CN113552749A - 一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板 - Google Patents
一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113552749A CN113552749A CN202110843469.1A CN202110843469A CN113552749A CN 113552749 A CN113552749 A CN 113552749A CN 202110843469 A CN202110843469 A CN 202110843469A CN 113552749 A CN113552749 A CN 113552749A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- alignment film
- effective display
- glass substrate
- display area
- mask plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 59
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000012945 sealing adhesive Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133792—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by etching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
- G03F7/2006—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light using coherent light; using polarised light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板,方法包括子步骤:利用线偏振光照射玻璃基板有效显示区域对应配向膜区域,分解该配向膜区域非配向方向的分子链;遮挡对应玻璃基板有效显示区域的配向膜,分解对应玻璃基板非有效显示区域配向膜所有方向的分子链;利用加热或者清洗去除已分解小分子,获取分离配向膜;掩膜板包括透明区及遮挡区,液晶面板包括玻璃基板及多个分离配向膜。实施本发明,对有玻璃基板效显示区域的配向膜进行非配向方向分子链进行分解,分解该非有效显示区域所有方向的配向膜分子链,利用加热烘烤或者清洗,去除已分解的分子,提高了配向膜的印刷精度,也满足了现有的高品质、窄边框显示的要求。
Description
技术领域
本发明涉及液晶面板制造工艺技术领域,特别涉及一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板。
背景技术
液晶面板制造经过长期发展,技术日趋成熟,消费者对显示品质的要求也越来越高,高画质,窄边框等需求日趋严苛,对各家LCD面板制造厂家提出了更高的要求。
随着市场对手机窄边框需求,目前边框普遍都在1mm以下,因此,在极窄边框的情况下如何保证LCD环境耐受性一直是各大面板厂家研究的重点。
现有的液晶面板生产流程:TFT&CF基板→PI Coating→RUB取向/光取向→Seal涂布→LC填充→VAS贴合→Cut→Module。
现有配向膜涂布技术主要有旋涂和凸版印刷两种方式。旋涂方式通过基板高速旋转使配向膜均匀涂布在基板表面,如此配向膜布满整块基板(包括有效显示区和Dummy区);凸版印刷因配向膜材质具有一定的流动性,因而PI膜印刷均匀性极难控制,普遍印刷精度>±0.6mm。
鉴于目前LCD产品窄边框的需求,液晶面板边框普遍在1mm以下,因而上述两种配向膜涂布方式均无法保证配向膜高精度印刷,配向膜和封框胶将存在交叠或者配向膜将涂布到封框胶外围。
因配向膜属于高分子材料,具有较强吸水性,因而在进行LCD环境耐受性测试过程中配向膜极易吸水而导致和封框胶接着性降低,导致LCD失效。因此,多家LCD终端采购商明确提出需要将配向膜控制在封框胶以内。
而配向膜印刷精度是影响LCD环境耐受性的关键影响因素,配向膜外延将导致LCD防水性降低进而导致失效,所以提升配向膜印刷精度将对LCD环境耐受性提升至关重要。
发明内容
现有的配向膜印刷技术:旋涂和凸版印刷技术均不能保证配向膜印刷的均匀性,印刷精度低。
针对上述问题,提出一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板,通过制作特定的掩膜板,对有效显示区域配向膜进行遮挡,对有效显示区域的配向膜进行非配向方向分子链进行分解,并利用紫外光对非有效显示区配向膜进行紫外光源照射,分解该区域所有方向的分子链,然后利用加热烘烤或者清洗,去除已分解的分子,提高了配向膜的印刷精度,利用高精度配向膜制作的液晶面板也满足了现有的高品质、窄边框显示的要求。
一种高精度配向膜印刷方法,包括子步骤:
利用线偏振光照射玻璃基板有效显示区域对应配向膜区域,分解该配向膜区域非配向方向的分子链;
遮挡对应玻璃基板有效显示区域的所述配向膜,分解对应玻璃基板非有效显示区域配向膜所有方向的分子链;
利用加热或者清洗去除已分解小分子,获取分离配向膜。
结合本发明所述的高精度配向膜印刷方法,第一种可能的实施方式中,所述步骤:利用线偏振光照射玻璃基板有效显示区域对应配向膜区域,分解该配向膜区域非配向方向的分子链,包括子步骤:
紫外光源经过滤光片、偏振线栅后,转换为线偏振光;
利用所述线偏振光对配向膜所有区域进行一次照射。
结合本发明所述的第一种可能的实施方式,第二种可能的实施方式中,所述步骤:遮挡对应玻璃基板有效显示区域的所述配向膜,分解对应玻璃基板非有效显示区域配向膜所有方向的分子链,包括子步骤:
制作第一掩膜板,并利用所述第一掩膜板遮挡对应玻璃基板有效显示区域的配向膜区域;
紫外光源透过所述第一掩膜板对配向膜进行二次照射。
结合本发明所述的高精度配向膜印刷方法,第三种可能的实施方式中,所述步骤:利用线偏振光照射玻璃基板有效显示区域对应配向膜区域,分解该配向膜区域非配向方向的分子链,包括子步骤:
制作第二掩膜板,在所述第二掩膜板上设置对应玻璃基板有效显示区域的独立偏振线栅结构,该独立偏振线栅结构仅通过线偏振光;
紫外光源透过所述第二掩膜板照射所述配向膜所有区域。
结合本发明所述的第三种可能的实施方式,第四种可能的实施方式中,所述步骤:制作第二掩膜板,在所述第二掩膜板上设置对应玻璃基板有效显示区域的独立偏振线栅结构,该独立偏振线栅结构仅通过线偏振光,包括子步骤:
在所述第二掩膜板每一对应所述玻璃基板有效显示区域设置独立偏振线栅结构;
紫外光源透过所述独立偏振线栅结构全部转换成线偏振光。
结合本发明所述的第四种可能的实施方式,第五种可能的实施方式中,所述第二掩膜板起偏角度范围为0°~180°,所述紫外光源波长范围为1nm~400nm。
第二方面,一种掩膜板,利用第一方面所述的高精度配向膜印刷方法进行制作,用于遮挡对应玻璃基板有效显示区域的配向膜,包括:
遮挡区;
透明区;
所述透明区、遮挡区分别对应玻璃基板的非有效显示区域、有效显示区域设置;
所述遮挡区用于对通过对应玻璃基板的有效显示区域的配向膜光线进行过滤。
结合本发明所述的掩膜板,第一种可能的实施方式中,所述遮挡区设置有独立偏振线栅结构,所述独立偏振线栅结构仅通过线偏振光,该独立偏振线栅结构包括滤光片及偏振线栅。
第三方面,一种液晶面板,利用第二方面的掩膜板及第一方面所述的高精度配向膜印刷方法,制作分离配向膜,包括:
玻璃基板;
多个分离配向膜;
所述玻璃基板设置有效显示区域阵列,所述有效显示区域之间形成有非有效显示区;
所述分离配向膜分别单独覆盖所述有效显示区域阵列的每一元素。
结合本发明所述的液晶面板,第一种可能的实施方式中,所述玻璃基板尺寸范围为10CM﹡10CM-4M﹡4M。
实施本发明所述的高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板,通过制作特定的掩膜板,对有效显示区域配向膜进行遮挡,对有效显示区域的配向膜进行非配向方向分子链进行分解,并利用紫外光对非有效显示区配向膜进行紫外光源照射,分解该区域所有方向的分子链,然后利用加热烘烤或者清洗,去除已分解的分子,提高了配向膜的印刷精度,利用高精度配向膜制作的液晶面板也满足了现有的高品质、窄边框显示的要求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明中高精度配向膜印刷方法实施例1中的一次曝光结构布局示意图;
图2是本发明中高精度配向膜印刷方法实施例1中的二次曝光结构布局示意图;
图3是本发明中高精度配向膜印刷方法实施例2中的曝光结构布局示意图;
图4是本发明中高精度配向膜印刷方法中的加装掩膜板曝光结构横截面示意图;
图5是本发明中高精度配向膜印刷方法中的精确印刷后的配向膜横截面示意图;
图6是本发明中高精度配向膜印刷方法步骤流程示意图;
图7是本发明中高精度配向膜印刷方法实施例1中第一步骤流程示意图;
图8是本发明中高精度配向膜印刷方法实施例1中第二步骤流程示意图;
图9是本发明中高精度配向膜印刷方法实施例2中第一步骤流程示意图;
图10是本发明中高精度配向膜印刷方法实施例2中第二步骤流程示意图;
附图中各数字所指代的部位名称为:101——紫外光源、110——滤光片、120——偏振线栅、200——玻璃基板、210——有效显示区域、220——非效显示区域、300——配向膜、310——分离配向膜、400——掩膜板、410——第一掩膜板、420——第二掩膜板、421——独立偏振线栅结构。
具体实施方式
下面将结合发明中的附图,对本发明中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的其他实施例,都属于本发明保护的范围。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
现有的配向膜300印刷技术:旋涂和凸版印刷技术均不能保证配向膜300印刷的均匀性,印刷精度低。
针对上述问题,提出一种高精度配向膜300印刷方法、掩膜板及液晶面板,通过制作特定的掩膜板400,对配向膜300有效显示区域210进行遮挡,对有效显示区域210的配向膜300进行非配向方向分子链进行分解,并利用紫外光对配向膜300非有效显示区进行紫外光源101照射,分解该区域所有方向的分子链,然后利用加热烘烤或者清洗,去除已分解的分子,提高了配向膜300的印刷精度,利用高精度配向膜300制作的液晶面板也满足了现有的高品质、窄边框显示的要求。
方法实施1
一种高精度配向膜300印刷方法,如图6,图6是本发明中高精度配向膜300印刷方法步骤流程示意图,包括子步骤:
S1、利用紫外光源101照射配向膜300所有区域,分解配向膜300所有区域非配向方向的分子链;
优选地,如图7,图7是本发明中高精度配向膜300印刷方法实施例1中第一步骤流程示意图,步骤S1包括子步骤:
S11、紫外光源101经过滤光片110、偏振线栅120后,转换为线偏振光;S12、利用线偏振光对配向膜300所有区域进行一次照射。
S2、遮挡对应玻璃基板200有效显示区域210的配向膜300,分解对应玻璃基板200非有效显示区域220配向膜300所有方向的分子链
优选地,如图8,图8是本发明中高精度配向膜300印刷方法实施例1中第二步骤流程示意图,步骤S2包括子步骤:S21、制作第一掩膜板410,并利用所述第一掩膜板410遮挡对应玻璃基板200有效显示区域的配向膜300区域;
S22、紫外光源101透过第一掩膜板410对配向膜300进行二次照射。
S3、利用加热或者清洗去除已分解小分子,获取分离配向膜310。
利用现有技术进行一次曝光,通过滤光片110、偏振线栅120起偏,玻璃往返进行首次曝光,使整面配向膜300层非配向方向上的分子链发生分解反应。如图1,图1是本发明中高精度配向膜300印刷方法实施例1中的一次曝光结构布局示意图。
然后进行二次曝光,本次曝光不经过偏振线栅120,而增加第一掩膜板410,如图4,图4是本发明中高精度配向膜300印刷方法中的加装掩膜板400曝光结构横截面示意图,第一掩膜板410上设有遮挡区及透明区,遮挡区可用于遮挡玻璃基板200有效显示区域210配向膜300上的紫外光源101,透明区域可以透过紫外光源101。玻璃基板200上有效显示区域210配向膜的紫外光源101被遮挡,非有效显示区域220配向膜300被未经偏光的紫外光源101照射,使剩余未分解方向的配向膜300分子链全面发生分解反应。如图2,图2是本发明中高精度配向膜300印刷方法实施例1中的二次曝光结构布局示意图。
最后,经过高温热烘或者清洗使分解的小分子去除,这样配向膜300对应玻璃基板200有效显示区域210配向方向上的分子链得以保留,非有效显示区域220的配向膜300分子全面去除,如图5,图5是本发明中高精度配向膜300印刷方法中的精确印刷后的配向膜300横截面示意图。
方法实施例2
与实施例1不同的是优选地,如图9,图9是本发明中高精度配向膜300印刷方法实施例2中第一步骤流程示意图,步骤S1包括子步骤:
S13、制作第二掩膜板420,在第二掩膜板420上设置对应玻璃基板有效显示区域的独立偏振线栅结构421,该独立偏振线栅结构421仅通过线偏振光;S14、紫外光源透过第二掩膜板420照射配向膜300所有区域。
优选地,如图10,图10是本发明中高精度配向膜300印刷方法实施例2中第二步骤流程示意图;步骤S13包括子步骤:
S131、在所述第二掩膜板420每一对应所述玻璃基板200有效显示区域210设置独立偏振线栅结构421;S132、紫外光源101通过独立偏振线栅结构421全部转换成线偏振光。
在配向时,在第二掩膜板420对应玻璃基板200有效显示区域210的掩膜板区域制作紫外光源101独立偏振线栅结构421,使该区域仅线偏振光可通过,因而线偏振光作用在配向膜300上,使垂直配向方向的有机分子链发生分解,再经过后面加热或清洗去除分解的小分子达到配向的目的。
对应玻璃基板200上非有效显示区域220的掩膜板区域则不做处理,如图3,图3是本发明中高精度配向膜300印刷方法实施例2中的曝光结构布局示意图,各个方向偏振的光线均可以通过,因而使该区域配向膜300各个方向的分子链均发生分解,在经过加热或清洗去除分解的小分子,因此处各个方向均有发生分解反应,因而配向膜300被完全去除,如图5,图5是本发明中高精度配向膜300印刷方法中的精确印刷后的配向膜300横截面示意图。
优选地,第二掩膜板420起偏角度范围为0°~180°,紫外光源101波长范围为1nm~400nm。
第二方面,一种掩膜板,如图4,图4是本发明中高精度配向膜300印刷方法中的加装掩膜板400曝光结构横截面示意图,利用第一方面的高精度配向膜300印刷方法进行制作,用于对配向膜300有效显示区域210进行遮挡,包括:遮挡区及透明区;
透明区、遮挡区分别对应玻璃基板200的非有效显示区、有效显示区域210设置。
遮挡区用于对通过配向膜300对应玻璃基板200有效显示区域210的光线进行过滤。
在一个实施方式中,遮挡区可用于遮挡玻璃基板200有效显示区域210上的紫外光源101,透明区域可以透过紫外光源101。玻璃基板200上有效显示区域210配向膜300的紫外光源101被遮挡,非有效显示区域220配向膜300被未经偏光的紫外光源101照射,使剩余未分解方向的分子链全面发生分解反应。
在有的实施方式中,如图3,图3是本发明中高精度配向膜300印刷方法实施例2中的曝光结构布局示意图,遮挡区设置有独立偏振线栅结构421,独立偏振线栅结构421仅通过线偏振光,该偏振线栅120组件包括滤光片110及偏振线栅120。第二掩膜板420对应玻璃基板200有效显示区域210的区域制作紫外光源101独立偏振线栅结构421,使该区域仅线偏振光可通过,因而线偏振光作用在配向膜300上,使垂直配向方向的有机分子链发生分解,再经过后面加热或清洗去除分解的小分子达到配向的目的。
第三方面,如图5,图5是本发明中高精度配向膜300印刷方法中的精确印刷后的配向膜300横截面示意图,一种液晶面板,利用第二方面的掩膜板及第一方面的高精度配向膜300印刷方法,制作分离配向膜310,包括:
玻璃基板200及多个分离配向膜310;
玻璃基板200设置有效显示区域阵列,有效显示区域之间形成有非有效显示区;分离配向膜310分别单独覆盖有效显示区域阵列的每一元素。
优选地,玻璃基板200尺寸范围为10CM﹡10CM-4M﹡4M。
实施本发明的高精度配向膜300印刷方法、掩膜板及液晶面板,通过制作特定的掩膜板,对有效显示区域210配向膜300进行遮挡,对有效显示区域210的配向膜300进行非配向方向分子链进行分解,并利用紫外光对非有效显示区配向膜300进行紫外光源101照射,分解该区域所有方向的分子链,然后利用加热烘烤或者清洗,去除已分解的分子,提高了配向膜300的印刷精度,利用高精度配向膜300制作的液晶面板也满足了现有的高品质、窄边框显示的要求。
以上仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种高精度配向膜印刷方法,其特征在于,包括子步骤:
利用线偏振光照射玻璃基板有效显示区域对应配向膜区域,分解该配向膜区域非配向方向的分子链;
遮挡对应玻璃基板有效显示区域的所述配向膜,分解对应玻璃基板非有效显示区域配向膜所有方向的分子链;
利用加热或者清洗去除已分解小分子,获取分离配向膜。
2.根据权利要求1所述的液晶面板的高精度配向膜印刷方法,其特征在于,所述步骤:利用线偏振光照射玻璃基板有效显示区域对应配向膜区域,分解该配向膜区域非配向方向的分子链,包括子步骤:
紫外光源经过滤光片、偏振线栅后,转换为线偏振光;
利用所述线偏振光对配向膜所有区域进行一次照射。
3.根据权利要求2所述的液晶面板的高精度配向膜印刷方法,其特征在于,所述步骤:遮挡对应玻璃基板有效显示区域的所述配向膜,分解对应玻璃基板非有效显示区域配向膜所有方向的分子链,包括子步骤:
制作第一掩膜板,并利用所述第一掩膜板遮挡对应玻璃基板有效显示区域的配向膜区域;
紫外光源透过所述第一掩膜板对配向膜进行二次照射。
4.根据权利要求1所述的液晶面板的高精度配向膜印刷方法,其特征在于,所述步骤:利用线偏振光照射玻璃基板有效显示区域对应配向膜区域,分解该配向膜区域非配向方向的分子链,包括子步骤:
制作第二掩膜板,在所述第二掩膜板上设置对应玻璃基板有效显示区域的独立偏振线栅结构,该独立偏振线栅结构仅通过线偏振光;
紫外光源透过所述第二掩膜板照射所述配向膜所有区域。
5.根据权利要求4所述的液晶面板的高精度配向膜印刷方法,其特征在于,所述步骤:制作第二掩膜板,在所述第二掩膜板上设置对应玻璃基板有效显示区域的独立偏振线栅结构,该独立偏振线栅结构仅通过线偏振光,包括子步骤:
在所述第二掩膜板每一对应所述玻璃基板有效显示区域设置独立偏振线栅结构;
紫外光源透过所述独立偏振线栅结构全部转换成线偏振光。
6.根据权利要求5所述的液晶面板的高精度配向膜印刷方法,其特征在于,所述第二掩膜板起偏角度范围为0°~180°,所述紫外光源波长范围为1nm~400nm。
7.一种掩膜板,利用权利要求4-6任一所述的高精度配向膜印刷方法进行制作,用于遮挡对应玻璃基板有效显示区域的配向膜,其特征在于,包括:
遮挡区;
透明区;
所述透明区、遮挡区分别对应玻璃基板的非有效显示区域、有效显示区域设置;
所述遮挡区用于对通过对应玻璃基板的有效显示区域的配向膜光线进行过滤。
8.根据权利要求7所述的掩膜板,其特征在于,所述遮挡区设置有独立偏振线栅结构,所述独立偏振线栅结构仅通过线偏振光,该独立偏振线栅结构包括滤光片及偏振线栅。
9.一种液晶面板,利用权利要求7所述的掩膜板制作分离配向膜,其投资者,包括:
玻璃基板;
多个分离配向膜;
所述玻璃基板设置有效显示区域阵列,所述有效显示区域之间形成有非有效显示区;
所述分离配向膜分别单独覆盖所述有效显示区域阵列的每一元素。
10.根据权利要求9所述的掩膜板,其特征在于,所述玻璃基板尺寸范围为10CM﹡10CM-4M﹡4M。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110843469.1A CN113552749A (zh) | 2021-07-26 | 2021-07-26 | 一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110843469.1A CN113552749A (zh) | 2021-07-26 | 2021-07-26 | 一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113552749A true CN113552749A (zh) | 2021-10-26 |
Family
ID=78104394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110843469.1A Pending CN113552749A (zh) | 2021-07-26 | 2021-07-26 | 一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113552749A (zh) |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000020574A (ko) * | 1998-09-22 | 2000-04-15 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
KR20110062599A (ko) * | 2009-12-03 | 2011-06-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치용 배향막의 광 배향방법 |
KR101040740B1 (ko) * | 2009-12-23 | 2011-06-10 | 전북대학교산학협력단 | 이중 도메인 액정표시소자 제조 방법 |
CN102109714A (zh) * | 2009-12-25 | 2011-06-29 | 北京京东方光电科技有限公司 | 取向层及其制备方法、包括该取向层的液晶显示装置 |
CN102520551A (zh) * | 2011-11-14 | 2012-06-27 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 基于uv曝光形成取向膜区域的方法及系统 |
CN103353692A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-10-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制备方法和显示装置 |
CN104035237A (zh) * | 2014-05-30 | 2014-09-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光配向膜及其制作方法、液晶显示器 |
JP2015036721A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-23 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法 |
CN104570486A (zh) * | 2013-10-30 | 2015-04-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种配向膜的制作方法 |
CN104808396A (zh) * | 2015-05-13 | 2015-07-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶盒及其制备方法、显示装置 |
US20160018685A1 (en) * | 2014-07-18 | 2016-01-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal device and method for manufacturing the same |
CN105511166A (zh) * | 2016-01-27 | 2016-04-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种取向设备及取向膜的制备方法、显示基板 |
CN108241228A (zh) * | 2018-02-01 | 2018-07-03 | 成都天马微电子有限公司 | 一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置 |
CN109752884A (zh) * | 2019-03-21 | 2019-05-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种配向膜、其制备方法及显示装置 |
-
2021
- 2021-07-26 CN CN202110843469.1A patent/CN113552749A/zh active Pending
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000020574A (ko) * | 1998-09-22 | 2000-04-15 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
KR20110062599A (ko) * | 2009-12-03 | 2011-06-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치용 배향막의 광 배향방법 |
KR101040740B1 (ko) * | 2009-12-23 | 2011-06-10 | 전북대학교산학협력단 | 이중 도메인 액정표시소자 제조 방법 |
CN102109714A (zh) * | 2009-12-25 | 2011-06-29 | 北京京东方光电科技有限公司 | 取向层及其制备方法、包括该取向层的液晶显示装置 |
CN102520551A (zh) * | 2011-11-14 | 2012-06-27 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 基于uv曝光形成取向膜区域的方法及系统 |
CN103353692A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-10-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制备方法和显示装置 |
JP2015036721A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-23 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法 |
CN104570486A (zh) * | 2013-10-30 | 2015-04-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种配向膜的制作方法 |
CN104035237A (zh) * | 2014-05-30 | 2014-09-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光配向膜及其制作方法、液晶显示器 |
US20160018685A1 (en) * | 2014-07-18 | 2016-01-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal device and method for manufacturing the same |
CN104808396A (zh) * | 2015-05-13 | 2015-07-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶盒及其制备方法、显示装置 |
CN105511166A (zh) * | 2016-01-27 | 2016-04-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种取向设备及取向膜的制备方法、显示基板 |
CN108241228A (zh) * | 2018-02-01 | 2018-07-03 | 成都天马微电子有限公司 | 一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置 |
CN109752884A (zh) * | 2019-03-21 | 2019-05-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种配向膜、其制备方法及显示装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2720079B1 (en) | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof | |
CN108398821B (zh) | 柔性液晶显示面板的制作方法 | |
US9488871B2 (en) | Method for manufacturing display panel | |
EP1956433A1 (en) | Method for forming photoresist pattern, method for manufacturing display panel, and method for manufacturing display device | |
US9519189B2 (en) | Liquid crystal cell, method for fabricating the same and display device | |
WO2012162933A1 (zh) | 彩色滤光片基板的制造方法、光学掩膜及光反应层 | |
CN108873493B (zh) | 液晶显示面板、装置以及液晶显示面板的框胶固化方法 | |
CN102799018A (zh) | 液晶显示面板及其制造方法 | |
CN106502004A (zh) | 一种液晶面板、液晶显示器及液晶面板的制造方法 | |
KR20060134759A (ko) | 배향막 제조장치 및 이를 이용한 액정표시패널의 제조방법 | |
CN104570486A (zh) | 一种配向膜的制作方法 | |
CN109656062A (zh) | 一种显示面板及其制作方法和框胶固化机台 | |
US10012870B2 (en) | Alignment device and manufacturing method of alignment film and display substrate | |
US10527947B2 (en) | Method for exposing transparent substrate | |
CN110673382A (zh) | 液晶显示面板及制造方法 | |
US7532299B2 (en) | Method of fabricating a liquid crystal display device having column spacers and overcoat layer formed by double exposure | |
EP2857893B1 (en) | Display panel and manufacturing method therefor and display device | |
CN113552749A (zh) | 一种高精度配向膜印刷方法、掩膜板及液晶面板 | |
US10295877B2 (en) | Array substrate, liquid crystal display panel and manufacturing method for array substrate | |
KR20070079490A (ko) | 컬러 필터 표시판 및 그 제조 방법 | |
CN105549274A (zh) | 改善液晶面板成盒工艺胶框固化率的方法及液晶面板 | |
US7864275B2 (en) | Liquid crystal display device with a light blocking film formed on a surface of a substrate that surrounds a phase difference film and an orientation film also formed on the substrate surface between the substrate and the phase difference film | |
US10989969B2 (en) | Display panel and manufacturing method thereof | |
CN107544181B (zh) | 显示面板的制造方法及其制造装置 | |
CN106773345B (zh) | 显示面板、显示面板的制程及光罩 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |