CN113675112A - 可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，包括工作箱，吸气机和储存箱，所述工作箱的底部安装有电动机，所述工作箱的顶部通过螺栓安装有顶盖，所述顶盖的底部安装有嵌合槽，所述顶盖的顶部通过螺栓安装有吸气机，所述工作箱的内壁一侧安装有轴承座，所述轴承座的一侧通过螺栓连接有输液管，所述工作箱的一侧外壁上贯穿安装有排液管，所述排液管上安装有控制阀，所述连接盖的两侧底部通过螺栓安装有盒体。本发明由支撑箱内的三组过滤网对经过的空气进行过滤，过滤网上设置有吸附空气中有害物质的材料，用于对空气中的杂质和有害物进行过滤，提高空气的质量，避免有害物质排放出去，对工人的身体健康造成影响。

Description

可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法

技术领域

本发明涉及单晶硅加工技术领域，具体为可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法。

背景技术

单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。传感器单晶硅主要应用于半导体领域，传感器用单晶硅在加工过程中，均需对其进行刻蚀处理，刻蚀最简单最常用分类是：干法刻蚀和湿法刻蚀。显而易见，它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀，湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。

现有的传感器单晶硅刻蚀装置存在的缺陷是：

1、对比文件CN212434588U公开了一种硅晶圆刻蚀装置，“包括刻蚀装置外壳、控制面板、硅晶圆承载机构、滴胶机构、均布机构、氮气平布机构、检测箱和恒温恒湿机构，所述硅晶圆承载机构上部设置有所述滴胶机构，所述滴胶机构一侧设置有所述均布机构，所述均布机构后侧设置有所述氮气平布机构。本实用新型的有益效果：通过刻蚀装置外壳实现硅晶圆刻蚀装置加工环境封闭，通过硅晶圆承载机构实现四片晶圆同时刻蚀加工，便于晶圆取放，通过滴胶机构保障加工过程中光刻胶滴胶均匀，同时保持光刻胶质量和品质，通过均布机构和氮气平布机构实现对光刻胶均匀涂布，保障涂布平整，通过恒温恒湿机构完成装置内部空气循环，保障工作环境稳定，保障硅晶圆刻蚀质量。”现有的装置内部结构鼻尖简单，缺少对原料进行限位的装置，在加工的过程中，工件容易受到外界的影响发生活动的情况，影响装置刻蚀的效果；

2、对比文件CN208971862U公开了一种定位效果好的PCB板刻蚀装置，“包括箱体，所述箱体的右侧固定连接有刻蚀装置本体，所述箱体内腔的底部固定连接有固定板，所述固定板的背表面固定连接有电机，所述电机的输出轴贯穿至固定板的正表面并固定连接有第一齿轮，所述固定板的正表面开设有环形槽。本实用新型通过固定板、电机、第一齿轮、活动杆、第二齿轮、齿盘、传动杆、传动板、固定块、斜块、滑杆、滑套、连接块、斜槽、连接杆和夹具的配合使用，解决了传统的PCB板刻蚀装置在使用时对PCB板固定效果差，进而导致刻蚀的定位效果差的问题，该PCB板刻蚀装置具备定位效果好的优点，提高了PCB板的成品率，进而提高了PCB板的生产效率。”装置内部缺少循环利用装置，在加工的过程中，反应溶液或反应气体使用完后，就直接排放出去，无法对物料进行收集加工处理，容易造成浪费的情况；

3、对比文件CN206210820U公开了一种晶硅太阳能电池片的刻蚀装置，“包括刻蚀机本体，所述刻蚀机本体内部设有反应腔，所述刻蚀机本体内部相对设置的侧壁上分别设有第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极通电使所述反应腔产生电场；所述刻蚀机本体的顶部设置有向所述反应腔内部通入反应气体的进气装置；所述刻蚀机本体的侧壁设置有将所述反应腔内部反应气体抽离的排气装置；所述反应腔中还设有用于放置刻蚀夹具的基板。本实用新型的刻蚀装置对其内部的刻蚀夹具进行了改进，具有将太阳能电池片快速有效放置，防止电池片压紧时受力不均而被压碎等优点。”装置内部缺少循环利用装置，在加工的过程中，反应溶液或反应气体使用完后，就直接排放出去，无法对物料进行收集加工处理，容易造成浪费的情况。

发明内容

本发明的目的在于提供可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，包括工作箱，吸气机和储存箱，所述工作箱的底部安装有电动机，所述工作箱的顶部通过螺栓安装有顶盖，所述顶盖的底部安装有嵌合槽，所述顶盖的顶部通过螺栓安装有吸气机，所述工作箱的内壁一侧安装有轴承座，所述轴承座的一侧通过螺栓连接有输液管，所述工作箱的一侧外壁上贯穿安装有排液管，所述排液管上安装有控制阀，所述排液管的一端安装有连接盖，所述连接盖的两侧底部通过螺栓安装有盒体，所述盒体的底部安装有输送管，所述工作箱的一侧通过螺栓安装有固定件，所述固定件的顶部通过螺栓安装有储存箱，所述储存箱的顶部安装有输送泵，所述输送泵的一侧与输送管的一端固定连接，所述输送泵的另一侧安装有连接管，所述连接管的底端贯穿安装在储存箱的顶部。

优选的，所述工作箱的底部焊接安装有支撑柱，且支撑柱位于电动机的外侧，工作箱的内壁上安装有支撑架，且支撑架位于输液管的下方，支撑架的顶部通过轴承连接有支撑滚轮，工作箱的内壁上安装有引流板，引流板位于支撑架的下方，且引流板位于排液管的一侧，工作箱的正面通过螺栓安装有控制机箱。

优选的，所述电动机的输出端贯穿工作箱的底部内壁，电动机的输出端连接有转动杆，转动杆贯穿安装在引流板的内侧，转动杆的顶部安装有转动嵌合座，转动嵌合座嵌合插入到嵌合槽底部的凹槽内，转动杆的外表面安装有支撑盘，支撑盘摆放在支撑滚轮的顶部，支撑盘的顶部开设有放置槽

优选的，所述吸气机的正面安装有排气管，吸气机的一侧安装有通风管，通风管的一端安装有支撑箱，支撑箱安装在顶盖的顶部，支撑箱的一侧安装有导气管，导气管的底端安装在顶盖的顶部，支撑箱的内部依次安装有三组过滤网，支撑箱的正面通过螺栓安装有封闭板。

优选的，所述盒体的内壁上安装有杂质分筛网，盒体的内壁上安装有消磁管，且消磁管位于杂质分筛网的下方

优选的，所述盒体的外壁上安装有固定环，固定环的一侧安装有支撑杆，支撑杆的一端安装在工作箱的一侧外壁上，且支撑杆位于排液管的下方。

优选的，所述储存箱的顶部贯穿安装有注液管，注液管位于连接管的一侧，注液管的顶部安装有封闭盖，储存箱的顶部安装有抽水泵，所述抽水泵靠近注液管的一侧安装有抽液管，抽液管的底端贯穿安装在注液管的内部，抽水泵靠近工作箱的一侧安装有送液管，且送液管的一端贯穿工作箱的外壁与输液管连接。

优选的，所述输液管的底部安装有喷洒头。

该装置的公布步骤如下：

S1.首先工作人员打开顶盖将放置有原料的支撑盘放置到转动杆的外侧，然后通过支撑滚轮进行支撑支撑盘，保证支撑盘的稳定性，然后使用者将顶盖通过螺栓固定在工作箱的顶部，保证装置的封闭性，同时将转动嵌合座插入到嵌合槽的内侧，提高转动杆的稳定性，然后使用者通过控制机箱控制电动机运行，由电动机带动转动杆进行转动，转动杆转动带动外侧的支撑盘进行旋转，使得在嵌合槽内的所有原料都会从输液管的下方经过；

S2.使用者控制抽水泵运行使得抽液管产生吸力，对储存箱内部的刻蚀溶液进行吸取，然后将刻蚀溶液输送到送液管的内部，由送液管将刻蚀溶液输送到输液管的内部，由输液管进行输送刻蚀溶液，将刻蚀溶液输送到喷洒头的内部，由喷洒头将刻蚀溶液喷出，使得刻蚀溶液喷洒到支撑盘上，由支撑盘上的放置槽对刻蚀溶液进行收集，同时对原料进行限位，使得刻蚀溶液与原料充分接触，方便装置对单晶硅进行刻蚀，多余的刻蚀溶液在装满放置槽后，刻蚀溶液溢出，然后使用者打开控制阀使得刻蚀溶液通过排液管排出，刻蚀溶液进入到盒体的内部，通过杂质分筛网对刻蚀溶液进行过滤，然后有消磁管对电离子进行消除，保证刻蚀溶液的质量然后刻蚀溶液进入到输送管的内部，同时输送泵运行将刻蚀溶液输送到连接管的内部，由连接管将刻蚀溶液引导到储存箱的内部，由储存箱进行储存刻蚀溶液，完成刻蚀溶液的循环利用，避免发生浪费的情况；

S3.在单晶硅受到刻蚀的同时会产生一些有毒的气体，控制吸气机运行进行抽取气体，由导气管进行引导空气的移动，将工作箱内排出的气体输送到支撑箱的内部，由支撑箱内的三组过滤网对经过的空气进行过滤，过滤网上设置有吸附空气中有害物质的材料，用于对空气中的杂质和有害物进行过滤，提高空气的质量，避免有害物质排放出去，对工人的身体健康造成影响，然后空气移动到通风管的内部，由通风管将空气引导到吸气机的内部，最后再由排气管将空气排出。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

1、本发明控制吸气机运行进行抽取气体，由导气管进行引导空气的移动，将工作箱内排出的气体输送到支撑箱的内部，由支撑箱内的三组过滤网对经过的空气进行过滤，过滤网上设置有吸附空气中有害物质的材料，用于对空气中的杂质和有害物进行过滤，提高空气的质量，避免有害物质排放出去，对工人的身体健康造成影响，然后有排气管将空气排出，通过支撑箱通过螺栓进行固定封闭板，保证封闭板的稳定性，方便使用者对装置进行拆卸和组装，使用在完成工作后打开支撑箱对三组过滤网进行更换，方便对有害物质进行专门的处理。

2、本发明支撑盘上开设的放置槽，用于对单晶硅进行限位，同时对刻蚀溶液进行收集，使得刻蚀溶液可以对工件进行包裹，方便溶液对工件进行刻蚀，提高工作的质量，由电动机带动转动杆进行转动，转动杆转动带动外侧的支撑盘进行旋转，使得在嵌合槽内的所有原料都会从输液管的下方经过，使得物料可以均匀的受到刻蚀溶液的加工。

3、本发明打开控制阀使得刻蚀溶液通过排液管排出，刻蚀溶液进入到盒体的内部，通过杂质分筛网对刻蚀溶液进行过滤，然后有消磁管对电离子进行消除，保证刻蚀溶液的质量然后刻蚀溶液进入到输送管的内部，同时输送泵运行将刻蚀溶液输送到连接管的内部，由连接管将刻蚀溶液引导到储存箱的内部，由储存箱进行储存刻蚀溶液，完成刻蚀溶液的循环利用，避免发生浪费的情况。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图；

图2为本发明的剖面结构示意图；

图3为本发明的正面结构示意图；

图4为本发明的工作箱结构示意图；

图5为本发明的放置槽侧面剖视图；

图6为本发明的盒体结构示意图；

图7为本发明的储存箱结构示意图；

图8为本发明的输液管结构示意图。

图中：1、工作箱；101、支撑柱；102、引流板；103、顶盖；104、嵌合槽；105、控制机箱；106、支撑架；107、支撑滚轮；2、电动机；201、转动杆；202、转动嵌合座；203、支撑盘；204、放置槽；3、吸气机；301、排气管；302、通风管；303、支撑箱；304、导气管；305、封闭板；306、过滤网；4、排液管；401、控制阀；5、盒体；501、连接盖；502、杂质分筛网；503、消磁管；6、支撑杆；601、固定环；7、储存箱；701、固定件；702、注液管；703、封闭盖；704、抽水泵；705、抽液管；706、送液管；707、输送泵；708、连接管；709、输送管；8、输液管；801、喷洒头；802、轴承座。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-8，本发明提供的一种实施例：可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，包括工作箱1，吸气机3和储存箱7，所述工作箱1的底部安装有电动机2，通过工作箱1进行支撑加工结构，保证装置的稳定性，使得装置可以正常运行，由工作箱1进行支撑电动机2，保证电动机2可以正常运行，所述工作箱1的顶部通过螺栓安装有顶盖103，所述顶盖103的底部安装有嵌合槽104，所述顶盖103的顶部通过螺栓安装有吸气机3，由工作箱1进行支撑顶盖103，保证顶盖103的稳定性，通过顶盖103进行支撑嵌合槽104和吸气机3，使得嵌合槽104可以平稳的与转动嵌合座202进行对接，方便通过嵌合槽104对转动杆201进行限位，所述工作箱1的内壁一侧安装有轴承座802，所述轴承座802的一侧通过螺栓连接有输液管8，工作箱1有轴承座802通过螺栓对输液管8进行固定，保证输液管8的稳定性，使用者通过调节螺栓进行调节输液管8的旋转角度，方便使用者进行调节装置，所述工作箱1的一侧外壁上贯穿安装有排液管4，所述排液管4上安装有控制阀401，排液管4进行引导废液的排放，方便使用者对废液收集，使用者打开控制阀401使得刻蚀溶液通过排液管4排出，便于引导废液的排放，将废液输送到处理结构上，所述排液管4的一端安装有连接盖501，所述连接盖501的两侧底部通过螺栓安装有盒体5，所述盒体5的底部安装有输送管709，排液管4进行固定连接盖501，保证连接盖501的稳定性，由连接盖501进行支撑盒体5，保证盒体5的稳定性，方便盒体5进行安装废液处理装置，输送管709与盒体5对接，方便盒体5和输送管709之间进行传输物料，由盒体5将处理完成的溶液通过输送管709输送到储存箱7内，为使用者节省加工成本，所述工作箱1的一侧通过螺栓安装有固定件701，所述固定件701的顶部通过螺栓安装有储存箱7，所述储存箱7的顶部安装有输送泵707，所述输送泵707的一侧与输送管709的一端固定连接，所述输送泵707的另一侧安装有连接管708，所述连接管708的底端贯穿安装在储存箱7的顶部，由固定件701对储存箱7进行固定，保证储存箱7的稳定性，方便储存箱7进行储存刻蚀溶液，储存箱7上固定有输送泵707，输送泵707与输送管709进行对接，输送泵707运行产生吸力将输送管709内的刻蚀溶液吸入，然后再将刻蚀溶液输送到连接管708的内部，由连接管708将刻蚀溶液引导到储存箱7的内部，储存箱7进行储存刻蚀溶液，完成刻蚀溶液的循环利用，避免发生浪费的情况，储存箱7进行储存刻蚀溶液方便装置对刻蚀溶液的存放，在装置运行时，为设备提供充足的刻蚀溶液。

所述工作箱1的底部焊接安装有支撑柱101，通过支撑柱101进行支撑工作箱1，保证工作箱1的稳定性，方便工作箱1可以平稳的进行支撑加工设备，且支撑柱101位于电动机2的外侧，工作箱1的内壁上安装有支撑架106，且支撑架106位于输液管8的下方，支撑架106的顶部通过轴承连接有支撑滚轮107，支撑架106通过螺栓固定在工作箱1的内壁上，保证支撑架106的稳定性，由支撑架106进行支撑支撑滚轮107，保证支撑滚轮107的稳定性，方便支撑滚轮107对支撑盘203进行支撑，使得支撑盘203可以平稳的进行旋转，工作箱1的内壁上安装有引流板102，引流板102安装在工作箱1上，用于引导废液的移动，引流板102中间高四周底，便于将溶液从高处引导到低处，让将溶液引导到输液管8的内部，引流板102位于支撑架106的下方，且引流板102位于排液管4的一侧，工作箱1的正面通过螺栓安装有控制机箱105，控制机箱105与电动机2、吸气机3和抽水泵704等电器电性连接，方便使用者对装置进行操控，控制装置的运行。

所述电动机2的输出端贯穿工作箱1的底部内壁，电动机2的输出端连接有转动杆201，转动杆201贯穿安装在引流板102的内侧，转动杆201的顶部安装有转动嵌合座202，转动嵌合座202嵌合插入到嵌合槽104底部的凹槽内，转动杆201的外表面安装有支撑盘203，支撑盘203摆放在支撑滚轮107的顶部，支撑盘203的顶部开设有放置槽204，电动机2的进行连接转动杆201，通过控制机箱105控制电动机2运行，由电动机2带动转动杆201进行转动，转动杆201转动带动外侧的支撑盘203进行旋转，转动嵌合座202与嵌合槽104底部的凹槽对接，使得转动杆201可以平稳转动，避免转动杆201发生偏移的情况，转动嵌合座202上下分料，下方与转动杆201连接的部分进行转动，上方与嵌合槽104对接的部分保持稳定，方便到底外侧的支撑盘203进行平稳的转动，支撑盘203在转动的过程中，由支撑滚轮107进行转动，使得支撑滚轮107可以平稳的对支撑盘203进行支撑，支撑盘203上开设的放置槽204，用于对单晶硅进行限位，同时对刻蚀溶液进行收集，使得刻蚀溶液可以对工件进行包裹，方便溶液对工件进行刻蚀，提高工作的质量，由电动机2带动转动杆201进行转动，转动杆201转动带动外侧的支撑盘203进行旋转，使得在嵌合槽104内的所有原料都会从输液管8的下方经过，使得物料可以均匀的受到刻蚀溶液的加工。

所述吸气机3的正面安装有排气管301，吸气机3的一侧安装有通风管302，通风管302的一端安装有支撑箱303，支撑箱303安装在顶盖103的顶部，支撑箱303的一侧安装有导气管304，导气管304的底端安装在顶盖103的顶部，支撑箱303的内部依次安装有三组过滤网306，支撑箱303的正面通过螺栓安装有封闭板305，控制吸气机3运行进行抽取气体，由导气管304进行引导空气的移动，将工作箱1内排出的气体输送到支撑箱303的内部，由支撑箱303内的三组过滤网306对经过的空气进行过滤，过滤网306上设置有吸附空气中有害物质的材料，用于对空气中的杂质和有害物进行过滤，提高空气的质量，避免有害物质排放出去，对工人的身体健康造成影响，然后有排气管301将空气排出，通过支撑箱303通过螺栓进行固定封闭板305，保证封闭板305的稳定性，方便使用者对装置进行拆卸和组装，使用在完成工作后打开支撑箱303对三组过滤网306进行更换，方便对有害物质进行专门的处理。

所述盒体5的内壁上安装有杂质分筛网502，盒体5的内壁上安装有消磁管503，且消磁管503位于杂质分筛网502的下方，杂质分筛网502对刻蚀溶液进行过滤，将溶液中的杂质过滤出来，提高溶液的洁净，然后由消磁管503对刻蚀溶液中的磁力进行消除，避免磁力输送到储存箱7的内部，保证溶液的质量。

所述盒体5的外壁上安装有固定环601，固定环601的一侧安装有支撑杆6，支撑杆6的一端安装在工作箱1的一侧外壁上，且支撑杆6位于排液管4的下方，支撑杆6通过螺栓固定在工作箱1上，保证支撑杆6的稳定性，通过支撑杆6对固定环601进行固定，方便固定环601对内侧的盒体5进行固定，保证装置的稳定性。

所述储存箱7的顶部贯穿安装有注液管702，注液管702位于连接管708的一侧，注液管702的顶部安装有封闭盖703，封闭盖703对注液管702进行封闭，保证装置的封闭性，使用者将溶液通过封闭盖703注入到储存箱7的内部，方便装置进行输送溶液，储存箱7的顶部安装有抽水泵704，所述抽水泵704靠近注液管702的一侧安装有抽液管705，抽液管705的底端贯穿安装在注液管702的内部，抽水泵704靠近工作箱1的一侧安装有送液管706，且送液管706的一端贯穿工作箱1的外壁与输液管8连接，使用者控制抽水泵704运行使得抽液管705产生吸力，对储存箱7内部的刻蚀溶液进行吸取，然后将刻蚀溶液输送到送液管706的内部，由送液管706将刻蚀溶液输送到输液管8的内部，方便装置进行传输溶液。

所述输液管8的底部安装有喷洒头801，输液管8将溶液输送到喷洒头801处，前方的溶液受到后方溶液的挤压，从喷洒头801处喷出，用于对工件进行喷洒，方便对工件进行刻蚀。

该装置的公布步骤如下：

S1.首先工作人员打开顶盖103将放置有原料的支撑盘203放置到转动杆201的外侧，然后通过支撑滚轮107进行支撑支撑盘203，保证支撑盘203的稳定性，然后使用者将顶盖103通过螺栓固定在工作箱1的顶部，保证装置的封闭性，同时将转动嵌合座202插入到嵌合槽104的内侧，提高转动杆201的稳定性，然后使用者通过控制机箱105控制电动机2运行，由电动机2带动转动杆201进行转动，转动杆201转动带动外侧的支撑盘203进行旋转，使得在嵌合槽104内的所有原料都会从输液管8的下方经过；

S2.使用者控制抽水泵704运行使得抽液管705产生吸力，对储存箱7内部的刻蚀溶液进行吸取，然后将刻蚀溶液输送到送液管706的内部，由送液管706将刻蚀溶液输送到输液管8的内部，由输液管8进行输送刻蚀溶液，将刻蚀溶液输送到喷洒头801的内部，由喷洒头801将刻蚀溶液喷出，使得刻蚀溶液喷洒到支撑盘203上，由支撑盘203上的放置槽204对刻蚀溶液进行收集，同时对原料进行限位，使得刻蚀溶液与原料充分接触，方便装置对单晶硅进行刻蚀，多余的刻蚀溶液在装满放置槽204后，刻蚀溶液溢出，然后使用者打开控制阀401使得刻蚀溶液通过排液管4排出，刻蚀溶液进入到盒体5的内部，通过杂质分筛网502对刻蚀溶液进行过滤，然后有消磁管503对电离子进行消除，保证刻蚀溶液的质量然后刻蚀溶液进入到输送管709的内部，同时输送泵707运行将刻蚀溶液输送到连接管708的内部，由连接管708将刻蚀溶液引导到储存箱7的内部，由储存箱7进行储存刻蚀溶液，完成刻蚀溶液的循环利用，避免发生浪费的情况；

S3.在单晶硅受到刻蚀的同时会产生一些有毒的气体，控制吸气机3运行进行抽取气体，由导气管304进行引导空气的移动，将工作箱1内排出的气体输送到支撑箱303的内部，由支撑箱303内的三组过滤网306对经过的空气进行过滤，过滤网306上设置有吸附空气中有害物质的材料，用于对空气中的杂质和有害物进行过滤，提高空气的质量，避免有害物质排放出去，对工人的身体健康造成影响，然后空气移动到通风管302的内部，由通风管302将空气引导到吸气机3的内部，最后再由排气管301将空气排出。

工作原理：首先工作人员打开顶盖103将放置有原料的支撑盘203放置到转动杆201的外侧，然后通过支撑滚轮107进行支撑支撑盘203，保证支撑盘203的稳定性，然后使用者将顶盖103通过螺栓固定在工作箱1的顶部，保证装置的封闭性，同时将转动嵌合座202插入到嵌合槽104的内侧，提高转动杆201的稳定性，然后使用者通过控制机箱105控制电动机2运行，由电动机2带动转动杆201进行转动，转动杆201转动带动外侧的支撑盘203进行旋转，使得在嵌合槽104内的所有原料都会从输液管8的下方经过，方便工件均匀的接收溶液的喷洒，使用者控制抽水泵704运行使得抽液管705产生吸力，对储存箱7内部的刻蚀溶液进行吸取，然后将刻蚀溶液输送到送液管706的内部，由送液管706将刻蚀溶液输送到输液管8的内部，由输液管8进行输送刻蚀溶液，将刻蚀溶液输送到喷洒头801的内部，由喷洒头801将刻蚀溶液喷出，使得刻蚀溶液喷洒到支撑盘203上，由支撑盘203上的放置槽204对刻蚀溶液进行收集，同时对原料进行限位，使得刻蚀溶液与原料充分接触，方便装置对单晶硅进行刻蚀，多余的刻蚀溶液在装满放置槽204后，刻蚀溶液溢出，然后使用者打开控制阀401使得刻蚀溶液通过排液管4排出，刻蚀溶液进入到盒体5的内部，通过杂质分筛网502对刻蚀溶液进行过滤，然后有消磁管503对电离子进行消除，保证刻蚀溶液的质量然后刻蚀溶液进入到输送管709的内部，同时输送泵707运行将刻蚀溶液输送到连接管708的内部，由连接管708将刻蚀溶液引导到储存箱7的内部，由储存箱7进行储存刻蚀溶液，完成刻蚀溶液的循环利用，避免发生浪费的情况，在单晶硅受到刻蚀的同时会产生一些有毒的气体，控制吸气机3运行进行抽取气体，由导气管304进行引导空气的移动，将工作箱1内排出的气体输送到支撑箱303的内部，由支撑箱303内的三组过滤网306对经过的空气进行过滤，过滤网306上设置有吸附空气中有害物质的材料，用于对空气中的杂质和有害物进行过滤，提高空气的质量，避免有害物质排放出去，对工人的身体健康造成影响，然后空气移动到通风管302的内部，由通风管302将空气引导到吸气机3的内部，最后再由排气管301将空气排出。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (9)

1.可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，包括工作箱（1），吸气机（3）和储存箱（7），其特征在于：所述工作箱（1）的底部安装有电动机（2），所述工作箱（1）的顶部通过螺栓安装有顶盖（103），所述顶盖（103）的底部安装有嵌合槽（104），所述顶盖（103）的顶部通过螺栓安装有吸气机（3），所述工作箱（1）的内壁一侧安装有轴承座（802），所述轴承座（802）的一侧通过螺栓连接有输液管（8），所述工作箱（1）的一侧外壁上贯穿安装有排液管（4），所述排液管（4）上安装有控制阀（401），所述排液管（4）的一端安装有连接盖（501），所述连接盖（501）的两侧底部通过螺栓安装有盒体（5），所述盒体（5）的底部安装有输送管（709），所述工作箱（1）的一侧通过螺栓安装有固定件（701），所述固定件（701）的顶部通过螺栓安装有储存箱（7），所述储存箱（7）的顶部安装有输送泵（707），所述输送泵（707）的一侧与输送管（709）的一端固定连接，所述输送泵（707）的另一侧安装有连接管（708），所述连接管（708）的底端贯穿安装在储存箱（7）的顶部。

2.根据权利要求1所述的可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，其特征在于：所述工作箱（1）的底部焊接安装有支撑柱（101），且支撑柱（101）位于电动机（2）的外侧，工作箱（1）的内壁上安装有支撑架（106），且支撑架（106）位于输液管（8）的下方，支撑架（106）的顶部通过轴承连接有支撑滚轮（107），工作箱（1）的内壁上安装有引流板（102），引流板（102）位于支撑架（106）的下方，且引流板（102）位于排液管（4）的一侧，工作箱（1）的正面通过螺栓安装有控制机箱（105）。

3.根据权利要求1所述的可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，其特征在于：所述电动机（2）的输出端贯穿工作箱（1）的底部内壁，电动机（2）的输出端连接有转动杆（201），转动杆（201）贯穿安装在引流板（102）的内侧，转动杆（201）的顶部安装有转动嵌合座（202），转动嵌合座（202）嵌合插入到嵌合槽（104）底部的凹槽内，转动杆（201）的外表面安装有支撑盘（203），支撑盘（203）摆放在支撑滚轮（107）的顶部，支撑盘（203）的顶部开设有放置槽（204）。

4.根据权利要求1所述的可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，其特征在于：所述吸气机（3）的正面安装有排气管（301），吸气机（3）的一侧安装有通风管（302），通风管（302）的一端安装有支撑箱（303），支撑箱（303）安装在顶盖（103）的顶部，支撑箱（303）的一侧安装有导气管（304），导气管（304）的底端安装在顶盖（103）的顶部，支撑箱（303）的内部依次安装有三组过滤网（306），支撑箱（303）的正面通过螺栓安装有封闭板（305）。

5.根据权利要求1所述的可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，其特征在于：所述盒体（5）的内壁上安装有杂质分筛网（502），盒体（5）的内壁上安装有消磁管（503），且消磁管（503）位于杂质分筛网（502）的下方。

6.根据权利要求1所述的可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，其特征在于：所述盒体（5）的外壁上安装有固定环（601），固定环（601）的一侧安装有支撑杆（6），支撑杆（6）的一端安装在工作箱（1）的一侧外壁上，且支撑杆（6）位于排液管（4）的下方。

7.根据权利要求1所述的可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，其特征在于：所述储存箱（7）的顶部贯穿安装有注液管（702），注液管（702）位于连接管（708）的一侧，注液管（702）的顶部安装有封闭盖（703），储存箱（7）的顶部安装有抽水泵（704），所述抽水泵（704）靠近注液管（702）的一侧安装有抽液管（705），抽液管（705）的底端贯穿安装在注液管（702）的内部，抽水泵（704）靠近工作箱（1）的一侧安装有送液管（706），且送液管（706）的一端贯穿工作箱（1）的外壁与输液管（8）连接。

8.根据权利要求1所述的可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，其特征在于：所述输液管（8）的底部安装有喷洒头（801）。

9.根据权利要求1-8所述的可实现定位加工的传感器单晶硅刻蚀装置及其使用方法，其特征在于，该装置的公布步骤如下：

S1.首先工作人员打开顶盖（103）将放置有原料的支撑盘（203）放置到转动杆（201）的外侧，然后通过支撑滚轮（107）进行支撑支撑盘（203），保证支撑盘（203）的稳定性，然后使用者将顶盖（103）通过螺栓固定在工作箱（1）的顶部，保证装置的封闭性，同时将转动嵌合座（202）插入到嵌合槽（104）的内侧，提高转动杆（201）的稳定性，然后使用者通过控制机箱（105）控制电动机（2）运行，由电动机（2）带动转动杆（201）进行转动，转动杆（201）转动带动外侧的支撑盘（203）进行旋转，使得在嵌合槽（104）内的所有原料都会从输液管（8）的下方经过；

S2.使用者控制抽水泵（704）运行使得抽液管（705）产生吸力，对储存箱（7）内部的刻蚀溶液进行吸取，然后将刻蚀溶液输送到送液管（706）的内部，由送液管（706）将刻蚀溶液输送到输液管（8）的内部，由输液管（8）进行输送刻蚀溶液，将刻蚀溶液输送到喷洒头（801）的内部，由喷洒头（801）将刻蚀溶液喷出，使得刻蚀溶液喷洒到支撑盘（203）上，由支撑盘（203）上的放置槽（204）对刻蚀溶液进行收集，同时对原料进行限位，使得刻蚀溶液与原料充分接触，方便装置对单晶硅进行刻蚀，多余的刻蚀溶液在装满放置槽（204）后，刻蚀溶液溢出，然后使用者打开控制阀（401）使得刻蚀溶液通过排液管（4）排出，刻蚀溶液进入到盒体（5）的内部，通过杂质分筛网（502）对刻蚀溶液进行过滤，然后有消磁管（503）对电离子进行消除，保证刻蚀溶液的质量然后刻蚀溶液进入到输送管（709）的内部，同时输送泵（707）运行将刻蚀溶液输送到连接管（708）的内部，由连接管（708）将刻蚀溶液引导到储存箱（7）的内部，由储存箱（7）进行储存刻蚀溶液，完成刻蚀溶液的循环利用，避免发生浪费的情况；

S3.在单晶硅受到刻蚀的同时会产生一些有毒的气体，控制吸气机（3）运行进行抽取气体，由导气管（304）进行引导空气的移动，将工作箱（1）内排出的气体输送到支撑箱（303）的内部，由支撑箱（303）内的三组过滤网（306）对经过的空气进行过滤，过滤网（306）上设置有吸附空气中有害物质的材料，用于对空气中的杂质和有害物进行过滤，提高空气的质量，避免有害物质排放出去，对工人的身体健康造成影响，然后空气移动到通风管（302）的内部，由通风管（302）将空气引导到吸气机（3）的内部，最后再由排气管301将空气排出。

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