图;
图2示意性示出本公开实施例中蒸镀监控方法中确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间的流程示意图;
图3示意性示出本公开实施例中蒸镀监控方法中计算第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间的流程示意图;
图4示意性示出本公开实施例中蒸镀监控方法中生成用于表示蒸镀异常的告警信号之后的流程示意图;
图5示出了一应用场景下蒸镀监控方法中监控系统的示意图;
图6示出了一应用场景下蒸镀监控方法的流程示意图;
图7示意性示出本公开实施例中一种蒸镀监控装置的结构示意图;
图8示意性示出本公开实施例中一种用于蒸镀监控方法的电子设备;
图9示意性示出本公开实施例中一种用于蒸镀监控方法的计算机可读存储介质。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而,示例实施方式能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的范例;相反,提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整,并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而,本领域技术人员将意识到,可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多,或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下,不详细示出或描述公知技术方案以避免喧宾夺主而使得本公开的各方面变得模糊。
本说明书中使用用语“一个”、“一”、“该”和“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等;用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等;用语“第一”和“第二”等仅作为标记使用,不是对其对象的数量限制。
此外,附图仅为本公开的示意性图解,并非一定是按比例绘制。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分,因而将省略对它们的重复描述。附图中所示的一些方框图是功能实体,不一定必须与物理或逻辑上独立的实体相对应。
针对相关技术中存在的问题,本公开提出了一种蒸镀监控方法。图1示出了蒸镀监控方法的流程示意图,如图1所示,蒸镀监控方法至少包括以下步骤:
步骤S110.按照预设时间间隔获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,并对第一蒸镀频率和第二蒸镀频率进行计算得到蒸镀频率差值,其中,第一蒸镀频率和第二蒸镀频率为蒸镀源材料受热蒸镀至石英水晶片的频率。
步骤S120.根据蒸镀频率差值,确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,若时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号。
在本公开的示例性实施例提供的方法及装置中,通过确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,并在时间大于时间阈值时,生成表示蒸镀异常的告警信号,在蒸镀过程中,建立了对蒸镀频率监控的机制,进而可以及时的发现蒸镀过程中的问题,不仅避免了不必要的性能损耗,而且提高了产品的品质以及合格率。
下面对蒸镀监控方法的各个步骤进行详细说明。
在步骤S110中,按照预设时间间隔获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,并对第一蒸镀频率和第二蒸镀频率进行计算得到蒸镀频率差值,其中,第一蒸镀频率和第二蒸镀频率为蒸镀源材料受热蒸镀至石英水晶片的频率。
在本公开的示例性实施例中,蒸镀指的是一种工艺方法,并且一般指的是真空蒸镀,具体地,蒸镀指的是在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料使之汽化,汽化后的粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法,值得说明的是,本示例性实施例并不限制蒸镀一定是在真空条件下完成的。
基于此,在本公开的示例性实施例中,蒸镀源材料指的是镀膜材料。石英水晶片为蒸镀过程中的基片,具体地,石英水晶片可以利用变电压效应产生一定频率的震动,这种震动与石英水晶片的质量有关,当汽化后的粒子附着在石英水晶片表面时,石英水晶片的质量就会发生改变,进而使得震动的频率发生改变。
预设时间间隔指的是获取蒸镀频率的间隔时间,第一蒸镀频率和第二蒸镀频率为按照预设时间间隔获取到的两个蒸镀频率,蒸镀频率为石英水晶片震动的频率,其与汽化后的粒子附着在石英水晶片上的速度相关。
在获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率之后,需要对第一蒸镀频率和第二蒸镀频率进行计算,以得到蒸镀频率差值,即第一蒸镀频率和第二蒸镀频率之间的差值。
举例而言,为加热器输送电流和电压,此时加热器开始在真空条件下加热蒸镀源材料。蒸镀源材料在受热之后产生汽化的粒子,这些粒子开始附着在石英水晶片上,以使石英水晶片产生震动频率。当石英水晶片开始震动并产生频率后,获取的第一个频率为5.5兆赫,在获取第一个频率之后1秒获取的第二个频率为5.4兆赫,其中,1秒为预设时间间隔,第一个频率即为第一蒸镀频率,第二个频率即为第二蒸镀频率。
在获取第二个频率之后的1秒还会获取第三个频率5.2兆赫,此时与第二个预设时间间隔对应的第一蒸镀频率即为第二个频率,第二蒸镀频率即为第三个蒸镀频率,以此不断的获取频率,直至蒸镀过程暂停或蒸镀过程结束。
在本示例性实施例中,获取的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率是蒸镀过程中产生的频率,这使得后续建立的蒸镀频率监控机制为适用于蒸镀过程中的监控机制,不仅可以在蒸镀过程中更及时的发现蒸镀频率的异常,而且避免了由于蒸镀异常导致的产品品质和合格率低的问题。
在步骤S120中,根据蒸镀频率差值,确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,若时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号。
在本公开的示例性实施例中,若蒸镀频率差值为零或蒸镀频率差值较小,则可以证明在这个预设时间间隔内,蒸镀频率未发生改变。若第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间大于时间阈值,证明在汽化过程中,蒸镀频率保持长时间的不变,显然,此时蒸镀频率已经处于异常状态,进而需要生成表示蒸镀异常的告警信号。
举例而言,与第一个预设时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.4兆赫,此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为1秒,与第二个预设时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.4兆赫,此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为2秒,与第三个预设时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.4兆赫,此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为3秒,直至与第40个预设时间间隔对应的第一蒸镀频率仍未为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.4兆赫,此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为40秒。
由于时间阈值为39秒,因此此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号A。
在可选的实施例中,图2示出了蒸镀监控方法中确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间的流程示意图,如图2所示,该方法至少包括以下步骤:在步骤S210中,若蒸镀频率差值满足于差值条件,确定预设时间间隔为第一蒸镀频率和第蒸镀二频率相等的时间。
其中,差值条件为将预设时间间隔确定为第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间的条件。
举例而言,差值条件为蒸镀差值频率等于0,则当蒸镀频率差值为0时,即蒸镀频率差值满足于差值条件时,确定预设时间间隔1秒为第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间。
举例而言,差值条件为蒸镀频率差值小于或等于0.000002兆赫,则当蒸镀频率差值为0.000002兆赫时,可以认为第一蒸镀频率和第二蒸镀频率之间近似没有变化,则可以认为近似相等,此时也可以确定预设时间间隔1秒为第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间。
在步骤S220中,若蒸镀频率差值不满足于差值条件,清空第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间或维持第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间不变。
其中,若蒸镀频率不满足于差值条件,则认为此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率之间不相等,则维持第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间不变或清空第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间。
举例而言,若与上一个预设时间时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.4兆赫,则确定1秒为第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,然而,在与当前预设时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.3兆赫,显然此时蒸镀频率差值不满足于差值条件,则将第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间清空,即此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为0。
举例而言,若与上一个预设时间时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.3兆赫,显然此时蒸镀频率差值不满足于差值条件,则此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为0,并且,在与当前预设时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.3兆赫,第二蒸镀频率为5.3兆赫,显然此时蒸镀频率差值不满足于差值条件,则维持第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间不变,即此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间仍为0。
在本示例性实施例中,若蒸镀频率差值满足于差值条件,则确定预设时间间隔为第一蒸镀频率和第蒸镀二频率相等的时间,若蒸镀频率差值不满足于差值条件,则维持第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间不变或清空第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,通过上述判断过程,有助于后续将时间与时间阈值比较,以确定是否生成用于表示蒸镀异常的告警信号。
在可选的实施例中,图3示出了蒸镀监控方法中计算第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间的流程示意图,如图3所示,该方法至少包括以下步骤:在步骤S310中,若时间小于或等于时间阈值,确定下一个预设时间时间间隔内的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率。
其中,每次确定出第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间后,都需要将该时间与时间阈值做出对比,若时间小于或等于时间阈值,则需要确定出下一个预设时间间隔内的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,其中,时间阈值是用于决定是否生成用于表示蒸镀异常的告警信号的时间临界值。
举例而言,与当前预设时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.4兆赫,与上一预设时间间隔对应的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.4兆赫,显然,此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为2秒,然而时间阈值为40秒,此时显然第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间小于时间阈值,则继续确定下一个预设时间间隔内的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率。
在步骤S320中,对第一蒸镀频率和第二蒸镀频率进行计算,以更新蒸镀频率差值。
其中,对下一个预设时间间隔内的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率进行计算,以得到新的蒸镀频率差值。
举例而言,下一个预设时间间隔内的第一蒸镀频率为5.4兆赫,第二蒸镀频率为5.4兆赫,则此时更新后的蒸镀频率差值为0。
在步骤S330中,若更新后的蒸镀频率差值满足差值条件,在第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间的基础上累加预设时间间隔,以更新第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间。
其中,若更新后的蒸镀频率差值满足差值条件,则在已确定的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间基础上累计预设时间间隔,以得到更新的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间。
举例而言,差值条件为0,若更新后的蒸镀频率差值等于0,并且此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为3秒,则在3秒的基础上累加预设时间间隔,以得到更新的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为4秒。
在步骤S340中,若蒸镀频率差值不满足于差值条件,清空第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间或维持第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间不变。
其中,若蒸镀频率差值不满足于差值条件,则证明此时蒸镀频率开始改变,如第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为0,则维持第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间不变,若第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为大于0的数值,则将该数值清空。
举例而言,若蒸镀频率差值为1兆赫,显然此时蒸镀频率差值不满足于差值条件0,则将第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间3秒清空,即此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为0。
在步骤S350中,以此循环,直至蒸镀源材料不再受热。
其中,蒸镀源材料不在受热指的是不再对加热器输送电流和电压,导致加热器不在加热蒸镀源材料的情况。
举例而言,循环上述步骤,直至不再对加热器输送电流和电压,导致蒸镀源材料不再加热为止。
在本示例性实施例中,在蒸镀的过程中,针对于每一个预设时间间隔内的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率进行计算,以得出蒸镀频率差值,进而确定出蒸镀过程中第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,有助于后续建立适用于蒸镀过程中的蒸镀频率监控机制,不仅可以更加及时的发现蒸镀频率的异常,而且提高了产品的质量的合格率。
在可选的实施例中,图4示出了蒸镀监控方法中生成用于表示蒸镀异常的告警信号之后的流程示意图,如图4所示,该方法至少包括以下步骤:在步骤S410中,将告警信号发送至目标终端,并生成暂停信号;其中,暂停信号用于暂停对产品的生产,所述产品的生产与所述蒸镀源材料的加热相关。
其中,目标终端可以供检修人员使用,以用来查看蒸镀过程中产生的蒸镀数据。当生成蒸镀异常的告警信号之后,目标终端将会收到该告警信号,同时生成暂停信号,以暂停对对产品的生产,以待检修人员检查并调整生产/信号参数。
举例而言,在用于表示蒸镀异常的告警信号生成后,将告警信号发送至目标终端A,并生成暂停信号B,以暂停对产品的生产。
在步骤S420中,接收目标终端发送的调整参数,以根据调整参数重新启动对产品的生产。
其中,在蒸镀过程中,石英水晶片的性能会发生改变,进而导致蒸镀频率的异常,因此当检修人员在目标终端中查看到告警信号后,会通过目标终端查看蒸镀过程中产生的数据,进而设置调整参数,以恢复石英水晶片的性能,进而重新启动对产品的生产。
举例而言,接收目标终端发送的调整石英水晶片的调整参数,以根据调整参数对石英水晶片的性能进行调整,以重新启动对产品的生产。
在本示例性实施例中,一方面,在生成告警信号之后,生成暂停信号,以及时避免异常的蒸镀频率对产品生产所带来的不利影响;另一方面,在生成告警信号之后,将告警信号发送至目标终端,以收到目标终端发送的调整参数,及时的恢复了对产品的生产,减少了停产的时间,并且确保在恢复后,石英水晶片输出的是正常状态的蒸镀频率。
在可选的实施例中,方法还包括:若时间小于或等于时间阈值,生成用于表示蒸镀正常的提示信号,以将提示信号发送至目标终端。
其中,若第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间小于或等于时间阈值,则证明截止于目前的获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率的预设时间间隔,蒸镀频率是正常状态下的蒸镀频率,基于此生成用于表示蒸镀正常的提示信号,以将提示信号至目标终端,其中,目标终端为检修人员查看蒸镀过程中的蒸镀数据的终端。
举例而言,截止于第三个预设时间间隔,第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间为0,显然此时第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间小于或等于时间阈值,则生成用于表示蒸镀正常的提示信号C,并将提示信号C发送至目标终端。
在本示例性实施例中,完善了蒸镀监控的逻辑,不仅在蒸镀频率异常时,产生告警信号,还在蒸镀正常时,产生表示蒸镀正常的提示信号。
在可选的实施例中,方法还包括:按照预设时间间隔获取蒸镀活性,并按照预设时间间隔获取石英水晶片的生命周期,以将蒸镀活性以及生命周期发送至目标终端。
其中,除了获取蒸镀频率之外,还可以将检修人员需要看到的蒸镀数据传送至目标终端,其中,蒸镀数据包括蒸镀活性以及石英水晶片的生命周期,当加热器的加热温度达到一定加热阈值的时候,可以认为该蒸镀过程具有蒸镀活性,当加热器的加加热温度没有达到一定加热阈值时,可以认为该蒸镀过程不具备活性,蒸镀过程是否具备活性可以根据蒸镀活性来判断。
石英水晶片的生命周期指的是汽化的粒子附着在石英水晶片,并使得石英水晶片产生震动频率的时间,即根据石英水晶片的生命周期,可以得到石英水晶片开始产生震动的时刻直到石英水晶片不再产生震动的时刻。
举例而言,按照预设时间间隔1秒,获取蒸镀活性以及石英水晶片的生命周期,并将获取的蒸镀活性以及石英水晶片的生命周期发送至目标终端。
在本示例性实施例中,将检修人员通常需要查看的蒸镀过程中的蒸镀活性以及石英水晶片的生命周期也发送至目标终端,提高了检修人员查看蒸镀数据的便利性。
在可选的实施例中,生成用于表示蒸镀异常的告警信号之后,方法还包括:生成用于表示蒸镀活性错误的第一错误信号,并生成用于表示生命周期错误的第二错误信号,以将第一错误信号和第二错误信号发送至目标终端。
其中,若生成告警信号,则证明此时蒸镀出现了异常,发送至目标终端的蒸镀活性以及石英水晶片的生命周期为蒸镀异常时产生的蒸镀数据,进而导致蒸镀活性以及石英水晶片的生命周期都是错误的信息,因此生成表示蒸镀活性错误的第一错误信号,并生成用于表示生命周期错误的第二错误信号,并将第一错误信号和第二错误信号发送至目标终端。
举例而言,在生成告警信号之后,即使在目标终端上显示的蒸镀活性以及石英水晶片的生命周期看上去并无明显异常,在目标终端上显示的蒸镀活性以及石英水晶片的生命周期也是错误的数据,因此为了进一步提示检修人员,需要生成用于表示蒸镀活性错误的第一错误信号A,并生成用于表示生命周期错误的第二错误信号B,并将第一错误信号A和第二错误信号B发送至目标终端。
在本示例性实施例中,完善了发送至目标终端的错误信号的逻辑,不仅向目标终端发送表示蒸镀异常的告警信号,还发送表示蒸镀活性错误的第一错误信号以及表示生命周期错误的第二错误信号。
在本公开的示例性实施例提供的方法及装置中,通过确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,并在时间大于时间阈值时,生成表示蒸镀异常的告警信号,在蒸镀过程中,建立了对蒸镀频率监控的机制,进而可以及时的发现蒸镀过程中的问题,不仅避免了不必要的性能损耗,而且提高了产品的品质以及合格率。
下面结合一应用场景对本公开实施例中蒸镀监控方法做出详细说明。
图5示出了一应用场景下蒸镀监控方法中监控系统的示意图,如图5所示,其中,设备510为提供电流和电压的设备,设备520为加热器,材料530为蒸镀源材料,电子材料540为石英水晶片。通过设备510向加热器520提供电流和电压,加热器520开始加热蒸发蒸镀源材料530,以使蒸镀源材料530汽化,并将汽化后的粒子附着在石英水晶片540的表面,进而促使石英水晶片540产生震动频率。
监控器550为膜厚监控器,监控器560为蒸镀速率监控器,系统570为数字运算操作系统,终端580为目标终端,在监控器550、监控器560、系统570以及终端580中实现的步骤如图6所示。
图6示出了一应用场景下蒸镀监控方法的流程示意图,如图6所示,其中,信号601为对图5中的材料530蒸发加热时产生的蒸镀数据,具体包括预设时间间隔内的第一蒸镀频率、第二蒸镀频率、蒸镀活性以及石英水晶片的蒸镀周期。
监控器602与图5中的监控器550对应,将信号601传送至监控器602后,监控器602会计算第一蒸镀频率和第二蒸镀频率之间的蒸镀频率差值,并以此确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,若直至蒸镀源材料不再受热时为止,第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间大于时间阈值,则证明此时蒸镀异常,执行步骤S640产生用于表示蒸镀异常的告警信号,并将该告警信号发送至目标终端606中,即图5中的目标终端580。
若直至蒸镀源材料不再受热时为止,第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间小于时间阈值,则证明此时蒸镀正常。监控器602会将得到预设时间间隔内的第一蒸镀频率、第二蒸镀频率、蒸镀活性以及石英水晶片的蒸镀周期传输至监控器603蒸镀速率监控器,以通过监控器603将蒸镀活性以及石英水晶片的蒸镀周期发送至目标终端606,即图5中的目标终端580,以显示在目标终端580中。
除此之外,蒸镀速率控制器603还会对蒸镀速率进行判断,即图6中的步骤S610,若蒸镀速率等于目标蒸镀速率,则无需触发图5中数字运算操作系统中的PID控制系统,并执行步骤S630生成表示蒸镀正常的提示信号,并将该提示信号发送至目标终端606,即图5中的目标终端580中,若蒸镀速率小于目标蒸镀速率或蒸镀速率大于目标蒸镀速率,则执行步骤S620触发图5中数字运算操作系统中的PID控制系统,以将蒸镀速率调整为目标速率,并执行步骤S630生成表示蒸镀正常的提示信号,以将该提示信号发送至目标终端606,即图5中的目标终端580中。
在本应用场景中,通过确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,并在时间大于时间阈值时,生成表示蒸镀异常的告警信号,在蒸镀过程中,建立了对蒸镀频率监控的机制,进而可以及时的发现蒸镀过程中的问题,不仅避免了不必要的性能损耗,而且提高了产品的品质以及合格率。
此外,在本公开的示例性实施例中,还提供一种蒸镀监控装置。图7示出了蒸镀监控装置的结构示意图,如图7所示,蒸镀监控装置700可以包括:计算模块710和告警模块720。其中:
计算模块710,被配置为按照时间间隔获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,并对第一蒸镀频率和第二蒸镀频率进行计算得到蒸镀频率差值,其中,第一蒸镀频率和第二蒸镀频率为蒸镀源材料受热蒸镀至石英水晶片的频率;告警模块720,被配置为根据蒸镀频率差值,确定第一蒸镀频率和第二蒸镀频率相等的时间,若时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号。
上述蒸镀监控装置700的具体细节已经在对应的蒸镀监控方法中进行了详细的描述,因此此处不再赘述。
应当注意,尽管在上文详细描述中提及蒸镀监控装置800的若干模块或者单元,但是这种划分并非强制性的。实际上,根据本公开的实施方式,上文描述的两个或更多模块或者单元的特征和功能可以在一个模块或者单元中具体化。反之,上文描述的一个模块或者单元的特征和功能可以进一步划分为由多个模块或者单元来具体化。
此外,在本公开的示例性实施例中,还提供了一种能够实现上述方法的电子设备。
下面参照图8来描述根据本发明的这种实施例的电子设备800。图8显示的电子设备800仅仅是一个示例,不应对本发明实施例的功能和使用范围带来任何限制。
如图8所示,电子设备800以通用计算设备的形式表现。电子设备800的组件可以包括但不限于:上述至少一个处理单元810、上述至少一个存储单元820、连接不同系统组件(包括存储单元820和处理单元810)的总线830、显示单元840。
其中,所述存储单元存储有程序代码,所述程序代码可以被所述处理单元810执行,使得所述处理单元810执行本说明书上述“示例性方法”部分中描述的根据本发明各种示例性实施例的步骤。
存储单元820可以包括易失性存储单元形式的可读介质,例如随机存取存储单元(RAM)821和/或高速缓存存储单元822,还可以进一步包括只读存储单元(ROM)823。
存储单元820还可以包括具有一组(至少一个)程序模块825的程序/使用工具824,这样的程序模块825包括但不限于:操作系统、一个或者多个应用程序、其它程序模块以及程序数据,这些示例中的每一个或某种组合中可能包含网络环境的现实。
总线830可以为表示几类总线结构中的一种或多种,包括存储单元总线或者存储单元控制器、外围总线、图形加速端口、处理单元或者使用多种总线结构中的任意总线结构的局域总线。
电子设备800也可以与一个或多个外部设备870(例如键盘、指向设备、蓝牙设备等)通信,还可与一个或者多个使得用户能与该电子设备800交互的设备通信,和/或与使得该电子设备800能与一个或多个其它计算设备进行通信的任何设备(例如路由器、调制解调器等等)通信。这种通信可以通过输入/输出(I/O)接口850进行。并且,电子设备800还可以通过网络适配器860与一个或者多个网络(例如局域网(LAN),广域网(WAN)和/或公共网络,例如因特网)通信。如图所示,网络适配器860通过总线830与电子设备800的其它模块通信。应当明白,尽管图中未示出,可以结合电子设备800使用其它硬件和/或软件模块,包括但不限于:微代码、设备驱动器、冗余处理单元、外部磁盘驱动阵列、RAID系统、磁带驱动器以及数据备份存储系统等。
通过以上的实施例的描述,本领域的技术人员易于理解,这里描述的示例实施例可以通过软件实现,也可以通过软件结合必要的硬件的方式来实现。因此,根据本公开实施例的技术方案可以以软件产品的形式体现出来,该软件产品可以存储在一个非易失性存储介质(可以是CD-ROM,U盘,移动硬盘等)中或网络上,包括若干指令以使得一台计算设备(可以是个人计算机、服务器、终端装置、或者网络设备等)执行根据本公开实施例的方法。
在本公开的示例性实施例中,还提供了一种计算机可读存储介质,其上存储有能够实现本说明书上述方法的程序产品。在一些可能的实施例中,本发明的各个方面还可以实现为一种程序产品的形式,其包括程序代码,当所述程序产品在终端设备上运行时,所述程序代码用于使所述终端设备执行本说明书上述“示例性方法”部分中描述的根据本发明各种示例性实施例的步骤。
参考图9所示,描述了根据本发明的实施例的用于实现上述方法的程序产品900,其可以采用便携式紧凑盘只读存储器(CD-ROM)并包括程序代码,并可以在终端设备,例如个人电脑上运行。然而,本发明的程序产品不限于此,在本文件中,可读存储介质可以是任何包含或存储程序的有形介质,该程序可以被指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用。
所述程序产品可以采用一个或多个可读介质的任意组合。可读介质可以是可读信号介质或者可读存储介质。可读存储介质例如可以为但不限于电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的系统、装置或器件,或者任意以上的组合。可读存储介质的更具体的例子(非穷举的列表)包括:具有一个或多个导线的电连接、便携式盘、硬盘、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦式可编程只读存储器(EPROM或闪存)、光纤、便携式紧凑盘只读存储器(CD-ROM)、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。
计算机可读信号介质可以包括在基带中或者作为载波一部分传播的数据信号,其中承载了可读程序代码。这种传播的数据信号可以采用多种形式,包括但不限于电磁信号、光信号或上述的任意合适的组合。可读信号介质还可以是可读存储介质以外的任何可读介质,该可读介质可以发送、传播或者传输用于由指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用的程序。
可读介质上包含的程序代码可以用任何适当的介质传输,包括但不限于无线、有线、光缆、RF等等,或者上述的任意合适的组合。
可以以一种或多种程序设计语言的任意组合来编写用于执行本发明操作的程序代码,所述程序设计语言包括面向对象的程序设计语言—诸如Java、C++等,还包括常规的过程式程序设计语言—诸如“C”语言或类似的程序设计语言。程序代码可以完全地在用户计算设备上执行、部分地在用户设备上执行、作为一个独立的软件包执行、部分在用户计算设备上部分在远程计算设备上执行、或者完全在远程计算设备或服务器上执行。在涉及远程计算设备的情形中,远程计算设备可以通过任意种类的网络,包括局域网(LAN)或广域网(WAN),连接到用户计算设备,或者,可以连接到外部计算设备(例如利用因特网服务提供商来通过因特网连接)。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后,将容易想到本公开的其他实施例。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本公开的真正范围和精神由权利要求指出。
Claims (8)
1.一种蒸镀监控方法,其特征在于,所述方法包括:
按照预设时间间隔获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,并对所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率进行计算得到蒸镀频率差值,其中,所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率为蒸镀源材料受热蒸镀至石英水晶片的频率;
根据所述蒸镀频率差值,确定所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的时间,包括:若所述蒸镀频率差值满足于差值条件,确定所述预设时间间隔为所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的时间;若所述蒸镀频率差值不满足于所述差值条件,清空所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间或维持所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间不变;
若所述时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号;若所述时间小于或等于所述时间阈值,确定下一个所述预设时间间隔内的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率;对所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率进行计算,以更新所述蒸镀频率差值;若更新后的所述蒸镀频率差值满足差值条件,在所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间的基础上累加所述预设时间间隔,以更新所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间;若更新后的所述蒸镀频率差值不满足于所述差值条件,清空所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间或维持所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间不变;以此循环,直至所述蒸镀源材料不再受热。
2.根据权利要求1所述的蒸镀监控方法,其特征在于,所述生成用于表示蒸镀异常的告警信号之后,所述方法还包括:
将所述告警信号发送至目标终端,并生成暂停信号;其中,所述暂停信号用于暂停对产品的生产,所述产品的生产与所述蒸镀源材料的加热相关;
接收所述目标终端发送的调整参数,以根据所述调整参数重新启动对所述产品的生产。
3.根据权利要求1所述的蒸镀监控方法,其特征在于,所述方法还包括:
若所述时间小于或等于所述时间阈值,生成用于表示蒸镀正常的提示信号,以将所述提示信号发送至目标终端。
4.根据权利要求1所述的蒸镀监控方法,其特征在于,所述方法还包括:
按照所述预设时间间隔获取蒸镀活性,并按照所述预设时间间隔获取所述石英水晶片的生命周期,以将所述蒸镀活性以及所述生命周期发送至目标终端。
5.根据权利要求4所述的蒸镀监控方法,其特征在于,所述生成用于表示蒸镀异常的告警信号之后,所述方法还包括:
生成用于表示所述蒸镀活性错误的第一错误信号,并生成用于表示所述生命周期错误的第二错误信号,以将所述第一错误信号和所述第二错误信号发送至所述目标终端。
6.一种蒸镀监控装置,采用权利要求1所述的蒸镀监控方法,其特征在于,包括:
计算模块,被配置为按照预设时间间隔获取第一蒸镀频率和第二蒸镀频率,并对所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率进行计算得到蒸镀频率差值,其中,所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率为蒸镀源材料受热蒸镀至石英水晶片的频率;
告警模块,被配置为根据所述蒸镀频率差值,确定所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的时间,包括:若所述蒸镀频率差值满足于差值条件,确定所述预设时间间隔为所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的时间;若所述蒸镀频率差值不满足于所述差值条件,清空所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间或维持所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间不变;若所述时间大于时间阈值,生成用于表示蒸镀异常的告警信号;若所述时间小于或等于所述时间阈值,确定下一个所述预设时间间隔内的第一蒸镀频率和第二蒸镀频率;对所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率进行计算,以更新所述蒸镀频率差值;若更新后的所述蒸镀频率差值满足差值条件,在所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间的基础上累加所述预设时间间隔,以更新所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间;若更新后的所述蒸镀频率差值不满足于所述差值条件,清空所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间或维持所述第一蒸镀频率和所述第二蒸镀频率相等的所述时间不变;以此循环,直至所述蒸镀源材料不再受热。
7.一种电子设备,其特征在于,包括:
处理器;
存储器,用于存储所述处理器的可执行指令;
其中,所述处理器被配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1-5中的任意一项所述的蒸镀监控方法。
8.一种计算机可读存储介质,其上存储计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1-5中的任意一项所述的蒸镀监控方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111006597.7A CN113699501B (zh) | 2021-08-30 | 2021-08-30 | 蒸镀监控方法及装置、存储介质、电子设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113699501A CN113699501A (zh) | 2021-11-26 |
CN113699501B true CN113699501B (zh) | 2024-02-13 |
Family
ID=78655108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202111006597.7A Active CN113699501B (zh) | 2021-08-30 | 2021-08-30 | 蒸镀监控方法及装置、存储介质、电子设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113699501B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115394645B (zh) * | 2022-08-31 | 2023-11-10 | 乂易半导体科技(无锡)有限公司 | 一种晶圆背面金属层异常处理方法 |
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-
2021
- 2021-08-30 CN CN202111006597.7A patent/CN113699501B/zh active Active
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---|---|
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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