CN113416927A - 一种film材料为基板的新型滤光片制作方法 - Google Patents
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Abstract
本方案设计的一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，使用FILM材料作为基板，通过镀膜机将两种镀膜材料五氧化三钛与二氧化硅按照一定的比例蒸镀到FILM基板上去，FILM基板厚度只有0.11mm，而传统的白玻璃或者蓝玻璃的滤光片厚度通常是0.21mm，可有效降低摄像头模组的整体厚度；同时光谱透过率0度和30度在10%处的偏移量可以控制在10nm以内，有效降低30度成像失真问题，传统蓝玻璃10%处的偏移高达20‑30nm的偏移量，对30度或者广角的拍摄会失真很多。
Description
技术领域
本发明属于光学滤波片技术领域，具体涉及一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法。
背景技术
传统白玻璃或者蓝玻璃的滤光片厚度通常是0.21mm，这样会使整个摄像头模组的厚度增大，而针对当下电子产品对产品外观的要求越来越高，显然摄像头模组的厚度会直接影响电子产品的美观程度；同时，传统蓝玻璃10%处的偏移高达20-30nm的偏移量，对30度或者广角的拍摄会失真很多，无法满足摄像头模组高性能的要求。
因此，有必要设计一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法来解决上述技术问题。
发明内容
为克服上述现有技术中的不足，本发明目的在于提供一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法。
为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供的技术方案是：一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，其包括如下步骤：
步骤一：选取成卷的FILM原材料进行裁剪，根据产品的规格裁剪成规定的尺寸作为基板；
步骤二：撕除上述步骤一中所述基板上的保护膜，通过离子风去除基板表面的静电，然后将所述基板放入套环内进行定位并在所述基板上方盖上玻璃；
步骤三：将盖好玻璃的基板放入镀膜机的镀膜伞上，通过镀膜机将五氧化三钛与二氧化硅两种镀膜材料按照设定好的比例蒸镀至基板材料表面；
步骤四：所述基板完成镀膜后，从镀膜机中取出，静置冷却；
步骤五：所述基板冷却后，再对其反面进行镀膜，镀膜重复上述步骤二和步骤三，所述基板两面镀膜后，产品完成。
优选的，上述步骤二中盖在所述基板上方的玻璃需要进行清洗。
优选的，上述步骤二整个落片过程需在无尘棚中进行。
优选的，上述步骤三中所用到的镀膜机镀膜时需调节抽真空范围在1.0~2.0--3Pa，镀膜温度范围在70~90℃。
优选的，上述步骤四中基板表面的五氧化三钛与二氧化硅两种镀膜材料的镀膜层数范围在24~28层。
优选的，所述上述步骤四中基板在镀膜机中完成镀膜后需要冷却放气30分钟
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有的优点如下：
本方案设计的一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，使用FILM材料作为基板，通过镀膜机将两种镀膜材料五氧化三钛与二氧化硅按照一定的比例蒸镀到FILM基板上去，FILM基板厚度只有0.11mm，而传统的白玻璃或者蓝玻璃的滤光片厚度通常是0.21mm，可有效降低摄像头模组的整体厚度；同时光谱透过率0度和30度在10%处的偏移量可以控制在10nm以内，有效降低30度成像失真问题，满足摄像头模组高性能的要求。
附图说明
图1为FILM成品光谱透过率测试图。
图2为传统蓝玻璃光谱透过率测试图。
具体实施方式
以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效。
请参阅图1~图2。须知，在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本方案公开一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，具体制备过程为：选取成卷的FILM原材料进行裁剪，根据产品的规格裁剪成规定的尺寸作为基板；撕除所述基板上的保护膜，通过离子风去除基板表面的静电，然后将所述基板放入套环内进行定位并在所述基板上方盖上玻璃；将盖好玻璃的基板放入镀膜机的镀膜伞上，通过镀膜机将五氧化三钛与二氧化硅两种镀膜材料按照设定好的比例蒸镀至基板材料表面；所述基板完成镀膜后，从镀膜机中取出，静置冷却；基板冷却后，再对其反面进行镀膜，镀膜重复上述步骤，所述基板两面镀膜后，产品完成。
优选实施方式如下：
盖在所述基板上方的玻璃需要进行清洗，保证其洁净度，避免影响产品质量。
整个落片过程需在无尘棚中进行，避免灰尘等杂志造成基板以及玻璃污染，从而影响产品质量。
镀膜机镀膜时需调节抽真空范围在1.0~2.0--3Pa，镀膜温度范围在70~90℃。
基板表面的五氧化三钛与二氧化硅两种镀膜材料的镀膜层数范围在24~28层。
基板在镀膜机中完成镀膜后需要冷却放气30分钟，防止冷却过快引起基板收缩导致翘曲。
上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
Claims (6)
1.一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，其特征在于：其包括如下步骤：
步骤一：选取成卷的FILM原材料进行裁剪，根据产品的规格裁剪成规定的尺寸作为基板；
步骤二：撕除上述步骤一中所述基板上的保护膜，通过离子风去除基板表面的静电，然后将所述基板放入套环内进行定位并在所述基板上方盖上玻璃；
步骤三：将盖好玻璃的基板放入镀膜机的镀膜伞上，通过镀膜机将五氧化三钛与二氧化硅两种镀膜材料按照设定好的比例蒸镀至基板材料表面；
步骤四：所述基板完成镀膜后，从镀膜机中取出，静置冷却；
步骤五：所述基板冷却后，再对其反面进行镀膜，镀膜重复上述步骤二和步骤三，所述基板两面镀膜后，产品完成。
2.根据权利要求1所述的一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，其特征在于：上述步骤二中盖在所述基板上方的玻璃需要进行清洗。
3.根据权利要求1所述的一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，其特征在于：上述步骤二整个落片过程需在无尘棚中进行。
4.根据权利要求1所述的一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，其特征在于：上述步骤三中所用到的镀膜机镀膜时需调节抽真空范围在1.0~2.0--3Pa，镀膜温度范围在70~90℃。
5.根据权利要求1所述的一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，其特征在于：上述步骤四中基板表面的五氧化三钛与二氧化硅两种镀膜材料的镀膜层数范围在24~28层。
6.根据权利要求1所述的一种FILM材料为基板的新型滤光片制作方法，其特征在于：所述上述步骤四中基板在镀膜机中完成镀膜后需要冷却放气30分钟。
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