CN113391498A - 激光投射光学器件及激光投射模组 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种激光投射模组以及用于其的激光投射光学器件。所述激光投射模组包括激光光源和激光投射光学器件，该激光投射光学器件包括集成在同一透明基板上的菲涅尔透镜和衍射光学元件，激光光源大致设置在菲涅尔透镜的前焦面处。当透明基板碎裂时，菲涅尔透镜随之一起碎裂，不再对来自激光光源的光束进行准直，从而可以大大降低准直的激光光束从激光投射模组直接投射出来而带来的人眼安全危害。此外，还可以极大降低了整个激光投射模组的成本。

Description

激光投射光学器件及激光投射模组
技术领域
本发明总体上涉及三维传感技术，具体地涉及可应用于三维传感装置的激光投射光学器件以及激光投射模组。
背景技术
三维人脸识别技术作为一种快捷、方便、有效的身份识别技术，已广泛应用于金融、安防、门禁、社交娱乐、交通等领域。三维人脸识别技术主要为TOF(Time of Flying,飞行时间)技术和结构光技术，其中TOF技术又包括DTOF(直接飞行时间，direct-ToF)和ITOF(间接飞行时间，indirect-ToF)。DTOF和结构光方案中一个核心模组是点阵分束器件/激光投射模组。
目前，如图1所示，主流的点阵投射器采用VCSEL(垂直腔面发射激光器)光源1、多片式准直镜2和二元光学分束器3组合的方式来实现。这种方式组装结构较为复杂，且多片式准直镜2成本较高。
同时，二元光学分束器3由形成在基板3a上的二元光学器件(又称“衍射光学元件(Diffractive Optical Element,DOE)”)3b构成，基板3a通常使用玻璃材质，易碎裂而造成经准直镜2准直之后的激光在未经二元光学器件3b衍射的情况下从点阵投射器直射出来，带来人眼安全问题。点阵投射器中二元光学分束器3相对于光源1和准直镜2的意外移位也会造成相同的人眼安全问题。当前的一种解决方案是在二元光学分束器3的未形成二元光学器件3b的一面镀上ITO(氧化铟锡)层3c。这样，在二元光学分束器3碎裂后，ITO层3c相应的电路断开，可以触发断电保护，例如可以关闭激光光源1。然而，这种解决方案也并非没有缺陷，特别是其中ITO层增加了点阵投射器的成本。
发明内容
本发明的目的是提供一种激光投射光学器件及激光投射模组，其中至少部分地克服了现有技术中的不足。
根据本发明的一个方面，提供了一种激光投射光学器件，其包括菲涅尔透镜和衍射光学元件，并且所述菲涅尔透镜和所述衍射光学元件集成在同一透明基板上。
有利地，所述衍射光学元件可以为分束器或者匀光器。
有利地，所述菲涅尔透镜可以为具有台阶状面型的二元菲涅尔透镜。
有利地，所述菲涅尔透镜和所述衍射光学元件可以是通过半导体光刻和刻蚀工艺分别形成在所述同一透明基板的两侧上的。
或者，所述菲涅尔透镜和所述衍射光学元件可以是通过微纳压印工艺分别压印在所述同一透明基板的两侧上的。
或者，所述菲涅尔透镜是通过微纳压印工艺形成在所述透明基板的一侧上的，所述衍射光学元件是通过半导体光刻和刻蚀工艺形成在所述透明基板的另一侧上的。
有利地，所述透明基板可以包括结合在一起的两个以上的层结构。
根据本发明的另一个方面，提供了一种激光投射模组，其包括激光光源和如上所述的激光投射光学器件，其中，所述激光光源大致设置在所述激光投射光学器件中的菲涅尔透镜的前焦面处。
有利地，所述激光光源可以为VCSEL点阵光源。
有利地，所述激光投射光学器件设置为使得所述衍射光学元件位于所述激光光源与所述菲涅尔透镜之间。
根据本发明实施例，当激光投射光学器件的透明基板碎裂时，形成在透明基板上的菲涅尔透镜随之一起碎裂，不再对来自激光光源的光束进行准直，从而可以大大降低准直的激光光束从激光投射模组直接投射出来而带来的人眼安全危害。此外，还可以节省现有技术方案中的多片式准直镜和ITO镀层，极大降低了整个激光投射模组的成本。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1示意性地示出了已有的激光投射模组的一个示例；
图2为根据本发明实施例一的激光投射模组及激光投射光学器件的示意图；
图3为可用于图2所示激光投射模组中的VCSEL激光光源的激光器点阵的示意图；
图4为基于图2所示的激光投射光学器件和图3所示VCSEL激光器点阵所获得的激光点阵的一个示例；
图5为根据本发明实施例一的激光投射模组及激光投射光学器件的示意图；
图6为可用于图5所示激光投射模组中的VCSEL激光光源的激光器点阵的示意图；
图7为基于图5所示的激光投射光学器件和图6所示VCSEL激光器点阵所获得的激光点阵的一个示例；以及
图8示意性地示出了可用于根据本发明实施例的激光投射光学器件的菲涅尔透镜的两种形式。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
以下参照图2至图4介绍根据本发明实施例一的激光投射模组以及激光投射光学器件。
首先，参照图2，图2示意性地示出了根据本发明实施例一的激光投射模组100和激光投射光学器件120。如图2所示，激光投射模组100包括激光光源110和激光投射光学器件120。激光投射光学器件120包括透明基板121和集成在该透明基板121上的菲涅尔透镜122和衍射光学元件123。激光光源110大致设置在激光投射光学器件120中的菲涅尔透镜122的前焦面处，从而菲涅尔透镜122能够对来自激光光源110的光束进行准直。
优选地，激光光源110为VCSEL点阵光源。
衍射光学元件123用于对来自激光光源110的光源光束进行衍射，以投射出期望的激光光场。该期望的激光光场包括但不限于激光点阵光场和匀光光场。相应地，衍射光学元件123可以构成例如激光分束器或匀光器，但是本发明并不限于此。
根据本实施例，激光投射光学器件120相对于激光光源110设置为使得菲涅尔透镜122位于激光光源110与衍射光学元件123之间。在图2所示示例中，菲涅尔透镜122和衍射光学元件123分别形成在透明基板121的两侧上，并且菲涅尔透镜122设置在透明基板121的靠近激光光源110的一侧。
透明基板121例如可以为玻璃基板或PET基板。
激光光源110发出的光源光束通常具有一定的发散角度，特别是VCSEL激光光源发出的光源光束的发散角较大，在20°左右，所以如果不经过准直，从激光光源发出的光束对人眼的危害就会大大地降低。根据本发明实施例，当激光投射光学器件120的透明基板121(例如玻璃基板)碎裂时，形成在透明基板121上的菲涅尔透镜122随之一起碎裂，不再对来自激光光源的光束进行准直，从而可以大大降低准直的激光光束从激光投射模组直接投射出来而带来的人眼安全危害。这在激光光源110采用VCSEL光源的情况下尤为有利。
此外，根据本发明实施例，由于激光投射光学器件中的菲涅尔透镜不仅可以用作准直镜，而且可以大大降低衍射光学元件的基板发生碎裂时带来的人眼安全危害，从而节省了现有技术方案中的多片式准直镜和ITO镀层，极大降低了整个激光投射模组的成本。
菲涅尔透镜122和衍射光学元件123可以通过半导体光刻和刻蚀工艺直接在透明基板121的两侧刻蚀得到。
作为替代，菲涅尔透镜122和衍射光学元件123可以通过微纳压印工艺压印在透明基板121的两侧上。这种情况下。由于微纳压印工艺的压印模版可以反复利用，所以有利于降低激光投射光学器件120的制造成本。
此外，作为替代，菲涅尔透镜122和衍射光学元件123也可以分别采用不同的制作工艺形成。例如，菲涅尔透镜122可以通过微纳压印工艺压印形成在透明基板121的一侧上，而衍射光学元件123可以通过半导体光刻和刻蚀工艺形成在透明基板121的另一侧上。
根据本发明实施例的激光投射光学器件在制造过程中无需将菲涅尔透镜与衍射光学元件精确对准，所以便于制造，有利于降低成本。
为了便于理解，接下来将参照图3和图4介绍根据本发明实施例一的激光投射模组100的一个数据例，即数据例一。
图3为可用于图2所示激光投射模组100中的VCSEL点阵光源的激光器点阵的示意图。在图3所示示例中，VCSEL激光器排布形成25×20的点阵，有效发光区域为0.75μm×0.6μm，发散角约为22°，波长为940nm。
在数据例一中，将具有图3所示激光器点阵的VCSEL点阵光源用作图2所示激光投射模组100的激光光源110，并且菲涅尔透镜122位于靠近VCSEL点阵光源110的一侧。VCSEL点阵光源110到菲涅尔透镜122的距离为2.2mm，菲涅尔透镜122的焦距为2.2mm，即VCSEL点阵光源110位于菲涅尔透镜122的的前焦面处。菲涅尔透镜122的面型选择标准球面面型，且采用连续面型菲涅尔化形式(见图8的图形(a))，其中菲涅尔齿t的高度最大为30μm。这里，“连续面型”指的是构成菲涅尔透镜的各个菲涅尔齿t的表面是连续变化的，而非台阶状的。
在数据例一中，衍射光学元件123为2级台阶的衍射光学器件，周期为3.274μm×2.702μm，并且设计为一个3×3的均匀点阵分束器。
最终，在数据例一中，激光投射模组100可实现FOV为62.4°×50.1°的4500点的激光点阵投射器，并且其在一米距离处的平面上投射得到的光场如图4所示。
以下参照图5至图7介绍根据本发明实施例二的激光投射模组以及激光投射光学器件。
参照图5，图5示意性地示出了根据本发明实施例二的激光投射模组200和激光投射光学器件220。如图5所示，激光投射模组200包括激光光源210和激光投射光学器件220。激光投射光学器件220包括透明基板221和集成在该透明基板221上的菲涅尔透镜222和衍射光学元件223。激光光源210大致设置在激光投射光学器件220中的菲涅尔透镜222的前焦面处，从而菲涅尔透镜222能够对来自激光光源210的光束进行准直。
根据本实施例，激光投射光学器件220相对于激光光源210设置为使得衍射光学元件223位于激光光源210与菲涅尔透镜222之间。在图5所示示例中，菲涅尔透镜222和衍射光学元件223分别形成在透明基板221的两侧上，并且衍射光学元件223设置在透明基板221的靠近激光光源210的一侧。
类似于实施例一，根据本实施例，当激光投射光学器件220的透明基板221(例如玻璃基板)碎裂时，形成在透明基板221上的菲涅尔透镜222随之一起碎裂，不再对来自激光光源210的光束进行准直，从而可以大大降低准直的激光光束从激光投射模组200直接投射出来而带来的人眼安全危害。这在激光光源210采用VCSEL光源的情况下尤为有利。此外，根据本发明实施例，还可以节省现有技术方案中的多片式准直镜和ITO镀层，极大降低了整个激光投射模组的成本。
根据本发明实施例二的激光投射模组200的其他方面与根据本发明实施例一的激光投射模组100基本上相同，在此不再赘述。
为了便于理解，接下来将参照图6和图7介绍根据本发明实施例二的激光投射模组200的一个数据例，即数据例二。
图6为可用于图5所示激光投射模组200中的VCSEL点阵光源的激光器点阵的示意图。在图6所示示例中，VCSEL激光器排布形成25×20的点阵，有效发光区域为0.7μm×0.6μm，发散角约为22°，波长为940nm。
在数据例二中，将具有图5所示激光器点阵的VCSEL点阵光源用作图5所示激光投射模组200的激光光源210，并且菲涅尔透镜222位于远离VCSEL点阵光源210的一侧。菲涅尔透镜222的焦距为3.2mm，VCSEL点阵光源210位于菲涅尔透镜222的前焦面处，即从点阵光源210到菲涅尔透镜的距离为3.2mm。在该数据例中，菲涅尔透镜222的面型为标准球面面型，且采用连续面型菲涅尔化形式(见图8的图形(a)中所示的连续面型222a)，其中菲涅尔齿t的高度最大为30μm。这里，“连续面型”指的是构成菲涅尔透镜的各个菲涅尔齿t的表面是连续变化的，而非台阶状的。
在数据例二中，衍射光学元件223为2级台阶的衍射光学元件，其周期为4.763μm×4.211μm，并且设计为一个5×5的均匀点阵分束器。
最终，在数据例二中，激光投射模组200可实现FOV为67.5°×58.5°的12500点的激光点阵投射器，并且其在一米距离处的平面上投射得到的光场如图7所示。
上述数据例二很好地显示，当将用作准直镜的菲涅尔透镜与用作例如分束器或匀光器的衍射光学元件彼此紧挨地集成在同一透明基板上时，菲涅尔透镜即使沿光路方向设置在衍射光学元件的下游，激光投射模组亦能够实现所期待的激光投射效果。这与采用传统的多片式准直镜的情况下显著不同的，采用多片式准直镜的激光投射模组中准直镜沿光路固定地设置在衍射光学元件的上游。
以上参照附图并结合数据例介绍了根据本发明实施例的激光投射模组和激光投射光学器件。在图2和图5所示示例中，菲涅尔透镜和衍射光学元件形成在透明基板的两侧上。然而应该理解，本发明并不限于菲涅尔透镜和衍射光学元件集成在透明基板的具体位置；菲涅尔透镜和衍射光学元件只要被集成的同一透明基板上，从而确保衍射光学元件所在的透明基板碎裂的时候用作准直镜的菲涅尔透镜也失效，那么就能用于本发明。例如，菲涅尔透镜和衍射光学元件可以依次形成/制作在同一透明基板的同一侧上，两者之间可以形成有覆盖层或间隔层。
虽然本发明实施例中的激光光源为VCSEL光源，但本发明并不仅限于此，激光二极管等其它激光光源也可用于本发明所保护的技术方案中。
另外，应该理解，在本申请的上下文中，“透明基板”并不限于由单个层构成的结构，而可以包括结合在一起的两个以上的层结构。
上述数据例一和数据例二中，衍射光学元件均采用了2级台阶的二元化结构(参见图2、图5所示衍射光学元件123、223的台阶状面型123a、223a)，然而这并不是必须的。根据本发明实施例，衍射光学元件也可以采用例如4、8、16级台阶等的二元化结构。
上述数据例一和数据例二中，菲涅尔透镜均采用了连续面型菲涅尔化形式，然而这也不是必须的。根据本发明实施例，菲涅尔透镜也可以为具有台阶状形貌的二元菲涅尔透镜。
为了便于理解，图8示意性地示出了可用于根据本发明实施例的激光投射光学器件的菲涅尔透镜的两种形式。
图8中图形(a)示意性地示出了可用于菲涅尔透镜122、222的连续面型122a、222a，其中菲涅尔透镜122、222具有多个菲涅尔齿t，各个菲涅尔齿t的表面是连续变化的，而非台阶状的。
图8中图形(b)示意性地示出了可用于菲涅尔透镜122、222的台阶状面型122a’、222a’，其中菲涅尔透镜122、222具有多个菲涅尔齿t，各个菲涅尔齿t的表面包括多个台阶面s，从而呈台阶状变化。台阶状面型122a’、222a’可以采用具有例如2、4、8、16级台阶的二元化结构。具有这样的台阶状面型的菲涅尔透镜可以构成二元菲涅尔透镜。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (10)

1.一种激光投射光学器件，包括菲涅尔透镜和衍射光学元件，并且所述菲涅尔透镜和所述衍射光学元件集成在同一透明基板上。
2.如权利要求1所述的激光投射光学器件，其中，所述衍射光学元件为分束器或者匀光器。
3.如权利要求1所述的激光投射光学器件，其中，所述菲涅尔透镜为具有台阶状面型的二元菲涅尔透镜。
4.如权利要求1-3中任一项所述的激光投射光学器件，其中，所述菲涅尔透镜和所述衍射光学元件是通过半导体光刻和刻蚀工艺分别形成在所述同一透明基板的两侧上的。
5.如权利要求1-3中任一项所述的激光投射光学器件，其中，所述菲涅尔透镜和所述衍射光学元件是通过微纳压印工艺分别压印在所述同一透明基板的两侧上的。
6.如权利要求1-3中任一项所述的激光投射光学器件，其中，所述菲涅尔透镜是通过微纳压印工艺形成在所述透明基板的一侧上的，所述衍射光学元件是通过半导体光刻和刻蚀工艺形成在所述透明基板的另一侧上的。
7.如权利要求1-3中任一项所述的激光投射光学器件，其中，所述透明基板包括结合在一起的两个以上的层结构。
8.一种激光投射模组，包括激光光源和如权利要求1-7中任一项所述的激光投射光学器件，其中，所述激光光源大致设置在所述激光投射光学器件中的菲涅尔透镜的前焦面处。
9.如权利要求8所述的激光投射模组，其中，所述激光光源为VCSEL点阵光源。
10.如权利要求8或9所述的激光投射模组，其中，所述激光投射光学器件设置为使得所述衍射光学元件位于所述激光光源与所述菲涅尔透镜之间。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102868087A (zh) * 2012-09-29 2013-01-09 哈尔滨工业大学 一种激光器
CN107357123A (zh) * 2017-07-27 2017-11-17 深圳奥比中光科技有限公司 含有菲涅尔透镜的激光投影装置
CN110716377A (zh) * 2018-07-13 2020-01-21 南昌欧菲生物识别技术有限公司 投影模组、光电装置和电子设备
CN112835139A (zh) * 2021-03-04 2021-05-25 浙江水晶光电科技股份有限公司 一种光学元件及光学模组
CN112946790A (zh) * 2021-04-12 2021-06-11 浙江水晶光电科技股份有限公司 一种光学元件及光学模组

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102868087A (zh) * 2012-09-29 2013-01-09 哈尔滨工业大学 一种激光器
CN107357123A (zh) * 2017-07-27 2017-11-17 深圳奥比中光科技有限公司 含有菲涅尔透镜的激光投影装置
CN110716377A (zh) * 2018-07-13 2020-01-21 南昌欧菲生物识别技术有限公司 投影模组、光电装置和电子设备
CN112835139A (zh) * 2021-03-04 2021-05-25 浙江水晶光电科技股份有限公司 一种光学元件及光学模组
CN112946790A (zh) * 2021-04-12 2021-06-11 浙江水晶光电科技股份有限公司 一种光学元件及光学模组

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