CN113436973A - 一种液晶屏ito基板蚀刻成型方法 - Google Patents

一种液晶屏ito基板蚀刻成型方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113436973A
CN113436973A CN202110714458.3A CN202110714458A CN113436973A CN 113436973 A CN113436973 A CN 113436973A CN 202110714458 A CN202110714458 A CN 202110714458A CN 113436973 A CN113436973 A CN 113436973A
Authority
CN
China
Prior art keywords
tray
etching
substrate
liquid crystal
frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
CN202110714458.3A
Other languages
English (en)
Inventor
彭坤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan Boweijia Electromechanical Engineering Co ltd
Original Assignee
Wuhan Boweijia Electromechanical Engineering Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan Boweijia Electromechanical Engineering Co ltd filed Critical Wuhan Boweijia Electromechanical Engineering Co ltd
Priority to CN202110714458.3A priority Critical patent/CN113436973A/zh
Publication of CN113436973A publication Critical patent/CN113436973A/zh
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3205—Deposition of non-insulating-, e.g. conductive- or resistive-, layers on insulating layers; After-treatment of these layers
    • H01L21/321—After treatment
    • H01L21/3213—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer
    • H01L21/32133—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer by chemical means only
    • H01L21/32134—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer by chemical means only by liquid etching only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
    • H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
    • H01L21/67086—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明涉及基板加工领域，特别涉及一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其使用了一种基板蚀刻成型装置，该基板蚀刻成型装置包括固定架、活动架和托盘，固定架上设置有支撑架，活动架铰接在支撑架的顶部，活动架为框型结构，活动架的底部两侧均设置有弹簧，弹簧的底部均固定安装在固定架上，活动架的底部开设有环形结构的滑槽，滑槽内滑动安装有滑块，滑块的底部设置有支撑杆，支撑杆远离滑块的一端转动连接有滚珠，固定架上并位于滑槽的下方对称设置有倾斜板，倾斜板分别与滚珠对应设置，活动架上设置有若干个托盘，托盘均相互叠加分布。本发明可以自动化的对多个基板进行脱膜，极大的提高了基板脱膜的效率，适合推广。

Description

一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法
技术领域
本发明涉及基板加工领域，特别涉及一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法。
背景技术
液晶屏是一种电子屏幕，属于平面显示器的一种，主要用于电视机及计算机的屏幕显示。该显示屏的优点是耗电量低、体积小、辐射低。
在液晶屏的制造过程中，会需要用到ITO基板，而现有的ITO基板大都是使用蚀刻的方式进行加工，蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类，而一般用于ITO基板加工的多为湿蚀刻，在加工时，需要在基板上覆盖ITO薄膜，再将覆盖了ITO薄膜的基板放入事先准备好的蚀刻液中进行浸泡，使蚀刻液对基板进行侵蚀，实现蚀刻，在基板完成蚀刻后，又需要将基板取出，清洗干净后，去除ITO薄膜，而现有的加工方式大都是采用人工手动的方式对经过蚀刻的基板进行脱膜，这种方式效率低下，且人工成本较高，不利于基板的批量化加工，同时人工手动脱膜无法保证精度，容易在脱模的过程中对基板造成损伤，影响了基板的良品率，这给ITO基板的蚀刻加工带来了不便。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供了一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，可以自动化的对多个基板进行脱膜，极大的提高了基板脱膜的效率，降低了加工成本，同时无需人工手动接触，可以避免在脱膜的过程中对基板造成损伤，极大的提高了基板的良品率。
为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案，一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其使用了一种基板蚀刻成型装置，该基板蚀刻成型装置包括固定架、活动架和托盘，采用上述基板蚀刻成型装置对液晶屏ITO基板进行蚀刻处理作业时具体方法如下：
S1、设备检查：在启用该基板蚀刻成型装置对液晶屏ITO基板进行蚀刻处理之前，对设备运行进行检查；
S2、放入基板：将若干个经过蚀刻成型后的基板分别放入上述S1中经过检查的基板蚀刻成型装置上的托盘内并进行固定，在放入了基板的托盘内倒入脱膜液，对基板进行浸泡，操作放入了基板的托盘相互堆叠进行密封；
S3、批量脱膜：操作活动架在固定架上往复摇摆，带动上述S2中相互堆叠的托盘往复摆动，使托盘内的脱膜液往复冲刷基板，实现脱膜；
S4、统一收集：当上述S3中的基板经过脱膜后，操作托盘相互分离，将基板取出后进行清洗并统一码放；
所述的固定架上设置有支撑架，所述活动架铰接在所述支撑架的顶部，所述活动架为框型结构，所述活动架的底部两侧均设置有弹簧，所述弹簧的底部均固定安装在所述固定架上，所述活动架的底部开设有环形结构的滑槽，所述滑槽内滑动安装有滑块，所述滑块的底部设置有支撑杆，所述支撑杆远离所述滑块的一端转动连接有滚珠，所述固定架上并位于所述滑槽的下方对称设置有倾斜板，所述倾斜板分别与所述滚珠对应设置，通过所述支撑架配合所述弹簧可以连接所述活动架并实现其往复摇摆，通过所述滑块的往复移动可以带动所述支撑杆和所述滚珠同步移动，配合所述倾斜板可以往复的掀起所述活动架，实现所述活动架的往复摆动。
所述活动架上设置有若干个所述托盘，所述托盘均相互叠加分布，所述托盘的两端均设置有卡块，所述活动架上并位于所述托盘的两端均开设有升降槽，所述卡块分别插设在对应设置的所述升降槽内，所述托盘的顶部均开设有水槽，所述水槽内均设置有若干一号电动推杆，所述一号电动推杆的输出端分别贯穿所述托盘延伸至对应设置的所述水槽内并设置有夹块，所述的托盘内并位于所述水槽的下方均设置有二号电动推杆，所述二号电动推杆的输出端均贯穿所述托盘延伸至对应设置的所述水槽内并设置有升降板，通过所述托盘内的所述夹块可以对基板进行夹持，使基板处于悬空状态，相互叠合的所述托盘可以相互密封，避免在往复摆动的过程中将脱膜液洒出，通过所述托盘的往复摆动可以带动所述托盘内的脱膜液往复流动，对基板进行往复的冲刷，实现脱模。
作为本发明的一种优选技术方案，所述的水槽的内壁顶部均开设有压槽，所述托盘的底部均设置有压板，所述压板分别插设在对应设置的所述压槽内，所述压槽的内壁上均设置有橡胶垫。
作为本发明的一种优选技术方案，所述的滑块内设置有旋转电机，所述旋转电机的输出端设置有旋转齿轮，所述滑槽的内壁上沿其周向环形分布设置有齿槽，所述旋转齿轮的一侧贯穿所述滑块与所述齿槽相啮合。
作为本发明的一种优选技术方案，所述的升降槽的内壁上均呈直线分布设置有若干定位槽，所述卡块内均设置有若干三号电动推杆，所述三号电动推杆的输出端均贯穿所述卡块并设置有定位板，所述定位板远离所述三号电动推杆的一侧均设置有若干定位齿，所述定位齿分别与对应设置的所述定位槽相插接。
作为本发明的一种优选技术方案，所述固定架的两侧均设置有固定板，所述固定板上均设置有一号液压缸，所述一号液压缸的输出端均设置有凹型结构的支撑板，所述支撑板分别与所述活动架的两侧相接触。
作为本发明的一种优选技术方案，所述的升降槽内均设置有丝杠，所述卡块上均开设有通槽，所述丝杠均贯穿对应设置的所述通槽，所述卡块内并位于所述通槽的一侧均设置有四号电动推杆，所述四号电动推杆的输出端均贯穿所述卡块延伸至对应设置的所述通槽内并设置有压块，所述压块远离所述四号电动推杆的一侧均为内弧形结构并开设有螺纹，所述压块分别与所述丝杠对应设置。
作为本发明的一种优选技术方案，所述的丝杠的底部均设置有联动齿轮，所述联动齿轮之间套设有齿轮皮带。
作为本发明的一种优选技术方案，所述的活动架的顶部设置有二号液压缸，所述二号液压缸的输出端设置有盖板，所述盖板与所述活动架最上方的所述托盘相接触。
本发明的有益效果在于：
1.本发明可以自动化的对多个基板进行脱膜，极大的提高了基板脱膜的效率，降低了加工成本，同时无需人工手动接触，可以避免在脱膜的过程中对基板造成损伤，极大的提高了基板的良品率。
2.本发明设计了活动架，活动架用于同时连接若干个托盘，可以同时对多个基板进行脱膜，极大的提高了脱膜的效率，同时活动架底部的滑块通过在滑槽内移动，可以带动支撑杆同步移动，可以带动滚珠在固定架上滚动，当滚珠在滑块的带动下滚动至倾斜板上时，会挤压活动架产生倾斜，通过活动架的往复倾斜，配合弹簧可以带动托盘进行往复的摇摆，使托盘内的脱膜液往复的冲刷基板，实现脱膜，无需人工手动接触，可以避免在脱膜的过程中对基板造成损伤，极大的提高了基板的良品率。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的工艺流程示意图；
图2是本发明的固定架的立体结构示意图；
图3是本发明的活动架的立体结构示意图；
图4是本发明的托盘的立体结构示意图；
图5是本发明的水槽的立体结构示意图；
图6是本发明的压板的立体结构示意图；
图7是本发明的托盘的剖视结构示意图；
图8是本发明的卡块的剖视结构示意图；
图9是本发明的卡块的局部结构示意图；
图10是本发明的活动架的剖视结构示意图；
图11是本发明的滑块的剖视结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本发明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。
如图1至图11所示，一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其使用了一种基板蚀刻成型装置，该基板蚀刻成型装置包括固定架1、活动架2和托盘3，采用上述基板蚀刻成型装置对液晶屏ITO基板进行蚀刻处理作业时具体方法如下：
S1、设备检查：在启用该基板蚀刻成型装置对液晶屏ITO基板进行蚀刻处理之前，对设备运行进行检查；
S2、放入基板：将若干个经过蚀刻成型后的基板分别放入上述S1中经过检查的基板蚀刻成型装置上的托盘3内并进行固定，在放入了基板的托盘3内倒入脱膜液，对基板进行浸泡，当基板放入水槽32内时，升降板36会对基板进行支撑，此时，操作夹块34按压在基板的两侧，对基板进行夹持，通过二号电动推杆35的收缩，带动升降板36下降脱离基板，此时基板处于悬空状态，再向水槽32内填充脱膜液至淹没基板，可以使基板的顶部与底部均与脱膜液充分接触，可以提高脱膜的效果，操作放入了基板的托盘3相互堆叠进行密封，当托盘3相互叠合时，压板37会插设在压槽321内，配合橡胶垫322可以对水槽32进行密封，可以避免在活动架2往复摇摆时，使脱膜液洒出，同时操作盖板51按压在位于最上方的托盘3的顶部，对最上方的托盘3上的水槽32进行密封，同时使叠合后的托盘3相互紧密结合，提高水槽32的密封效果；
S3、批量脱膜：操作活动架2在固定架1上往复摇摆，带动上述S2中相互堆叠的托盘3往复摆动，使托盘3内的脱膜液往复冲刷基板，实现脱膜，滑块23通过在滑槽22内移动可以带动支撑杆24同步移动，支撑杆24可以带动滚珠25在固定架2上滚动，当滚珠25在支撑杆24的带动下滚动至倾斜板12上时，配合支撑杆24可以使活动架2往一侧倾斜，通过滚珠25往复的在两个倾斜板上滚动，可以推动活动架2往复的倾斜，实现摇摆；
S4、统一收集：当上述S3中的基板经过脱膜后，操作托盘3相互分离，将基板取出后进行清洗并统一码放，当指定位置的托盘3需要升降移动时，操作四号电动推杆42推动压块43按压在丝杠4上，通过外接驱动装置带动丝杠4旋转，配合压块43上的螺纹可以带动指定位置上的压块43及卡块31同步升降，带动对应设置的托盘3进行升降，当指定位置的托盘3上升至指定位置后，卡块31内的三号电动推杆311会推动定位板312伸出按压在升降槽26的内壁上，使定位板312上的定位齿313插设在定位槽261内，当托盘3升降至指定位置后，可以对托盘3进行定位，便于放置和取出基板。
固定架1上设置有支撑架11，活动架2铰接在支撑架11的顶部，活动架2为框型结构，活动架2的底部两侧均设置有弹簧21，弹簧21的底部均固定安装在固定架1上，固定架1用于固定在平面上，支撑架11用于铰接活动架2，配合弹簧21可以实现活动架2的往复摇摆。
活动架2的底部开设有环形结构的滑槽22，滑槽22内滑动安装有滑块23，滑块23的底部设置有支撑杆24，支撑杆24远离滑块23的一端转动连接有滚珠25，固定架1上并位于滑槽22的下方对称设置有倾斜板12，倾斜板12分别与滚珠25对应设置，活动架2底部的滑槽22用于连接和滑动滑块23，滑块23通过在滑槽22内移动可以带动支撑杆24同步移动，支撑杆24可以带动滚珠25在固定架2上滚动，当滚珠25在支撑杆24的带动下滚动至倾斜板12上时，配合支撑杆24可以使活动架2往一侧倾斜，通过滚珠25往复的在两个倾斜板上滚动，可以推动活动架2往复的倾斜，实现摇摆。
滑块23内设置有旋转电机231，旋转电机231的输出端设置有旋转齿轮232，滑槽22的内壁上沿其周向环形分布设置有齿槽221，旋转齿轮232的一侧贯穿滑块23与齿槽221相啮合，旋转电机231用于带动旋转齿轮232旋转，当旋转齿轮232旋转时可以在齿槽221内移动，同步带动滑块23在滑槽22内移动。
活动架2上设置有若干个托盘3，托盘3均相互叠加分布，托盘3的两端均设置有卡块31，活动架2上并位于托盘3的两端均开设有升降槽26，卡块31分别插设在对应设置的升降槽26内，托盘3用于承托基板，卡块31用于插设在升降槽26内，对托盘3进行限位。
升降槽26的内壁上均呈直线分布设置有若干定位槽261，卡块31内均设置有若干三号电动推杆311，三号电动推杆311的输出端均贯穿卡块31并设置有定位板312，定位板312远离三号电动推杆311的一侧均设置有若干定位齿313，定位齿313分别与对应设置的定位槽261相插接，卡块31内的三号电动推杆311会推动定位板312伸出按压在升降槽26的内壁上，使定位板312上的定位齿313插设在定位槽261内，当托盘3升降至指定位置后，可以对托盘3进行定位，便于放置和取出基板。
升降槽26内均设置有丝杠4，卡块31上均开设有通槽41，丝杠4均贯穿对应设置的通槽41，卡块31内并位于通槽41的一侧均设置有四号电动推杆42，四号电动推杆42的输出端均贯穿卡块31延伸至对应设置的通槽41内并设置有压块43，压块43远离四号电动推杆42的一侧均为内弧形结构并开设有螺纹，压块43分别与丝杠4对应设置，当指定位置的托盘3需要升降移动时，操作四号电动推杆42推动压块43按压在丝杠4上，通过外接驱动装置带动丝杠4旋转，配合压块43上的螺纹可以带动指定位置上的压块43及卡块31同步升降，带动对应设置的托盘3进行升降。
丝杠4的底部均设置有联动齿轮44，联动齿轮44之间套设有齿轮皮带45，联动齿轮44配合齿轮皮带45可以使两个丝杠4同步旋转，可以提高托盘3升降时的精度。
托盘3的顶部均开设有水槽32，水槽32内均设置有若干一号电动推杆33，一号电动推杆33的输出端分别贯穿托盘3延伸至对应设置的水槽32内并设置有夹块34，托盘3内并位于水槽32的下方均设置有二号电动推杆35，二号电动推杆35的输出端均贯穿托盘3延伸至对应设置的水槽32内并设置有升降板36，托盘3上的水槽32用于放入脱膜液和基板，一号电动推杆33用于伸缩夹块34，夹块34用于对基板的两端进行按压，实现夹持，二号电动推杆35用于带动升降板36进行升降，升降板36用于承托基板，当基板放入水槽32内时，升降板36会对基板进行支撑，此时，操作夹块34按压在基板的两侧，对基板进行夹持，通过二号电动推杆35的收缩，带动升降板36下降脱离基板，此时基板处于悬空状态，再向水槽32内填充脱膜液至淹没基板，可以使基板的顶部与底部均与脱膜液充分接触，可以提高脱膜的效果。
水槽32的内壁顶部均开设有压槽321，托盘3的底部均设置有压板37，压板37分别插设在对应设置的压槽321内，压槽321的内壁上均设置有橡胶垫322，当托盘3相互叠合时，压板37会插设在压槽321内，配合橡胶垫322可以对水槽32进行密封，可以避免在活动架2往复摇摆时，使脱膜液洒出。
活动架2的顶部设置有二号液压缸5，二号液压缸5的输出端设置有盖板51，盖板51与活动架2最上方的托盘3相接触，二号液压缸5用于升降盖板51，盖板51用于按压在活动架2上位于最上方的托盘3的顶部，对其进行密封，同时可以对叠合后的托盘3进行按压，使叠合后的托盘3相互紧密贴合，提高对水槽32的密封效果。
固定架1的两侧均设置有固定板13，固定板13上均设置有一号液压缸14，一号液压缸14的输出端均设置有凹型结构的支撑板15，支撑板15分别与活动架2的两侧相接触，固定板13用于连接一号液压缸14，一号液压缸14通过伸缩可以将支撑板15按压在活动架2上，可以使活动架2保持水平状态，方便放入和取出基板以及填充和排出脱膜液。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中的描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (8)

1.一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其使用了一种基板蚀刻成型装置，该基板蚀刻成型装置包括固定架(1)、活动架(2)和托盘(3)，其特征在于：采用上述基板蚀刻成型装置对液晶屏ITO基板进行蚀刻处理作业时具体方法如下：
S1、设备检查：在启用该基板蚀刻成型装置对液晶屏ITO基板进行蚀刻处理之前，对设备运行进行检查；
S2、放入基板：将若干个经过蚀刻成型后的基板分别放入上述S1中经过检查的基板蚀刻成型装置上的托盘(3)内并进行固定，在放入了基板的托盘(3)内倒入脱膜液，对基板进行浸泡，操作放入了基板的托盘(3)相互堆叠进行密封；
S3、批量脱膜：操作活动架(2)在固定架(1)上往复摇摆，带动上述S2中相互堆叠的托盘(3)往复摆动，使托盘(3)内的脱膜液往复冲刷基板，实现脱膜；
S4、统一收集：当上述S3中的基板经过脱膜后，操作托盘3相互分离，将基板取出后进行清洗并统一码放；
所述的固定架(1)上设置有支撑架(11)，所述活动架(2)铰接在所述支撑架(11)的顶部，所述活动架(2)为框型结构，所述活动架(2)的底部两侧均设置有弹簧(21)，所述弹簧(21)的底部均固定安装在所述固定架(1)上，所述活动架(2)的底部开设有环形结构的滑槽(22)，所述滑槽(22)内滑动安装有滑块(23)，所述滑块(23)的底部设置有支撑杆(24)，所述支撑杆(24)远离所述滑块(23)的一端转动连接有滚珠(25)，所述固定架(1)上并位于所述滑槽(22)的下方对称设置有倾斜板(12)，所述倾斜板(12)分别与所述滚珠(25)对应设置；
所述活动架(2)上设置有若干个所述托盘(3)，所述托盘(3)均相互叠加分布，所述托盘(3)的两端均设置有卡块(31)，所述活动架(2)上并位于所述托盘(3)的两端均开设有升降槽(26)，所述卡块(31)分别插设在对应设置的所述升降槽(26)内，所述托盘(3)的顶部均开设有水槽(32)，所述水槽(32)内均设置有若干一号电动推杆(33)，所述一号电动推杆(33)的输出端分别贯穿所述托盘(3)延伸至对应设置的所述水槽(32)内并设置有夹块(34)，所述的托盘(3)内并位于所述水槽(32)的下方均设置有二号电动推杆(35)，所述二号电动推杆(35)的输出端均贯穿所述托盘(3)延伸至对应设置的所述水槽(32)内并设置有升降板(36)。
2.根据权利要求1所述的一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其特征在于：所述的水槽(32)的内壁顶部均开设有压槽(321)，所述托盘(3)的底部均设置有压板(37)，所述压板(37)分别插设在对应设置的所述压槽(321)内，所述压槽(321)的内壁上均设置有橡胶垫(322)。
3.根据权利要求1所述的一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其特征在于：所述的滑块(23)内设置有旋转电机(231)，所述旋转电机(231)的输出端设置有旋转齿轮(232)，所述滑槽(22)的内壁上沿其周向环形分布设置有齿槽(221)，所述旋转齿轮(232)的一侧贯穿所述滑块(23)与所述齿槽(221)相啮合。
4.根据权利要求1所述的一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其特征在于：所述的升降槽(26)的内壁上均呈直线分布设置有若干定位槽(261)，所述卡块(31)内均设置有若干三号电动推杆(311)，所述三号电动推杆(311)的输出端均贯穿所述卡块(31)并设置有定位板(312)，所述定位板(312)远离所述三号电动推杆(311)的一侧均设置有若干定位齿(313)，所述定位齿(313)分别与对应设置的所述定位槽(261)相插接。
5.根据权利要求1所述的一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其特征在于：所述固定架(1)的两侧均设置有固定板(13)，所述固定板(13)上均设置有一号液压缸(14)，所述一号液压缸(14)的输出端均设置有凹型结构的支撑板(15)，所述支撑板(15)分别与所述活动架(2)的两侧相接触。
6.根据权利要求1所述的一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其特征在于：所述的升降槽(26)内均设置有丝杠(4)，所述卡块(31)上均开设有通槽(41)，所述丝杠(4)均贯穿对应设置的所述通槽(41)，所述卡块(31)内并位于所述通槽(41)的一侧均设置有四号电动推杆(42)，所述四号电动推杆(42)的输出端均贯穿所述卡块(31)延伸至对应设置的所述通槽(41)内并设置有压块(43)，所述压块(43)远离所述四号电动推杆(42)的一侧均为内弧形结构并开设有螺纹，所述压块(43)分别与所述丝杠(4)对应设置。
7.根据权利要求6所述的一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其特征在于：所述的丝杠(4)的底部均设置有联动齿轮(44)，所述联动齿轮(44)之间套设有齿轮皮带(45)。
8.根据权利要求1所述的一种液晶屏ITO基板蚀刻成型方法，其特征在于：所述的活动架(2)的顶部设置有二号液压缸(5)，所述二号液压缸(5)的输出端设置有盖板(51)，所述盖板(51)与所述活动架(2)最上方的所述托盘(3)相接触。
CN202110714458.3A 2021-06-26 2021-06-26 一种液晶屏ito基板蚀刻成型方法 Withdrawn CN113436973A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110714458.3A CN113436973A (zh) 2021-06-26 2021-06-26 一种液晶屏ito基板蚀刻成型方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110714458.3A CN113436973A (zh) 2021-06-26 2021-06-26 一种液晶屏ito基板蚀刻成型方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113436973A true CN113436973A (zh) 2021-09-24

Family

ID=77755272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110714458.3A Withdrawn CN113436973A (zh) 2021-06-26 2021-06-26 一种液晶屏ito基板蚀刻成型方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113436973A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113943967A (zh) * 2021-10-14 2022-01-18 浙江爱旭太阳能科技有限公司 一种太阳能光伏产品水平电镀设备及其治具

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113943967A (zh) * 2021-10-14 2022-01-18 浙江爱旭太阳能科技有限公司 一种太阳能光伏产品水平电镀设备及其治具

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN211557663U (zh) 一种用于液晶显示器模组的全自动贴片机
CN113436973A (zh) 一种液晶屏ito基板蚀刻成型方法
CN109382738A (zh) 一种集成电路覆铜板表面打磨装置
CN211718662U (zh) 一种液晶显示模组生产用的触摸屏贴合装置
CN112497077A (zh) 一种玻璃镜片加工工艺及电子设备
CN113578872B (zh) 一种汽车冲压模具内腔面清洁处理机械及清洁处理方法
CN209937947U (zh) 一种洗衣机控制面板贴膜压合机构
CN210525750U (zh) 一种数位镜头生产用光学镜片注塑模的脱模装置
CN214288339U (zh) 一种医用试管封膜机上下料装置
CN218139892U (zh) 一种汽车零件贴膜及预处理装置
CN216979489U (zh) Cog压接设备
CN219574529U (zh) 一种lcd剥膜处理机器
CN217668394U (zh) 一种光学镜头凸面打磨成型设备
CN212553253U (zh) 一种2.5d扫光机
CN221078698U (zh) 指纹识别模组检测装置
CN217944057U (zh) 一种医用手术器材支架模具
CN116298894B (zh) 一种高节拍高柔性双工位电芯测试台
CN112140525A (zh) 一种液晶显示屏生产用自动上料防碎屏快速贴膜装置
CN218729091U (zh) 一种端子线生产用计数装置
CN216012685U (zh) 一种手机显示屏的承压检测装置
CN217033594U (zh) 一种视觉检测定位装置
CN218647255U (zh) 一种手机触摸屏与lcd自动贴合夹具
CN216836104U (zh) 一种旋转双工位贴垫片结构
CN216670146U (zh) 一种工控产品电气自动化检测台
CN216030106U (zh) 一种中大尺寸ag玻璃盖板表面功能孔定位抛光装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WW01 Invention patent application withdrawn after publication
WW01 Invention patent application withdrawn after publication

Application publication date: 20210924