CN113672118A - 一种金属网格触控显示屏及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种金属网格触控显示屏及其制作方法，使金属网格的线宽由常规的5um降低至2um，使边缘走线的线宽/线距由常规的15um/15um降低至10um/10um，提高触控显示屏的屏占比，实现超窄超细的目的。使金属网格节点增加至常规金属网格设计的节点数的两倍，降低功能失效风险，提高制程良率。降低导电层的方阻，由常规的25Ω/□降低至3Ω/□左右，接收和传递信号的能力增强，IC解析信号的速度越大，触摸响应更快更顺畅。同时提供触控显示屏的透过率，使光更多的透过触控显示屏，增强视觉体验。

Description

一种金属网格触控显示屏及其制作方法

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种金属网格触控显示屏及其制作方法。

背景技术

为了提高显示装置的用户体验效果，触控技术已广泛地应用于各种电子产品的显示装置中，以便于使用者利用触控方式操控该电子产品的作动。触控面板为了使其触控区域的电极不易被视认，通常采用氧化铟锡(ITO)来形成透明电极。但随着触控面板的应用逐渐朝大尺寸的方向发展，使用氧化铟锡透明电极的技术存在着电阻较大、触控回应速度较慢，需多道制程步骤以及制作成本较高等技术问题，因此金属网格(Metal Mesh)感测电极于是被发展以取代氧化铟锡透明电极的应用。金属网格作为触控电极，具有较小的电阻以减小电阻电容延迟，提高触控电极的限号传递速度。

目前，应用在触控显示屏中的触控电极通常为规则的金属网格，常规的金属网格设计的网格线宽一般是5um，边缘走线的线宽一般是15um、线距一般是15um，方阻是25Ω/□，透过率为82%~85%之间，节点一般较少。常规的金属网格设计面内线宽和边缘线宽线距较大，方阻偏大，透过率低，节点少，这些特性会使触控显示屏屏占比低，触控不流畅，功能失效风险较大，这些劣势在触控显示屏生产制造中影响制程良率和增大生产成本，在用户使用过程中影响用户视觉体验、触摸体验、使用寿命。

因此，有必要提供一种新型金属网格设计的触控显示屏，以提高触控显示屏的屏占比，提高制程良率，使触摸更加顺畅。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种新型金属网格设计的触控显示屏，其目的是减小面内网格的线宽和边缘走线的线宽线距，提高触控显示屏的屏占比，实现超窄超细的目的。增加面内网格节点，降低功能失效的风险，提高制程良率。降低导电层的方阻，提高IC接收和解析信号的速度，使触摸更加顺畅。提高触控显示屏的透过率，增强用户视觉体验。

为解决上述问题，本发明提供一种金属网格触控显示屏结构，由上往下依次包括：盖板（1）、粘结剂（2）、第一黑化层（3）、电容感应层（4）、第二黑化层（5）、传感基材（6）、第三黑化层（7）、电容驱动层（8）、第四黑化层（9）、粘结剂（10）、液晶显示模组（11）；所述电容感应层（4）是位于所述传感基材（6）一面的一层厚度为400nm的导电层，通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和金属网格，其中所述金属网格的线宽为2um，所述边缘走线的线宽为10um、线距为10um；所述电容驱动层（8）是位于所述传感基材（6）另一面的一层厚度为400nm的导电层，通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和金属网格，其中所述金属的线宽2um，所述边缘走线的线宽为10um、线距为10um。

可选的，所述金属网格为菱形的重复单元，在菱形金属网格的两组对边上设置有两条交叉连接的搭桥，以将菱形金属网格的两组对边的中点连接，从而网格设计线距减少一半，网格设计节点数增加至两倍，单个节点的方阻大约为3Ω/□。

可选的，所述电容感应层的导电材料是Cu；所述电容驱动层的导电材料是Cu。

可选的，所述黑化层是一种具有遮蔽作用的黑色树脂层，其厚度大约为10~20nm。

可选的，所述金属网格为菱形的重复单元，包括4个子金属网格，所述子金属网格也为菱形，在菱形子金属网格的两组对边上设置有两条交叉连接的搭桥，以将菱形子金属网格的两组对边的中点连接，所述4个子金属网格中两条交叉连接的搭桥的形状分别为：交叉连接的两条直线、交叉连接的两条正弦曲线、交叉连接的两条半圆曲线、交叉连接的一条直线和一条正弦曲线。

本发明提供一种金属网格触控显示屏的制作方法，在传感基材（6）的两面同时镀膜一层厚度为10~20nm的第二黑化层（5）和第三黑化层（7），再在第二黑化层（5）和第三黑化层（7）表面蒸镀一层厚度为400nm的导电层，然后在导电层表面镀膜一层厚度为10~20nm的第一黑化层（3）和第四黑化层（9），再在第一黑化层（3）和第四黑化层（9）表面旋涂一层厚度为1~2um光刻胶，将光刻胶烘烤固化后，再将光刻胶进行曝光、显影、蚀刻，得到电容感应层（4）和电容驱动层（8），最后进行剥膜处理，将光刻胶去除，得到电容层（12）；所述电容感应层（4）通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和金属网格，其中所述金属网格的线宽为2um，所述边缘走线的线宽为10um、线距为10um；所述电容驱动层（8）通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和金属网格，其中所述金属的线宽2um，所述边缘走线的线宽为10um、线距为10um。

可选的，所述金属网格为菱形的重复单元，在菱形金属网格的两组对边上设置两条交叉连接的搭桥，以将菱形金属网格的两组对边的中点连接，从而网格设计线距减少一半，网格设计节点数增加至两倍，单个节点的方阻大约为3Ω/□。

可选的，电容感应层的导电材料是Cu；电容驱动层的导电材料是Cu。

可选的，黑化层是一种具有遮蔽作用的黑色树脂层，其厚度大约为10~20nm。

可选的，所述金属网格为菱形的重复单元，包括4个子金属网格，所述子金属网格也为菱形，在菱形子金属网格的两组对边上设置有两条交叉连接的搭桥，以将菱形子金属网格的两组对边的中点连接，所述4个子金属网格中两条交叉连接的搭桥的形状分别为：交叉连接的两条直线、交叉连接的两条正弦曲线、交叉连接的两条半圆曲线、交叉连接的一条直线和一条正弦曲线。

本发明提供了一种金属网格触控显示屏及其制作方法，其关键技术之一采用光刻胶和高精密曝光设备，使金属网格的线宽由常规的5um降低至2um，使边缘走线的线宽/线距由常规的15um/15um降低至10um/10um，提高触控显示屏的屏占比，实现超窄超细的目的。其关键技术之二是优化面内网格设计，使金属网格节点增加至常规金属网格设计的节点数的两倍，降低功能失效风险，提高制程良率。其关键技术之一和关键技术之二还可以降低导电层的方阻，由常规的25Ω/□降低至3Ω/□左右，接收和传递信号的能力增强，IC解析信号的速度越大，触摸响应更快更顺畅。同时提供触控显示屏的透过率，使光更多的透过触控显示屏，增强视觉体验。

与常规的金属网格触控显示屏相比具有以下优势：

1、较高的触控显示屏屏占比，实现超窄超细线路触控显示屏。

2、降低功能失效的风险，提高制程良率。

3、降低导电层的方阻，使触摸更加顺畅。

附图说明

图1是本发明中的一种新型金属网格设计的触控显示屏结构示意图。

图2a-c是本发明中的一种新型金属网格设计的触控显示屏的电容层工艺流程图。

图3是本发明中的一种新型金属网格设计的触控显示屏的金属网格设计原理图。

图4是本发明中的改进的金属网格设计原理图。

图5是本发明中的改进的电容层工艺流程图。

具体实施方式

现在将参照附图来详细描述本公开的各种示例性实施例。对示例性实施例的描述仅仅是说明性的，决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。本公开可以以许多不同的形式实现，不限于这里所述的实施例。提供这些实施例是为了使本公开透彻且完整，并且向本领域技术人员充分表达本公开的范围。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、材料的组分和数值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。

本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素，并不排除也涵盖其他要素的可能。

本公开使用的所有术语(包括技术术语或者科学术语)与本公开所属领域的普通技术人员理解的含义相同，除非另外特别定义。还应当理解，在诸如通用字典中定义的术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

将参考附图描述本公开的实施例。在下文中，将通过相同的附图标记表示附图中相互对应的部分。

一种新型金属网格设计的触控显示屏结构示意图如图1所示，主要由盖板（1）、粘结剂（2）、第一黑化层（3）、电容感应层（4）、第二黑化层（5）、传感基材（6）、第三黑化层（7）、电容驱动层（8）、第四黑化层（9）、粘结剂（10）、液晶显示模组（11）组成。其中第一黑化层（3）、电容感应层（4）、第二黑化层（5）、传感基材（6）、第三黑化层（7）、电容驱动层（8）、第四黑化层（9）组成电容层（12），盖板（1）、粘结剂（2）、电容层（12）组成触摸屏（13），触摸屏（13）、粘结剂（10）、液晶显示模组（11）组成触控显示屏（14）。

盖板（1）可以是CG、PC、PMMA、PET、TAC、PI等构成，可以是PC、PMMA共聚而成的两层复合板和三层复合板，也可以是PC、PMMA注塑成型的IML，可以是平面2D盖板，也可以是2.5D、3D盖板，其厚度0.2mm~3mm均可以。

粘结剂（2）、粘结剂（10）可以是一种固态光学透明胶，也可以是液态有机硅水胶或丙烯酸水胶，具有较高的透过率和较大的粘性，其厚度可以是0.025mm~0.125mm常规厚度，也可以是0.15mm~2cm等非常规厚度。

第一黑化层（3）、第二黑化层（5）、第三黑化层（7）、第四黑化层（9）是一种具有遮蔽作用的黑色树脂层，其厚度大约10~20nm，主要起着遮蔽铜的黄色外观，使可视区视觉上呈现透明色，黑化层的线宽取决于面内金属网格的线宽，金属网格线宽越小，遮蔽区域越小，视觉看上去越透明。其次是用于保护金属网格，避免制程中刮伤、污染等外观不良。

传感基材（6）是一种高度透明的基材，用于承载电容感应层和电容驱动层，其厚度为38um~125um均可以，常规厚度是50um，传感基材一般是PET、COP、TAC、PI、PC等柔性基材。

电容感应层（4）是在传感基材（6）基材一面镀膜一层厚度为400nm的导电层，通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和面内金属网格，用于接收信号。电容感应层（4）的导电材料是Cu，面内金属网格线宽2um，边缘走线线宽为10um、线距为10um，面内金属网格节点数是常规金属网格设计的2倍。

电容驱动层（8）是在传感基材（6）基材另一面面镀膜一层厚度为400nm的导电层，通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和面内金属网格，用于接收信号。电容驱动层（8）的导电材料 是Cu，面内金属网格线宽2um，边缘走线线宽为10um、线距为10um，面内金属网格节点数是常规金属网格设计的2倍。

其中电容感应层（4）与电容驱动层（8）的相对位置可以互换，电容感应层（4）位于传感基材（6）的顶面时，电容驱动层（8）位于传感基材（6）的底面，电容感应层（4）位于传感基材（6）的底面时，电容驱动层（8）位于传感基材（6）的顶面。一般以电容感应层（4）位于传感基材（6）的顶面和电容驱动层（8）位于传感基材（6）的底面为主要的堆叠结构。

液晶显示模组（12）可以是TFT液晶显示模组，也可以是IPS液晶显示模组，或者柔性OLED显示器。

一种新型金属网格设计的触控显示屏关键技术之一电容层（12）工艺流程图如图2a-c所示。本发明提供了一种新型金属网格触摸屏，其关键技术是在传感基材（6）的两面同时镀膜一层厚度10~20nm的第二黑化层（5）和第三黑化层（7），再在第二黑化层（5）和第三黑化层（7）表面蒸镀一层厚度400nm的Cu层，然后在Cu表面镀膜一层厚度10~20nm的第一黑化层（3）和第四黑化层（9），再在第一黑化层（3）和第四黑化层（9）表面旋涂一层厚度1~2um光刻胶，将光刻胶烘烤固化后，再将光刻胶进行曝光、显影、蚀刻，得到电容感应层（4）和电容驱动层（8），最后进行剥膜处理，将光刻胶去除，得到电容层（12）。常规金属电容感应层和电容驱动层蚀刻过程在Cu膜的表面压膜10um左右的干膜，在同一速度下再进行曝光、显影、蚀刻，得到面向金属网格和Cu边缘走线，这种干膜经过曝光后金属网格的线宽一般在9～10um，Cu边缘走线最小线宽/线距一般是15um/15um。本发明Cu膜的蚀刻过程是在厚度400nm的Cu膜的两面旋涂一层1~2um左右的光刻胶，光刻胶经过烘烤固化后，厚度降低至2um左右，再单独进行曝光，然后再进行显影、蚀刻，得到面向金属网格和Cu边缘走线，由于Cu膜厚度由2um降低至400nm，10um干膜转变为1~2um的光刻胶，同一速度进行曝光、显影、蚀刻调整为先曝光再显影、蚀刻的两段速度，同时采用高精密曝光机，可以达到蚀刻后面内金属网格线宽2um，Cu边缘走线最小线宽/线距降低至10um/10um，实现真正意义上的超细线路触摸屏。

一种新型金属网格设计的触控显示屏关键技术之二金属网格设计原理图如图3所示。金属网格的电容感应层和电容驱动层是由多个通道组成，每个通道通过菱形连接起来，两个菱形连接处称为节点，通道数由IC决定，节点数由金属网格设计图案和金属网格线宽决定，只要金属网格的线距满足IC设计要求，就可以设计不同的金属网格图案。常规金属网格设计的金属网格线距较大，节点较少。本发明金属网格设计是菱形的重复单元，在菱形金属网格的两组对边上设置两条交叉连接的搭桥以将菱形金属网格的两组对边的中点连接，相当于将常规的网格设计线距减少一半，将一个菱形金属网格变成两个金属网格，也就是菱形金属网格数量在面积一定的情况下增加了两倍，常规金属网格设计两个菱形金属网格有2个节点，本发明金属网格设计由于两个金属菱形网格增加到四个菱形金属网格，因而节点数增加4个节点，是常规金属网格设计节点数的两倍。当其中一个菱形金属网格断裂时，剩下的节点可以保证功能正常使用，也就是节点越多，功能失效的风险就越小。从节点数量增加两倍的角度而言，常规金属网格设计功能失效的风险是50%，而本发明金属网格设计功能失效的风险是25%，大大降低了触控显示屏功能失效的风险，提高制程良率。

要实现增加节点数的目的，必须保证金属网格线宽越小越好。增加节点数实际上是通过增加菱形金属网格数量来实现，菱形金属网格数量越大，菱形金属网格的面积就越大，会导致可视区的有效面积降低，也就是可视区域有效面积与整体面积的比值会下降，即占空比会下降。因此只有减少金属网格的线宽，使单个金属网格的面积降低，即使金属网格数量增加，但金属网格的面积会保持不变，这样可视区域有效面积就不会受影响，占空比也就不变，当金属网格线宽减少越大时，反而会使金属网格的面积降低，提高占空比，因此要实现本发明的关键技术之二，必须是在本发明的关键技术之一基础上才可以实现，有了超窄线宽的2um的金属网格，才可以实现节点数增加，降低功能实现的风险，提高制程良率。

一种新型金属网格设计的触控显示屏关键技术之一里面提及导电层的厚度400nm，相对比常规ITO导电层厚度20nm而言，导电层厚度增加了20倍，导电层的方阻与导电层的厚度成反比，导电层的厚度越厚，其方阻越小。常规ITO导电层的方阻大约150Ω/□，本发明金属网格设计的导电层是厚度400nm，其方阻大约7.5Ω/□。一种新型金属网格设计的触控显示屏关键技术之二里面提及节点数增加2倍，因而单节点的方阻会降低2倍，也就是方阻大约为3.25Ω/□。相对于常规金属网格设计的方阻25Ω/□而言，方阻越低，电容充满电的时间越短，信号损失量更小，用户使用时触摸反应速度更快，触摸更流畅。

一种新型金属网格设计的触控显示屏关键技术之二里面提及节点数越大、金属网格线宽越小，金属网格的总面积实际上会降低，可视区有效面积增加，从而导致占空比增大。当自然光入射进入触摸屏时，由于占空比增大，金属网格总面积减少，由于金属网格线宽表面是有黑化层保护，其黑化层的面积等于金属网格的总面积，也就是金属网格上方的黑化层面积会减少，黑化层阻挡光通过的面积就越小，光通过触摸屏的光通量就越多，触摸屏的透过率就越大，如此便可以增强用户的视觉体验。

在触控显示技术领域，当电容层的金属网格与液晶显示模组贴合应用时，易产生所谓的干涉纹，影响画面显示品质。干涉纹的产生主要是因为金属网格图案形状所造成，当相邻的条纹图案彼此规律地排列时，即会产生光学干涉纹；且，当金属网格的线宽越粗，或金属网格的相邻的条纹产生重叠或交叉点而使条纹图案彼此厚度增加时，将容易造成干涉纹发生。因此，上述的新型金属网格设计的触控显示屏关键技术之二的金属网格设计原理图，虽然有效减小金属网格的线宽，但其相邻的条纹图案排列规律且产生重叠或交叉点，也会产生光学干涉纹。

为消除上述光学干涉纹，参见附图4的金属网格设计原理图对金属网格进行改进，所述金属网格为菱形的重复单元，包括4个子金属网格，所述子金属网格也为菱形，在菱形子金属网格的两组对边上设置有两条交叉连接的搭桥，以将菱形子金属网格的两组对边的中点连接，所述4个子金属网格中两条交叉连接的搭桥的形状分别为：交叉连接的两条直线、交叉连接的两条正弦曲线、交叉连接的两条半圆曲线、交叉连接的一条直线和一条正弦曲线。所示金属网格的多个重复单元中，每个重复单元内都包括4种不同的图案，其不规则的排布可有效的防止光学干涉纹的产生。

从原理上来讲，光学干涉纹为人眼对周期性结构的分辨，人眼对光学干涉纹的感受与两个客观因素有关，即条纹的周期和条纹的明暗对比度，当条纹的明度对比度很大时，即使条纹周期足够大，人眼也不一定能分辨。

因此可对电容层中的黑化层做进一步的改进，所述金属网格包括4个子金属网格，所述子金属网格也为菱形，在菱形子金属网格的两组对边上设置有两条交叉连接的搭桥以将菱形金属网格的两组对边的中点连接，在显示方向侧，即电容层的顶面侧，将两条交叉连接的搭桥对应的第一黑化层替换成亮色明度的白化层。所述第一黑化层为暗色明度，由在树脂中混合了炭黑、碳纳米管等材料得到的黑色树脂层。所述白化层为亮色明度，由在树脂中混合了TiO2、ZrO2、Al2O3、SiO2粒子等材料得到的白色树脂构成。具体的改进的电容层工艺流程图如图5a-c所示，在电容层的顶面侧旋涂一层厚度2~3um的光刻胶，将光刻胶烘烤固化后，再将光刻胶进行曝光、显影、蚀刻，去除两条交叉连接的搭桥对应的第一黑化层，再旋涂一层白化层以填充蚀刻凹槽，再进行化学机械研磨降低白化层的厚度至与第一黑化层齐平，再进行剥膜处理，将光刻胶去除。利用了明度对比对轮廓形状勾勒的重要作用，将其利用到显示基板中，从而消除具有相同的周期性排布的网格结构的光学干涉作用，进一步防止光学干涉纹的产生，为人眼视觉带来的较佳的显示效果。

至此，已经详细描述了本公开的实施例。为了避免遮蔽本公开的构思，没有描述本领域所公知的一些细节。本领域技术人员根据上面的描述，完全可以明白如何实施这里公开的技术方案。

尽管已经参考本公开的实施例描述了本公开，但要理解本公开不限于实施例和构造。本公开意在覆盖各种修改和等价布置。此外，除却所述的各种组合和配置之外，其它包括更多、更少的元件或者只包括单个元件的组合和配置也落在本公开的精神和范围内。

Claims (10)

1.一种金属网格触控显示屏结构，由上往下依次包括：盖板（1）、粘结剂（2）、第一黑化层（3）、电容感应层（4）、第二黑化层（5）、传感基材（6）、第三黑化层（7）、电容驱动层（8）、第四黑化层（9）、粘结剂（10）、液晶显示模组（11）；所述电容感应层（4）是位于所述传感基材（6）一面的一层厚度为400nm的导电层，通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和金属网格，其中所述金属网格的线宽为2um，所述边缘走线的线宽为10um、线距为10um；所述电容驱动层（8）是位于所述传感基材（6）另一面的一层厚度为400nm的导电层，通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和金属网格，其中所述金属的线宽2um，所述边缘走线的线宽为10um、线距为10um。

2.根据权利要求1所述的金属网格触控显示屏结构，其特征在于，所述金属网格为菱形的重复单元，在菱形金属网格的两组对边上设置有两条交叉连接的搭桥，以将菱形金属网格的两组对边的中点连接，从而网格设计线距减少一半，网格设计节点数增加至两倍，单个节点的方阻大约为3Ω/□。

3.根据权利要求1所述的金属网格触控显示屏结构，其特征在于，所述电容感应层的导电材料是Cu；所述电容驱动层的导电材料是Cu。

4.根据权利要求1所述的金属网格触控显示屏结构，其特征在于，所述黑化层是一种具有遮蔽作用的黑色树脂层，其厚度大约为10~20nm。

5.根据权利要求1所述的金属网格触控显示屏结构，其特征在于，所述金属网格为菱形的重复单元，包括4个子金属网格，所述子金属网格也为菱形，在菱形子金属网格的两组对边上设置有两条交叉连接的搭桥，以将菱形子金属网格的两组对边的中点连接，所述4个子金属网格中两条交叉连接的搭桥的形状分别为：交叉连接的两条直线、交叉连接的两条正弦曲线、交叉连接的两条半圆曲线、交叉连接的一条直线和一条正弦曲线。

6.一种金属网格触控显示屏的制作方法，在传感基材（6）的两面同时镀膜一层厚度为10~20nm的第二黑化层（5）和第三黑化层（7），再在第二黑化层（5）和三黑化层（7）表面蒸镀一层厚度为400nm的导电层，然后在导电层表面镀膜一层厚度为10~20nm的第一黑化层（3）和第四黑化层（9），再在第一黑化层（3）和第四黑化层（9）表面旋涂一层厚度为1~2um光刻胶，将光刻胶烘烤固化后，再将光刻胶进行曝光、显影、蚀刻，得到电容感应层（4）和电容驱动层（8），最后进行剥膜处理，将光刻胶去除，得到电容层（12）；所述电容感应层（4）通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和金属网格，其中所述金属网格的线宽为2um，所述边缘走线的线宽为10um、线距为10um；所述电容驱动层（8）通过曝光、显影、蚀刻的黄光制程，得到边缘走线和金属网格，其中所述金属的线宽2um，所述边缘走线的线宽为10um、线距为10um。

7.根据权利要求6所述的金属网格触控显示屏的制作方法，其特征在于，所述金属网格为菱形的重复单元，在菱形金属网格的两组对边上设置两条交叉连接的搭桥，以将菱形金属网格的两组对边的中点连接，从而网格设计线距减少一半，网格设计节点数增加至两倍，单个节点的方阻大约为3Ω/□。

8.根据权利要求6所述的金属网格触控显示屏的制作方法，其特征在于，所述电容感应层的导电材料是Cu；所述电容驱动层的导电材料是Cu。

9.根据权利要求6所述的金属网格触控显示屏的制作方法，其特征在于，所述黑化层是一种具有遮蔽作用的黑色树脂层，其厚度大约为10~20nm。

10.根据权利要求6所述的金属网格触控显示屏的制作方法，其特征在于，所述金属网格为菱形的重复单元，包括4个子金属网格，所述子金属网格也为菱形，在菱形子金属网格的两组对边上设置有两条交叉连接的搭桥，以将菱形子金属网格的两组对边的中点连接，所述4个子金属网格中两条交叉连接的搭桥的形状分别为：交叉连接的两条直线、交叉连接的两条正弦曲线、交叉连接的两条半圆曲线、交叉连接的一条直线和一条正弦曲线。

Images