CN113635218B - 一种研磨抛光方法及其装置 - Google Patents

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Abstract

一种研磨抛光方法及其装置，包括匹配的磨盘和基座；磨盘的底面设有中点位于磨盘中心轴线上的螺型槽；磨盘内设有磨粉腔和磨液腔；磨粉腔的出料口沿螺型槽的任一处设于磨盘的底面；且出料口内设有球槽，球槽内设滚球，滚球的表面设有若干料槽；磨液腔设于磨粉腔的一侧，出液口沿螺型槽设于磨盘的底面；且出液口内设有球阀，球阀的一侧设有拨杆，另一侧设有复位杆；复位杆的两侧分别接复位弹簧，拨杆透入球槽内，由滚球表面的料槽拨动导通出液口。通过在磨盘内并设磨粉腔、磨液腔和滚球及受滚球拨动的球阀，便于根据研磨需求，添加研磨粉、研磨液，便于在同一个设备内连续地实现不同精度的研磨，具有很强的实用性和广泛的适用性。

Description

一种研磨抛光方法及其装置
技术领域
本发明涉及一种研磨抛光方法，具体涉及一种研磨抛光方法及其装置。
背景技术
现代工业的飞速发展对工件的表面质量提出了更高的要求，表面质量不仅影响工件的外观，还直接影响工件的使用性能和寿命，表面质量的好坏对模具来说尤其重要。在现代制造行业中，模具制造举足轻重，成为一个国家工业水平的重要标志。模具是以复制方式进行零件制造的一种工具，近年来，模具制造业的发展日趋迅猛，在机械工业中的应用非常广泛。随着科学技术发展，国内外市场竞争的加剧，对模具的要求也越来越高。
目前，表面粗糙度已成为衡量模具产品质量的重要标志，只有模具表面的粗糙度低， 才能使得用其加工的产品的粗糙度也低。因此表面抛光处理己逐渐成为模具、工程机械、医疗设备和航空航天工业中某些关键零件表面加工的重要手段。
常规的研磨抛光有粗抛光、半精抛光、精抛光，结合不同种类的抛光剂又分物理抛光和化学抛光，而不同的抛光方式需要切换不同的抛光设备，成本高，切换比较繁琐，费时费力，因此需要一种全新的研磨抛光方法及其装置。
发明内容
为解决现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种研磨抛光方法及其装置。
为了实现上述目标，本发明采用如下的技术方案：
一种研磨抛光装置，包括匹配的磨盘和基座；
所述磨盘的底面设有螺型槽，且螺型槽的中点位于磨盘的中心轴线上；
磨盘内设有供料装置，包括磨粉腔和磨液腔；
磨粉腔的出料口沿螺型槽的任一处设于磨盘的底面；且出料口内设有球槽，球槽内设滚球，滚球的表面设有若干料槽；
磨液腔设于磨粉腔的一侧，出液口沿螺型槽设于磨盘的底面；且出液口内设有球阀；
所述球阀的一侧设有拨杆，另一侧设有复位杆；所述复位杆的两侧分别接一个复位弹簧，所述拨杆透入球槽内，由滚球表面的料槽拨动导通出液口。
上述螺型槽的形状呈对数螺线状、费马螺线状或阿基米德螺线状。
上述磨盘内还设有负压回吸管，管口沿磨盘的底面的螺型槽的任一处设置。
进一步的，上述负压回吸管的管口设于磨盘的底面的中轴线上，磨粉腔的出料口设于螺型槽的端部。
上述基座包括底座和通过升降杆设于底座顶面的升降台。
进一步的，上述底座沿升降台的周圈设有限位栏，所述限位栏上设有若干横置的紧固螺栓。
进一步的，上述升降台顶面的边缘处呈弧线形设置，且沿弧线形方向设有若干平行的弧形槽；限位栏设有若干与弧形槽匹配的第一导流口。
进一步的，上述升降台底面的边缘处设有纵向的限位板，所述限位板沿底座上的限位槽移动。
更进一步的，上述限位板的外侧面设有透过升降台顶面的导流槽，所述限位槽的底部设有第二导流口。
一种研磨抛光方法，包括以下步骤：
S1、将待磨件水平的放置在升降台的顶面，调节升降台的高度，使得待磨件的待磨面不低于限位栏；再调节紧固螺栓，将待磨件固定在限位栏内；
S2、调节磨盘的底面和待磨面接触后，转动磨盘联动滚球转动，由料槽将磨粉腔内的研磨粉导入磨盘的底面；
S3、转动的滚球，通过料槽将磨粉腔内的研磨粉导入磨盘的底面，和/或通过料槽拨动拨杆，将磨液腔内的研磨液导入磨盘的底面；
S4、转动的螺型槽疏导研料，所述研料包括上述的研磨粉和/或研磨液，并将研料导入磨盘的底面的各处；
S5、研磨产生的研磨屑经螺型槽导流至负压回吸管的管口吸走。
本发明的有益之处在于：
本发明的一种研磨抛光方法及其装置，通过在磨盘内并设磨粉腔、磨液腔，便于根据研磨需求，添加研磨粉和研磨液，以适配不同精度的研磨需求。通过球槽内的受摩擦滚动的滚球表面的料槽，将研磨腔内的研磨粉导入磨盘的底面；通过滚动的滚球表面的料槽波动磨液腔内的球阀，使得球阀在复位弹簧的作用下不停地摆动，通过间断的导通将研磨液导入磨盘的底面，且可以在停止研磨的同时，同步实现膜液腔的闭合。通过螺型槽，疏导研磨粉、研磨液沿螺线均布于整个磨盘的底面，同时，便于研磨屑的导出，还便于磨盘的底面之间的热量的散溢。
本发明的一种研磨抛光方法及其装置，其结构简单，使用方便，可灵活添加研磨粉、研磨液，在同一个设备内连续地实现不同精度的研磨，研磨的散热、降温效果好，具有很强的实用性和广泛的适用性。
附图说明
图1为磨盘的结构示意图。
图2为基座的结构示意图。
图3为对数螺线的线型示意图。
图4为费马螺线的线型示意图。
附图中标记的含义如下：1、磨盘，2、磨粉腔，3、磨液腔，4、负压回吸管，5、料槽，6、滚球，7、球阀，8、复位杆，9、复位弹簧，10、底座，11、升降台，12、升降杆，13、紧固螺栓，14、第一导流口，15、限位板，16、第二导流口。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明作具体的介绍。
一种研磨抛光装置，由磨盘1和基座组成。
磨盘1的底面设有螺型槽，螺型槽的螺线形状呈如图3所示的对数螺线或如图4所示的费马螺线或其他如阿基米德螺线等螺线形。且，螺型槽的中点位于磨盘的中心轴线上。磨盘1内设有负压回吸管4，负压回吸管的管口设于磨盘1的底面的中轴线上。
磨盘1内设有供料装置，包括相邻的磨粉腔2、磨液腔3；
磨粉腔2的出料口和磨液腔3的出液口均沿螺型槽设于磨盘1的底面；出料口内设有球槽，球槽内设滚球6，滚球6的表面设有若干料槽5；出液口沿螺型槽设于磨盘1的底面；且出液口内设有球阀7；球阀7的一侧设有拨杆，另一侧设有两侧分别固接复位弹簧9的复位杆8；拨杆的端部透入（透过磨粉腔和磨液腔的间隔，伸入）一侧的球槽内，由滚球6表面的料槽5拨动球阀7摆动，进而通过球阀7内的通道导通磨液腔3和出液口。
优选的，出料口和出液口设于螺型槽的端部。
磨盘1的顶部根据使用需求，可由顶部的电机轴转动并设置伸缩杆，以实现转动和高度调节；例如，磨盘1悬置的固定于的电机的轴底，电机的顶部固接液压伸缩杆。
基座由底座10和升降台11组成。
底座10的顶面呈凹槽型设置，升降台11置于凹槽内，底部设有升降杆12以调节其在凹槽内的高度。
凹槽的周边呈限位栏环绕于升降台11的周圈，限位栏上设有若干横置的紧固螺栓13。
升降台11顶面的边缘处呈弧线形，且沿弧线形方向设有若干平行的弧形槽；限位栏设有若干与弧形槽匹配的第一导流口14。
升降台11底面的边缘处设有纵向的限位板15，限位板15沿底座10内的限位槽上下移动。且限位板15的外侧面设有透过升降台11顶面的导流槽，限位槽的底部设有第二导流口16。
一种研磨抛光方法，包括以下步骤：
S1、将待磨件水平的放置在升降台11的顶面，调节升降台11的高度，使得待磨件的待磨面不低于限位栏；再调节紧固螺栓13，将待磨件固定在限位栏内；
S2、调节磨盘1的底面和待磨面接触后，转动磨盘1联动滚球6转动，由料槽5将磨粉腔2内的研磨粉导入磨盘的底面；
S3、转动的滚球6，通过料槽5将磨粉腔2内的研磨粉导入磨盘的底面，和/或通过料槽5拨动拨杆，将磨液腔3内的研磨液导入磨盘的底面；
S4、转动的螺型槽疏导研料，研料包括上述的研磨粉和/或研磨液，并将研料导入磨盘的底面的各处；
S5、研磨产生的研磨屑经螺型槽导流至负压回吸管4的管口吸走。
实际使用时，
根据研磨的需求，可先单独在磨粉腔2内添加一定量的研磨粉。转动的磨盘1持续将研磨粉导入磨盘的底面，一部分研磨粉由螺型槽沿槽移动，再由转动的槽边将槽内的研磨粉刮入磨盘的底面，进行面的研磨。
研磨粉的粒径可由大粒径逐渐降低至小粒径，以实现由同一设备实现粗磨、半精磨和精磨。
或在添加研磨粉的同时，在磨液腔3内导入研磨液，同步实现磨盘的底面的降温和利用研磨液的进一步的精细研磨，至更精细的单独利用研磨液进行研磨。
被研磨产生的研磨屑，一部分经螺型槽导流至中心处，由回吸管的管口吸走清除，同时回吸的负压沿螺型槽为研磨粉、研磨液的流动增加动力；另一部分的研磨屑，被挤压出磨盘的底面至升降台11的弧形边缘，沿弧形槽经第一导流口14流出，或沿导流槽经第二导流口16流出。研磨屑的及时排出，有效降低了对磨盘的底面的二次磨损。
本发明未设定磨盘1的底面和升降台11顶面的相对面积比，优选的，磨盘1可设置为可平面移动，即升降台11顶面的面积较大，通过可在平面移动的磨盘1，联动螺型槽的移动，增加打磨效果。且，优选的，螺型槽的槽边可设置例如弧形的倒角，便于研料在离心作用下导入磨盘的底面。
滚球6的材质可选用弹性材质，以防止摩擦的滚球6磨盘的底面损失；或在球槽内设置对滚球6的弹性装置，可使得滚球6受摩滚动擦的同时，可弹性的回笼在球槽内。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，上述实施例不以任何形式限制本发明，凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案，均落在本发明的保护范围内。

Claims (10)

1.一种研磨抛光装置，其特征在于，包括匹配的磨盘和基座；
所述磨盘的底面设有螺型槽，所述螺型槽的中点位于磨盘的中心轴线上；
磨盘内设有供料装置，所述供料装置包括磨粉腔和磨液腔；
磨粉腔的出料口沿螺型槽的任一处设于磨盘的底面；且出料口内设有球槽，球槽内设滚球，滚球的表面设有若干料槽；
磨液腔设于磨粉腔的一侧，出液口沿螺型槽设于磨盘的底面；且出液口内设有球阀；所述球阀的一侧设有拨杆，另一侧设有复位杆；所述复位杆的两侧分别接一个复位弹簧，所述拨杆透入球槽内，由滚球表面的料槽拨动导通出液口；
相对待磨面转动的磨盘联动滚球转动，转动的滚球，通过料槽将磨粉腔内的研磨粉导入磨盘的底面，和/或通过料槽拨动拨杆，将磨液腔内的研磨液导入磨盘的底面；
转动的螺型槽疏导研料，所述研料包括上述的研磨粉和/或研磨液，并将研料导入磨盘的底面的各处。
2.根据权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，所述螺型槽的形状呈对数螺线状、费马螺线状或阿基米德螺线状。
3.根据权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，所述磨盘内还设有负压回吸管，所述负压回吸管的管口沿磨盘的底面的螺型槽的任一处设置。
4.根据权利要求3所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，所述负压回吸管的管口设于磨盘的底面的中轴线上，磨粉腔的出料口设于螺型槽的端部。
5.根据权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，所述基座包括底座和通过升降杆设于底座顶面的升降台。
6.根据权利要求5所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，所述底座沿升降台的周圈设有限位栏，所述限位栏上设有若干横置的紧固螺栓。
7.根据权利要求5所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述升降台顶面的边缘处呈弧线形设置，且沿弧线形方向设有若干平行的弧形槽；限位栏设有若干与弧形槽匹配的第一导流口。
8.根据权利要求5所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述升降台底面的边缘处设有纵向的限位板，所述限位板沿底座上的限位槽移动。
9.根据权利要求8所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述限位板的外侧面设有透过升降台顶面的导流槽，所述限位槽的底部设有第二导流口。
10.一种研磨抛光方法，其特征在于，适用于权利要求1-9任一所述的研磨抛光装置，包括以下步骤：
S1、将待磨件水平的放置在升降台的顶面，调节升降台的高度，使得待磨件的待磨面不低于限位栏；再调节紧固螺栓，将待磨件固定在限位栏内；
S2、调节磨盘的底面和待磨面接触后，转动磨盘联动滚球转动，
S3、转动的滚球，通过料槽将磨粉腔内的研磨粉导入磨盘的底面，和/或通过料槽拨动拨杆，将磨液腔内的研磨液导入磨盘的底面；
S4、转动的螺型槽疏导研料，所述研料包括上述的研磨粉和/或研磨液，并将研料导入磨盘的底面的各处；
S5、研磨产生的研磨屑经螺型槽导流至负压回吸管的管口吸走。
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