CN113574024A - 具有抗反射涂层的玻璃制品 - Google Patents

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Abstract

玻璃制品包括玻璃基材与在玻璃基材上方形成的涂层。涂层包括沉积在玻璃基材上方的第一抗反射层，该第一层具有1.6以上的折射指数和小于λ/(4*n)的厚度。第二抗反射层沉积在第一抗反射层上方，该第二抗反射层的厚度大于第一抗反射层的厚度和折射指数小于第一抗反射层的折射指数。玻璃制品表现出小于6.0％的总可见光反射比。

Description

具有抗反射涂层的玻璃制品
发明背景
本发明涉及涂覆的玻璃制品。更具体地，发明涉及具有抗反射涂层的玻璃制品。
窗和触控屏电子器件常由玻璃制成。来自窗或触控屏器件中玻璃的过度反射可为不理想的。提供这样的玻璃将是有利的：其表现出低可见光反射和高可见光透射以便改进窗的性能或器件的可读性和可用性。
发明内容
玻璃制品包括玻璃基材与在玻璃基材上方形成的涂层。涂层包括沉积在玻璃基材上方的第一抗反射层，该第一层具有1.6以上的折射指数和小于λ/(4*n)的厚度。第二抗反射层沉积在第一抗反射层上方，该第二抗反射层的厚度大于第一抗反射层的厚度和折射指数小于第一抗反射层的折射指数。玻璃制品表现出小于6.0％的总可见光反射比。
附图说明
当根据附图考虑时，从以下详细描述，本发明的以上以及其它优点将对本领域技术人员变得显而易见，其中：
图1是按照本发明的玻璃制品的实施方案的截面图；和
图2是实施按照本发明实施方案的浮法玻璃制造方法的装置垂直截面的示意图。
具体实施方式
应理解，本发明可采取各种替代的取向和步骤顺序，除非有明确地相反规定。还应理解，附图中说明的和在以下说明书中描述的具体层、制品、方法和工艺仅是本发明构思的示例性实施方案。因此，不认为与所公开的实施方案相关的具体尺寸、方向或其它物理特性是限制性的，除非另外明确说明。
在一实施方案中，提供了玻璃制品10。将在以下参考图1-2描述玻璃制品10的实施方案。玻璃制品10的实施方案可用作单个玻璃片。在一种这样的实施方案中，玻璃制品10用作窗组件的一部分。在另一实施方案中，玻璃制品10可用作显示组件。然而应理解，可在其它建筑、电子、住宅、商业、光伏、汽车和航空应用中利用玻璃制品10的实施方案。
玻璃制品10包含玻璃基材12。在例如图1和2中说明玻璃基材12的实施方案。玻璃基材12的厚度可在实施方案间变化。在一些实施方案中，玻璃基材12不限于特定的厚度。然而，在某些实施方案中，玻璃基材12可具有20.0毫米(mm)以下的厚度。优选地，玻璃基材12可具有0.5-20.0mm的厚度。在一些实施方案中，玻璃基材12可具有2.0-20.0mm的厚度。
玻璃基材12的透明度或吸收特性可在玻璃制品10的实施方案间变化。例如，在一些实施方案中，玻璃基材12是透明的。在玻璃基材12是透明的实施方案中，玻璃基材12可表现出在7.0％和9.0％之间的总可见光反射比(光源D65，十度观察角)。在其它实施方案中，可优选的是，玻璃基材12具有低的铁含量，这允许玻璃基材12表现出高可见光透射率。在一些实施方案中，玻璃基材12可包含0.15重量％Fe2O3(总铁)或更少。如本文所使用的，措辞“总铁”是指在玻璃中含有的铁氧化物(FeO+Fe2O3)的总重量。更优选地，玻璃基材12包含0.1重量％Fe2O3(总铁)或更少，并且甚至更优选0.02重量％Fe2O3(总铁)或更少。在一实施方案中，玻璃基材12可包含0.012重量％Fe2O3(总铁)。在这些实施方案中，玻璃基材12可表现出在CIELAB色度系统(光源C，10度观察角)中91％以上的总可见光透射率。此外，玻璃基材12的颜色可在实施方案间变化。在一实施方案中，玻璃基材12可基本上透明。在其它实施方案中，玻璃基材12可为有色的或着色的。
玻璃基材12可具有本领域已知的常规玻璃组成。然而，优选的是玻璃基材12是钠钙硅玻璃。当玻璃基材12是钠钙硅玻璃时，玻璃基材12可包含68-74重量％SiO2、0-3重量％Al2O3、0-6重量％MgO、5-14重量％CaO、10-16重量％Na2O、0-2重量％SO3、0.005-2重量％Fe2O3和0-5重量％K2O。玻璃还可含有其它添加剂例如精炼剂，其将通常以至多2％的量存在。在这些实施方案中，玻璃基材12可为浮法玻璃带。在玻璃基材12是浮法玻璃带的一部分的实施方案中，玻璃基材12可为透明的浮法玻璃。在这种实施方案的一些中，透明的浮法玻璃可意指具有如在相关标准例如BS EN 572-1:2012+A1:2016和BS EN 572-2:2012中定义的组成的玻璃。然而，玻璃基材12可具有另一组成，例如硼硅酸盐或铝硅酸盐组成。
涂层14在玻璃基材12上方形成。涂层14具有抗反射变化性，因为它能够使玻璃制品10表现出可见光反射率，其小于由玻璃基材12单独表现出的可见光反射率。有利地，还构造涂层14以提供比已知设计通过玻璃制品10的更大可见光透射率。
优选地，涂层14在玻璃基材12的第一主表面16上直接形成。当涂层14在玻璃基材12上直接形成时，在涂层14和玻璃基材12之间没有中介涂层。玻璃基材12的第二主表面18和玻璃制品10的相对侧可为未涂覆的。涂层14是抗反射的，因为它能够使玻璃制品10表现出可见光反射率，其小于由玻璃基材12表现出的可见光反射率。
在一实施方案中，涂层14是热解的。如本文使用的，术语“热解的”可指代与玻璃基材或另一层化学结合的涂层或其层。优选地，涂层14在动态沉积条件下形成。在这些实施方案中，玻璃基材12在其上或上方形成涂层14时移动。优选地，当形成涂层14时，玻璃基材12以例如大于3.175m/min(125in/min)的预定速率移动。在一实施方案中，当形成涂层14时，玻璃基材12以在3.175m/min(125in/min)和12.7m/min(600in/min)之间的速率移动。在这些实施方案中，可与玻璃基材12的制造一起形成一个或多个涂覆层20-26。优选地，使用公知的浮法玻璃制造工艺来制造玻璃基材12。
涂层14包含两个或更多个层，包括抗反射层24和26。优选地，涂层14包含三个或更多个层，包括阻挡层22和抗反射层24和26。在一些实施方案中，涂层14包含四个或更多个层，其中层20和22充当在玻璃基材12和抗反射层24和26之间的抑制虹彩中间层。在一实施方案中，涂层14可由四个层20、22、24和26组成。在该实施方案中，在层20、22、24、26之间没有中介层，和在第一层20和玻璃基材12之间没有(一个或多个)中介层。
因此，在一些实施方案中，涂层14包括在玻璃基材12上方沉积的第一抑制虹彩层20。更优选地，层20沉积在玻璃基材12的第一主表面16上方。在一实施方案中，层20直接沉积在玻璃基材12的第一主表面16上。当层20直接沉积在玻璃基材12的第一主表面16上时，在层20和玻璃基材12的第一主表面16之间没有中介层。
优选地，第一抑制虹彩层20具有1.6以上的折射指数。在某些实施方案中，层20的折射指数为1.8以上。在一种这样的实施方案中，层20的折射指数在1.8和2.0之间。在另一实施方案中，层20的折射指数在2.1和2.5之间。应注意，本文描述的折射指数值报道为在400-780nm的电磁光谱上的平均值。
优选地，第一抑制虹彩层20是热解的。在某些实施方案中，层20包含无机金属氧化物。在一些实施方案中，层20包含氧化锡(SnO2)。当层20包含氧化锡时，优选的是，层20包含锡和氧。然而，在这些实施方案中，层20还可包含其它成分，包括痕量或更多的其它元素例如碳。如本文使用的，措辞“痕量”是占小于0.01重量％的涂覆层的涂覆层中成分的量。在某些实施方案中，层20可基本上由氧化锡组成。在其它实施方案中，层20可包含氧化铌(Nb2O5)、二氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)或另一种过渡金属氧化物。氧化锡、氧化铌、氧化钛和氧化钽是优选的金属氧化物，因为每种具有相对高的折射指数和电阻。应注意，优选的是，通过例如添加掺杂剂如氟或另一材料至层20没有减小层20的电阻。如此，优选的是，层20是未掺杂的。
层20具有50纳米(nm)以下的厚度。优选地，层20的厚度为30nm以下。在某些实施方案中，层20的厚度为5-25nm。
第二抑制虹彩层22可沉积在第一抑制虹彩层20上方，并优选直接在其上。因此，层20将层22与玻璃基材12分开。当层22直接沉积在层20上时，在层20和层22之间没有中介层。在某些实施方案中，层22是热解的。
优选地，层22具有50nm以下的厚度。在一些实施方案中，层22具有的厚度大于层20的厚度。优选地，层22的厚度为20-50nm。
第二抑制虹彩层22具有折射指数，该折射指数小于层20的折射指数。在一些实施方案中，层22具有1.6以下的折射指数。在一实施方案中，层22的折射指数在1.2和1.6之间。在其它实施方案中，层22的折射指数在1.2和1.5之间。
在某些实施方案中，优选的是，层22具有相对高的电阻。在这些实施方案中，可优选的是，第二层包含硅的氧化物。在一种这样的实施方案中，层22包含二氧化硅(SiO2)。在这些实施方案中，层22包含硅和氧。层22还可包括痕量的一种或多种额外成分例如碳。因此，在某些实施方案中，层22可基本上由二氧化硅组成。然而，表现出相对高电阻和期望的折射指数的其它材料可适用于第二层中。
因此，在某些实施方案中，层20和层22在玻璃基材12和抗反射层24和26之间形成抑制虹彩中间层。抑制虹彩中间层是有利的，因为它允许玻璃制品10在透射率和反射比中表现出中性颜色。在这种实施方案中，可优选的是，由层20和22一起形成的抑制虹彩中间层的厚度为500nm设计波长的约1/6-约1/12。
在其它实施方案中，在玻璃制品10在透射率和反射比中表现出中性颜色不是特别有利时，可省略抑制虹彩层20和22(未显示)。在其它实施方案中，可省略抑制虹彩层20，但可包括层22(未显示)以起到在玻璃基材12和第一抗反射层24之间的阻挡层的作用。在该情况下，层22将减小由涂覆的玻璃制品10所表现出的雾度。
第一抗反射层24沉积在玻璃基材12上方，并且除非省略，否则在层22上方。在包括层22的实施方案中，层24优选直接沉积在层22上。在该情况下，层22将层24与层20分开。当层24直接沉积在层22上时，在层24和层22之间没有中介层。优选的是，层24是热解的。
优选地，第一抗反射层24具有1.6以上的折射指数。在某些实施方案中，层24的折射指数为1.8以上。在一实施方案中，层24的折射指数在1.8和2.0之间。在其它实施方案中，层24的折射指数为2.0以上。在这些实施方案中，层24的折射指数可在2.1和2.4之间。
在某些实施方案中，层24包含无机金属氧化物。在一些实施方案中，层24包含氧化锡(SnO2)。氧化锡是优选材料，这是因为它的相对高的折射指数和电阻。适用于层24中的具有期望折射指数和电阻的其它材料包括氧化铌(Nb2O5)和氧化钽(Ta2O5)。因此，在一些实施方案中，层24包含氧化铌或氧化钽。其它无机金属氧化物材料可适用于层24中。同样，优选的是，例如通过添加掺杂剂如氟或另一材料至层24没有减小层24的电阻。如此，优选的是，层24是未掺杂的。
第一抗反射层24具有小于λ/(4*n)的厚度，其中λ等于可见光谱中的设计波长，和n等于层24的折射指数。优选地，通常在电磁光谱的可见光区域中心处或在550nm选择设计波长λ。优选的是，层24具有1.6以上的折射指数。在某些实施方案中，层24的折射指数为1.8以上。在一实施方案中，层24的折射指数在1.8和2.0之间。在另一实施方案中，层24的折射指数在2.1和2.4之间。
在以上规定的条件下，第一抗反射层24将具有小于70nm的厚度。在一实施方案中，层24具有5-60nm的厚度。优选地，当层24包含氧化锡时，层24具有20-60nm的厚度。甚至更优选地，当层24包含氧化锡时，它具有20-40nm的厚度。当层24包含氧化铌或氧化钽时，优选的是，层24具有5-40nm的厚度。
第二抗反射层26沉积在第一抗反射层24上方，并优选直接在其上。当层26直接沉积在层24上时，在层24和层26之间没有中介层。在一些实施方案中，层26可为涂层14的最外层。当层26是涂层14的最外层时，层26形成玻璃制品10的外表面28。
在一种实施方案中，如在图1中说明的一种，第二抗反射层26具有的厚度大于第一抗反射层24的厚度。优选地，层26的厚度为80nm以上。在一些实施方案中，层26的厚度为80-125nm。在一种实施方案中，层26的厚度为80-110nm。
第二抗反射层26具有的折射指数小于第一抗反射层24的折射指数。在一些实施方案中，层26具有1.6以下的折射指数。在一实施方案中，层26的折射指数在1.2和1.6之间。在其它实施方案中，层26的折射指数可在1.2和1.5之间。
在一实施方案中，第二抗反射层26包含硅的氧化物。优选地，层26包含二氧化硅(SiO2)。在这些实施方案中，层26包含硅和氧。层26还可包括痕量的一种或多种额外成分例如碳。因此，在某些实施方案中，层26可基本上由二氧化硅组成。然而，表现出相对高电阻和低折射指数的其它材料可适用于层26中。
以上描述的实施方案提供了表现出抗反射性质的玻璃制品10。关于玻璃制品10的总可见光反射比，以下将进一步讨论玻璃制品10的反射率。为了描述玻璃制品10，总可见光反射比将是指如从具有在玻璃基材12的表面上所形成涂层14的玻璃制品10一侧30(涂覆侧)测量的从玻璃制品10反射的可见光的百分比。本文中，总可见光反射比将根据CIELAB色度系统使用光源D65、十度观察角描述并可使用商购的分光光度计例如Perkin ElmerLambda 950测量。
有利地，玻璃制品10表现出小于6.0％的总可见光反射比(光源D65，十度观察角)。优选地，玻璃制品10表现出5.5％以下的总可见光反射比(光源D65，十度观察角)。在一实施方案中，玻璃制品10可表现出4.0％-5.5％的总可见光反射比(光源D65，十度观察角)。
在其它实施方案中，玻璃制品10表现出5.0％以下的总可见光反射比(光源D65，十度观察角)。在一种这样的实施方案中，玻璃制品10可表现出4.0％-5.0％的总可见光反射比(光源D65，十度观察角)。
玻璃制品10还可表现出高的可见光透射率。关于总可见光透射率，以下将进一步讨论玻璃制品10的可见光透射率。如本文讨论的，总可见光透射率将是指如从玻璃制品10的涂覆侧30测量的穿过玻璃制品10的可见光的百分比。本文中，总可见光透射率将根据CIELAB色度系统使用光源D65、十度观察角描述并可使用商购的分光光度计例如PerkinElmer Lambda 950测量。在一实施方案中，玻璃制品10表现出90％以上的总可见光透射率(光源D65，十度观察角)。优选地，玻璃制品10表现出92％以上且更优选94％以上的总可见光透射率(光源D65，十度观察角)。
玻璃制品10还可表现出有利的其它性质。例如，当包括层20和层22作为抑制虹彩中间层时，当以入射到玻璃制品10的90度角度观察时，玻璃制品10可对从玻璃制品10的涂覆侧30反射的可见光表现出中性颜色。从玻璃制品10的涂覆侧30反射的可见光的颜色在本文中可称作“反射颜色”。本文将根据CIELAB颜色系统使用光源D65，十度观察角来描述反射颜色。可使用商购的分光光度计例如Perkin Elmer Lambda 950测量反射颜色。同样，出于描述本文公开的玻璃制品10的实施方案的目的，从玻璃制品10的涂覆侧30反射的可见光的中性颜色具有在-6至6的范围内的a*值(光源D65，十度观察角)和在-6至6的范围内的b*值(光源D65，十度观察角)。优选地，玻璃制品10表现出a*值(光源D65，十度观察角)在从约-4至6范围内和b*值(光源D65，十度观察角)在从约-3值3范围内的反射颜色。
同样，玻璃制品10可表现出低雾度值，尤其是在包括层22的实施方案中。如本文讨论的，术语“雾度”是指当穿过玻璃制品10时散射的入射可见光的百分比。同样，如本文讨论的，从玻璃制品10的涂覆侧30测量由玻璃制品10表现出的雾度。在一实施方案中，玻璃制品10可表现出0.5％以下的雾度。优选地，玻璃制品10表现出0.4％以下的雾度。在一些实施方案中，由玻璃制品10表现出的雾度为0.1-0.4％。可使用商购的雾度计例如BYK-Gardnerhaze-gard plus测量由玻璃制品10表现出的雾度。
在某些实施方案中，可在触控屏电子器件中利用玻璃制品10。触控屏电子器件可为投射电容式触控、光学或红外种类。当在触控屏电子器件中利用玻璃制品10时，在器件中提供玻璃制品10使得涂层14面向器件外，并且当触控屏电子器件在使用时，使用者通过触控涂层14来控制器件。在这些实施方案中，优选的是，玻璃制品10表现出高的方块电阻。在一种这样的实施方案中，玻璃制品10表现出例如大于1.0x105ohm/sq的方块电阻。通过适当选择层20-26中每个的组成和厚度，玻璃制品10表现出例如大于1.0×105ohm/sq的方块电阻。在玻璃制品10的涂覆侧30上测量由玻璃制品10表现出的方块电阻。可使用4点探针法和商购的4点探针测量由玻璃制品10表现出的方块电阻。
如以上讨论，可与玻璃基材12的制造一起在公知的浮法玻璃制造工艺中形成涂层14。通常使用浮法玻璃装置例如图3中描述的装置32进行浮法玻璃制造工艺。然而应理解，本文描述的浮法玻璃装置32仅是这样装置的图示。
如图3中说明的，浮法玻璃装置32可包含通道部分33，熔融玻璃34沿着该通道部分从熔化炉输送到形成玻璃基材的浮法浴部分36。在这种实施方案中，玻璃基材将被称作玻璃带38。玻璃带38是在其上形成涂层的优选基材。然而应理解，玻璃基材不限于是玻璃带。
玻璃带38从浴部分36前进通过相邻的退火窑40和冷却部分42。浮法浴部分36包括：底部分44(其内容纳熔融锡浴46)，顶48，相对的侧壁(未描述)和端壁50、52。顶48、侧壁和端壁50、52一起限定包腔54，在该包腔中维持非氧化气氛以防止熔融锡46的氧化。
在操作中，熔融玻璃34沿着在调节炉闸门56下面的通道部分33流动并以控制的量向下流动至锡浴46的表面上。在熔融的锡表面上，熔融的玻璃34在重力和表面张力的影响以及某些机械影响下横向铺开，并且它前进穿过锡浴46从而形成玻璃带38。玻璃带38在提升辊58上方从槽部分36移出，然后在对齐的辊上输送通过退火窑40和冷却部分42。涂层14的沉积优选发生在浮法浴部分36中，但可进一步沿着玻璃生产线发生沉积，例如在浮法浴36和退火窑40之间的间隙60中或在退火窑40中。
如图2中说明，在浮法浴部分36内显示两个涂覆设备62、64。可利用涂覆设备62、63、64、65形成涂层14，其中利用每个涂覆设备而沉积涂覆层20-26之一。例如，在一实施方案中，利用第一涂覆设备62沉积层20，利用第二涂覆设备63沉积层22，利用第三涂覆设备64沉积层24，和利用第四涂覆65设备沉积层26。
在浮法浴部分36中维持合适的非氧化气氛，通常为氮或氮和氢的混合物(其中氮占主要)以防止包含浮法浴的熔融锡46的氧化。气氛气体通过与分配歧管72可操作连接的导管70进入。以足以补偿正常损失并维持在大于环境大气压力约0.001和约0.01个大气压之间的数量级上的微正压的速率引入非氧化性气体，从而防止外侧气氛的渗透。出于描述本发明的目的，认为以上提到的压力范围构成正常大气压力。
优选地，涂层14在基本大气压力下形成。因此，浮法浴部分36、退火窑40和/或在浮法浴36和退火窑40之间的间隙60中的压力可基本是大气压力。
通过在包腔54内的辐射加热器74提供维持在浮法浴部分36和包腔54中的期望温度制度的热量。窑40内的气氛通常是大气空气，因为没有包括冷却部分42并因此玻璃带38对环境大气开放。随后使玻璃带38冷却至环境温度。为了冷却玻璃带38，环境空气可由冷却部分42中的风扇76引导到玻璃带38。还可在退火窑40内提供加热器(未描述)用于当玻璃带输送通过退火窑时引起玻璃带38的温度按照预定制度逐渐减小。
实施例
仅出于进一步说明和公开玻璃制品的实施方案的目的提出以下实施例。
以下描述并在表1和2中说明在本发明范围内的玻璃制品的实例。在表1中，在本发明范围内的玻璃制品是Ex 1。以下还描述并在表1中说明不认为是本发明一部分的对照例C1。例Ex 1和C1是相仿的(modelled)并且每个表现出的性质是可预测的。
以下条件适用于Ex 1和C1的玻璃制品。Ex 1和C1的玻璃制品每个包括玻璃基材。玻璃基材具有钠钙硅组成并具有6毫米(mm)的厚度。在每个玻璃基材的第一主表面上提供涂层。每个涂层包括第一层、第二层、第三层和第四层。
对于C1，第一层直接在玻璃基材的第一主表面上。第一层包含氧化锡并具有15nm的厚度。第二层直接在第一层上。第二层包含二氧化硅并具有27nm的厚度。第三层直接在第二层上。第三层包含氧化锡(SnO2)并具有130nm的厚度。第四层直接在第三层上。第四层包含二氧化硅并具有85nm的厚度。因此，C1的玻璃制品具有玻璃/SnO2/SiO2/SnO2/SiO2布置。
对于Ex 1，第一层直接在玻璃基材的第一主表面上。第一层包含氧化锡并具有15nm的厚度。第二层直接在第一层上。第二层包含二氧化硅并具有27nm的厚度。第三层直接在第二层上。第三层包含未掺杂的氧化锡(SnO2)并具有30nm的厚度。第四层直接在第三层上。第四层包含二氧化硅并具有85nm的厚度。因此，Ex 1的玻璃制品具有玻璃/SnO2/SiO2/SnO2/SiO2布置。
表1中报道了Ex 1和C1的玻璃制品的总可见光透射率(Tvis)(光源D65，十度观察角)和总可见光反射(Rf)(光源D65，十度观察角)和反射颜色(Ra*、Rb*)(光源D65，十度观察角)。总可见光透射率和总可见光反射比表示为百分比。
表1
例 Tvis Rf Ra* Rb*
C1 91.1 4.9 -3.25 1.96
Ex 1 92.1 4.8 -0.96 -1.40
如表1中显示，当与C1的玻璃制品相比时，Ex 1的玻璃制品表现出改进的反射比和透射率性质。还应注意，Ex 1的玻璃制品对从玻璃制品的涂覆侧反射的可见光表现出中性颜色。
在表2中，在本发明范围内的玻璃制品是Ex 2。以下还描述并在表2中说明不认为是本发明一部分的对照例C2。
以下实验条件适用于Ex 2和C2。随着玻璃基材形成和与浮法玻璃制造工艺一起移动，涂层沉积在玻璃基材的第一主表面上。每个玻璃基材具有钠钙硅组成并具有3.2mm的厚度。
对于Ex 2和C2,通过沉积第一层、第二层、第三层和第四层形成涂层。每个层是热解的并通过利用APCVD工艺形成。
对于C2，第一层直接在玻璃基材的第一主表面上。第一层包含氧化锡并具有12nm的厚度。第二层直接在第一层上。第二层包含二氧化硅并具有25nm的厚度。第三层直接在第二层上。第三层包含氟掺杂的氧化锡(SnO2:F)并具有130nm的厚度。第四层直接在第三层上。第四层包含二氧化硅并具有85nm的厚度。因此，C2的玻璃制品具有玻璃/SnO2/SiO2/SnO2:F/SiO2布置。
对于Ex 2，第一层直接在玻璃基材的第一主表面上。第一层包含氧化锡并具有12nm的厚度。第二层直接在第一层上。第二层包含二氧化硅并具有25nm的厚度。第三层直接在第二层上。第三层包含未掺杂的氧化锡(SnO2)并具有30nm的厚度。第四层直接在第三层上。第四层包含二氧化硅并具有85nm的厚度。因此，Ex 2的玻璃制品具有玻璃/SnO2/SiO2/SnO2/SiO2布置。
表2中报道了Ex 2和C2的玻璃制品的总可见光透射率(Tvis)(光源D65，十度观察角)、总可见光反射比(Rf)(光源D65，十度观察角)和反射颜色(Ra*、Rb*)(光源D65，十度观察角)。总可见光透射率在每个玻璃制品的涂覆侧上使用Perkin Elmer Lambda 950分光光度计测量并表示为百分比。还在每个玻璃制品的涂覆侧上使用Perkin Elmer Lambda 950分光光度计测量总可见光反射比和反射颜色。总可见光反射比表示为百分比。
表2
例 Tvis Rf Ra* Rb*
C2 92.3 5.2 -1.44 -0.99
Ex 2 94.3 5.5 5.32 -0.75
如表2中显示，Ex 2的玻璃制品表现出与C2的玻璃制品大约相同的总可见光反射率。然而，Ex 2的玻璃制品表现出比C2的玻璃制品大2％的总可见光透射率。同样，Ex 2的玻璃制品对从玻璃制品的涂覆侧反射的可见光表现出中性颜色。
以下描述并在表3中说明额外的实例Ex 3至Ex 13，其中省略了第一抑制虹彩层并且第二层充当阻挡层。实施例Ex 1至Ex 13是相仿的并且每个表现出的性质是可预测的。
Ex 3至Ex 13中每个的玻璃制品具有玻璃/SiO2/SnO2/SiO2布置。玻璃基材具有钠钙硅组成并具有6毫米(mm)的厚度。表3中报道以nm计的涂覆层厚度和性质。
表3
实施例# SiO<sub>2</sub> SnO<sub>2</sub> SiO<sub>2</sub> Tvis Rf Ra* Rb*
3 15 20 120 94.2 5.4 3.9 -4.5
4 15 22 120 94.3 5.3 4.5 -5.7
5 15 24 120 94.4 5.2 5.1 -7.0
6 15 26 120 94.5 5.1 5.7 -8.5
7 15 28 120 94.5 5.1 6.2 -10.0
8 15 30 120 94.5 5.0 6.6 -11.6
9 15 32 120 94.5 5.0 7.0 -13.2
10 15 34 120 94.5 5.0 7.3 -14.7
11 15 36 120 94.5 5.0 7.5 -16.2
12 15 38 120 94.4 5.1 7.6 -17.6
13 15 40 120 94.3 5.2 7.6 -18.9
如表3中显示，当与C1的玻璃制品相比时，Ex 3至Ex 13的玻璃制品表现出改进的反射比和透射率性质，和当与C2的玻璃制品相比时表现出改进的透射率性质。然而，与Ex 1和Ex 2的颜色相比，Ex 3至Ex 13的玻璃制品对从玻璃制品的涂覆侧反射的可见光表现出较不中性的颜色。
此外，可通过消除SiO2阻挡层改变相仿的Ex 3至Ex 13，导致具有玻璃/SiO2/SnO2/SiO2布置的玻璃制品。在该情况下，表3中显示的预计性质对于每个实例都将是相同的，但是由如此改性的实例表现出的雾度将会比包括阻挡层的实例表现出的雾度提高。
前述描述被认为仅说明本发明的原理。此外，因为本领域技术人员将容易想到许多修改和改变，所以不期望将本发明限制为本文显示和描述的精确构造和工艺。因此，所有合适的修改和等效物可被认为落入如通过以下权利要求书限定的本发明范围内。

Claims (32)

1.玻璃制品，包含玻璃基材和在玻璃基材上方形成的涂层，其中涂层包含：
沉积在玻璃基材上方的第一抗反射层，该第一层具有1.6以上的折射指数和小于λ/(4*n)的厚度；和
沉积在第一抗反射层上方的第二抗反射层，该第二抗反射层的厚度大于第一抗反射层的厚度且折射指数小于第一抗反射层的折射指数；
其中玻璃制品表现出小于6.0％的总可见光反射比。
2.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中玻璃制品表现出5.5％以下、优选4.0％-5.5％的总可见光反射比。
3.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中玻璃制品表现出中性反射颜色。
4.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层的折射指数为2.0以上、优选在2.1和2.5之间。
5.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层包含氧化锡。
6.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层是未掺杂的。
7.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层的厚度小于70nm。
8.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层的厚度在20nm以上和60nm以下之间。
9.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层包含氧化锡并具有在20以上和50nm以下之间的厚度。
10.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层包含氧化铌或氧化钽并具有在5nm以上且40nm以下之间的厚度。
11.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第二抗反射层具有80nm以上、优选80nm以上且125nm以下、最优选80nm以上且110nm以下的厚度。
12.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第二抗反射层的折射指数为1.6以下、优选为1.2-1.6、更优选1.2-1.5。
13.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第二抗反射层包含二氧化硅。
14.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第二抗反射层是玻璃制品的最外层。
15.根据权利要求1所述的玻璃制品，还包含在玻璃基材和第一抗反射层之间的抑制虹彩中间层。
16.根据权利要求15所述的玻璃制品，其中抑制虹彩中间层包含具有折射指数为1.6以上的第一抑制虹彩层和沉积在第一抑制虹彩层上方的第二抑制虹彩层，该第二抑制虹彩层的折射指数小于第一抑制虹彩层的折射指数。
17.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第一抑制虹彩层的折射指数在2.1和2.5之间。
18.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第一抑制虹彩层包含氧化锡。
19.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第一抑制虹彩层具有50nm以下的厚度。
20.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第一抑制虹彩层具有在5nm以上且25nm以下之间的厚度。
21.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第二抑制虹彩层直接沉积在第一抑制虹彩层上。
22.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第二抑制虹彩层具有的厚度大于第一抑制虹彩层的厚度。
23.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第二抑制虹彩层具有50nm以下的厚度。
24.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第二抑制虹彩层具有5nm以上且25nm以下的厚度。
25.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第二抑制虹彩层的折射指数为1.6以下、优选为1.2-1.6、更优选1.2-1.5。
26.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第二抑制虹彩层包含二氧化硅。
27.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中第一抗反射层直接沉积在第二抑制虹彩层上。
28.根据权利要求16所述的玻璃制品，其中涂层由第一抑制虹彩层、抑制虹彩第二层、第一抗反射层和第二抗反射层组成。
29.根据权利要求1所述的玻璃制品，还包含在玻璃基材和第一抗反射层之间的阻挡层。
30.根据权利要求29所述的玻璃制品，其中阻挡层具有50nm以下的厚度。
31.根据权利要求29所述的玻璃制品，其中阻挡层包含二氧化硅。
32.根据权利要求29所述的玻璃制品，其中涂层由阻挡层、第一抗反射层和第二抗反射层组成。
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