CN113620611A - 一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法 - Google Patents

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高鑫
倪宏达
孙桂东
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Anhui Jingchi Photoelectric Technology Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00Etching, surface-brightening or pickling compositions
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    • C09K13/08Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid containing a fluorine compound

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Abstract

本发明公开了一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,包括以下步骤:S1、制备蚀刻液:将氟化氢铵、氟化氢钾、氟化铵、硫酸、二氧化钛、改性填料混合并搅拌均匀后加入蒸馏水中;S2、预清洗:将待处理的高硼硅玻璃清洗,S3、局部保护:将不需要蚀刻的部位用屏蔽膜覆盖;S4、蚀刻:将经过S3处理后的高硼硅玻璃放入蚀刻液中进行浸泡,取出并干燥。本发明的优点:改性填料中加入了活性炭,使得能够加快蚀刻液的溶解速度,在短时间内蚀刻液的能够发挥出更好的作用;改性填料中加入了粘结剂,使得蚀刻液能够更好的与高硼硅玻璃接触,提高蚀刻效果;改性填料中加入了耐磨剂,使得蚀刻完成的高硼硅玻璃具有良好的耐磨性,进一步提高防炫效果。

Description

一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法
技术领域
本发明涉及浮法玻璃检测生产技术领域,尤其涉及一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法。
背景技术
高硼硅玻璃是利用玻璃在高温状态下导电的特性,通过在玻璃内部加热来实现玻璃熔化,经先进生产工艺加工而成。高硼硅玻璃具有非常低的热膨胀系数耐高温,耐200度的温差剧变,耐酸耐碱耐水,抗腐蚀性能优越,高硼硅玻璃所具有的这些特性决定了它比普通的硅酸钠玻璃更难加工和处理,用一般的蒙砂方法进行蚀刻,得到的蒙砂效果差、蒙砂颗粒不均匀。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,包括以下步骤:
S1、制备蚀刻液:将氟化氢铵、氟化氢钾、氟化铵、硫酸、二氧化钛、改性填料混合并搅拌均匀后加入蒸馏水中;
S2、预清洗:将待处理的高硼硅玻璃采用弱酸或活性清洗剂清洗,清洗完成后放入酒精中浸泡,取出后干燥;
S3、局部保护:将干燥后的高硼硅玻璃不需要蚀刻的部位用屏蔽膜覆盖;
S4、蚀刻:将经过S3处理后的高硼硅玻璃放入蚀刻液中进行浸泡,取出并干燥后使得高硼硅玻璃能够防眩光。
优选地,所述蚀刻液的原料按重量比为:氟化氢铵13-21份、氟化氢钾12-18份、氟化铵15-25份、硫酸33-52份、二氧化钛1-6份、改性填料18-33份、蒸馏水300-500份。
优选地,所述蚀刻液的原料按重量比为:氟化氢铵18份、氟化氢钾14份、氟化铵19份、硫酸38份、二氧化钛4份、改性填料28份、蒸馏水448份。
优选地,所述改性填料的原料包括钛白粉、氧化钙、淀粉、粘结剂、耐磨剂。
优选地,所述粘结剂为有色2-氰基丙烯酸酯。
优选地,所述耐磨剂为高耐磨玻璃粉。
本发明的优点在于:本发明蚀刻液的改性填料中加入了活性炭,使得能够加快蚀刻液的溶解速度,在短时间内蚀刻液的能够发挥出更好的作用;本发明蚀刻液的改性填料中加入了粘结剂,使得蚀刻液能够更好的与高硼硅玻璃接触,提高蚀刻效果;本发明蚀刻液的改性填料中加入了耐磨剂,使得蚀刻完成的高硼硅玻璃具有良好的耐磨性,进一步提高防炫效果。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例1
本发明提供的一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,包括以下步骤:
S1、制备蚀刻液:将氟化氢铵、氟化氢钾、氟化铵、硫酸、二氧化钛、改性填料混合并搅拌均匀后加入蒸馏水中。蚀刻液的原料按重量比为:氟化氢铵20份、氟化氢钾15份、氟化铵20份、硫酸50份、二氧化钛5份、改性填料30份、蒸馏水420份。改性填料的原料包括钛白粉、氧化钙、淀粉、粘结剂、耐磨剂。粘结剂为有色2-氰基丙烯酸酯。耐磨剂为高耐磨玻璃粉。
S2、预清洗:将待处理的高硼硅玻璃采用弱酸或活性清洗剂清洗,清洗完成后放入酒精中浸泡,取出后干燥。
S3、局部保护:将干燥后的高硼硅玻璃不需要蚀刻的部位用屏蔽膜覆盖,屏蔽膜采用聚四氟乙烯薄膜。
S4、蚀刻:将经过S3处理后的高硼硅玻璃放入蚀刻液中进行浸泡4-39分钟,取出并干燥后使得高硼硅玻璃能够防眩光。
实施例1
本发明提供的一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,包括以下步骤:
S1、制备蚀刻液:将氟化氢铵、氟化氢钾、氟化铵、硫酸、二氧化钛、改性填料混合并搅拌均匀后加入蒸馏水中。所述蚀刻液的原料按重量比为:氟化氢铵18份、氟化氢钾14份、氟化铵19份、硫酸38份、二氧化钛4份、改性填料28份、蒸馏水448份。改性填料的原料包括钛白粉、氧化钙、淀粉、粘结剂、耐磨剂。粘结剂为有色2-氰基丙烯酸酯。耐磨剂为高耐磨玻璃粉。
S2、预清洗:将待处理的高硼硅玻璃采用弱酸或活性清洗剂清洗,清洗完成后放入酒精中浸泡,取出后干燥。
S3、局部保护:将干燥后的高硼硅玻璃不需要蚀刻的部位用屏蔽膜覆盖,屏蔽膜采用聚四氟乙烯薄膜。
S4、蚀刻:将经过S3处理后的高硼硅玻璃放入蚀刻液中进行浸泡18分钟,取出并干燥后使得高硼硅玻璃能够防眩光。

Claims (6)

1.一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、制备蚀刻液:将氟化氢铵、氟化氢钾、氟化铵、硫酸、二氧化钛、改性填料混合并搅拌均匀后加入蒸馏水中;
S2、预清洗:将待处理的高硼硅玻璃采用弱酸或活性清洗剂清洗,清洗完成后放入酒精中浸泡,取出后干燥;
S3、局部保护:将干燥后的高硼硅玻璃不需要蚀刻的部位用屏蔽膜覆盖;
S4、蚀刻:将经过S3处理后的高硼硅玻璃放入蚀刻液中进行浸泡,取出并干燥后使得高硼硅玻璃能够防眩光。
2.根据权利要求1所述的一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,其特征在于:所述蚀刻液的原料按重量比为:氟化氢铵13-21份、氟化氢钾12-18份、氟化铵15-25份、硫酸33-52份、二氧化钛1-6份、改性填料18-33份、蒸馏水300-500份。
3.根据权利要求2所述的一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,其特征在于:所述蚀刻液的原料按重量比为:氟化氢铵18份、氟化氢钾14份、氟化铵19份、硫酸38份、二氧化钛4份、改性填料28份、蒸馏水448份。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,其特征在于:所述改性填料的原料包括钛白粉、氧化钙、淀粉、粘结剂、耐磨剂。
5.根据权利要求4所述的一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,其特征在于:所述粘结剂为有色2-氰基丙烯酸酯。
6.根据权利要求4所述的一种高硼硅玻璃防眩光的制备方法,其特征在于:所述耐磨剂为高耐磨玻璃粉。
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