CN113314577A - 一种显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,用于提高显示基板的显示寿命。显示基板具有显示区,显示区包括主显示区和副显示区。显示基板包括:衬底;绝缘层;以及发光器件。绝缘层包括位于副显示区的面积增大部。发光器件包括第一发光器件和第二发光器件。第一发光器件位于面积增大部远离衬底的一侧表面;任意相邻的两个第一发光器件之间的间距大于任意相邻的两个第二发光器件之间的间距。第一发光器件在衬底上的正投影面积,小于第二发光器件在衬底上的正投影面积。第一发光器件的有效发光面积,大于第一发光器件在衬底上的正投影面积。本发明实施例提供的显示基板及其制备方法、显示装置用于进行画面显示。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
随着科学技术的不断发展,用户对显示装置的屏占比(显示屏的面积与显示装置的前面板的面积的比例)有着越来越高的追求。
相关技术领域中,出现了全面屏的概念,也即,将显示装置中的摄像头等光学器件设置在显示屏的下方,以增大显示屏的面积与显示装置的前面板的面积之间的比例,并使得该比例趋近于100%。
发明内容
本发明实施例的目的在于提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,用于提高显示基板的显示寿命。
为达到上述目的,本发明实施例提供了如下技术方案:
本发明实施例的第一方面,提供一种显示基板。一种显示基板,所述显示基板具有显示区,所述显示区包括主显示区和位于所述主显示区的至少一侧的副显示区;所述显示基板包括:衬底;设置在所述衬底一侧的绝缘层;以及,设置在所述绝缘层远离所述衬底一侧的多个发光器件。所述绝缘层包括位于所述副显示区的至少一个面积增大部。所述多个发光器件包括位于所述副显示区的多个第一发光器件和位于所述主显示区的多个第二发光器件。至少一个第一发光器件位于所述面积增大部远离所述衬底的一侧表面。其中,任意相邻的两个第一发光器件之间的间距大于任意相邻的两个第二发光器件之间的间距。所述第一发光器件在所述衬底上的正投影面积,小于第二发光器件在所述衬底上的正投影面积。所述第一发光器件的有效发光面积,大于所述第一发光器件在所述衬底上的正投影面积。
本发明的实施例所提供的显示基板,通过设置绝缘层和发光器件,并减小位于副显示区的第一发光器件在衬底上的正投影面积,增大任意相邻两个第一发光器件之间的间距,可以在避免降低像素密度的同时,改善甚至避免穿过该任意相邻两个第一发光器件之间光线发生衍射的现象,进而在将显示基板应用至上述显示装置的情况下,可以有效提高光学器件的拍照质量(或成像效果)。而且,本发明通过设置绝缘层的结构,使得绝缘层包括位于副显示区的面积增大部,并将第一发光器件设置在面积增大部远离衬底的一侧表面,以使得第一发光器件的整体形状随面积增大部远离衬底的一侧表面的变化而变化,进而使得第一发光器件的有效发光面积,大于第一发光器件在衬底上的正投影面积,从而增大了第一发光器件中发光层的有效面积,提高了第一发光器件及显示基板的显示寿命。
在一些实施例中,所述面积增大部朝向所述衬底呈凹陷状,或者,所述面积增大部远离所述衬底呈凸起状;所述面积增大部的剖面形状包括:三角形、梯形或弧形。
在一些实施例中,所述第一发光器件在所述衬底上的正投影的至少一部分,位于所述面积增大部在所述衬底上的正投影范围内。
在一些实施例中,在所述面积增大部的剖面形状包括三角形或梯形的情况下,所述面积增大部的侧面和所述衬底之间的夹角为α1,其中,1°≤α1≤70°。在所述面积增大部的剖面形状包括弧形的情况下,所述面积增大部的剖面形状中,弧形的弧边的切线和所述衬底之间的夹角为α2,其中,α2≤70°。
在一些实施例中,所述面积增大部在所述衬底上的正投影呈条状,所述面积增大部远离所述衬底的一侧表面上设置有至少一个所述发光器件;或者,所述面积增大部在所述衬底上的正投影呈块状,所述面积增大部远离所述衬底的一侧表面上设置有一个所述发光器件。
在一些实施例中,所述显示基板还包括:设置在所述多个发光器件远离所述衬底一侧的封装层。所述封装层包括依次层叠的第一无机层、有机层和第二无机层。所述第一无机层包括位于所述副显示区的至少一个光线调节部;其中,所述第一发光器件在所述衬底上的正投影,位于所述光线调节部在所述衬底上的投影范围内。所述光线调节部被配置为,调节所述发光器件发出的光线的传播方向,使得调节后的光线的传播方向与所述衬底之间的夹角大于调节前的光线的传播方向与所述衬底之间的夹角。
在一些实施例中,所述光线调节部远离所述衬底呈凸起状;所述光线调节部的剖面形状包括:三角形、梯形或弧形。
在一些实施例中,在所述光线调节部的剖面形状包括三角形的情况下,所述光线调节部的侧面和所述衬底之间的夹角为β1,其中,55°≤β1<90°;在所述光线调节部的剖面形状包括梯形的情况下,所述光线调节部的侧面和所述衬底之间的夹角为β2,其中,55°≤β2≤125°;在所述光线调节部的剖面形状包括弧形的情况下,所述光线调节部的剖面形状中,弧形的弧边的切线和所述衬底之间的夹角为β3,其中,β3≤90°。
在一些实施例中,所述第一无机层的折射率为n1,所述有机层的折射率为n2,n1>n2;在1°≤α1≤70°且α2≤70°的情况下,n1sin(B-A)=n2sinB;其中,A为α1和α2中的一者,B为β1、β2和β3中的一者。
在一些实施例中,所述显示基板还具有位于所述显示区至少一侧的边框区;所述显示基板还包括:位于所述衬底和所述绝缘层之间的多个像素驱动电路。所述多个像素驱动电路包括多个第一像素驱动电路和多个第二像素驱动电路。所述第一发光器件穿过所述绝缘层与一个第一像素驱动电路电连接;所述第一像素驱动电路位于所述边框区或所述主显示区。所述第二发光器件穿过所述绝缘层与一个第二像素驱动电路电连接。所述第二像素驱动电路位于所述主显示区。
又一方面,提供一种基板的制备方法。所述显示基板具有显示区,所述显示区包括主显示区和位于所述主显示区的至少一侧的副显示区。所述显示基板的制备方法包括:提供衬底;在所述衬底的一侧形成绝缘薄膜;采用相移掩膜工艺,对所述绝缘薄膜进行图案化处理,得到绝缘层;所述绝缘层包括位于所述副显示区的至少一个面积增大部;在所述绝缘层远离所述衬底的一侧形成多个发光器件;所述多个发光器件包括位于所述副显示区的多个第一发光器件和位于所述主显示区的多个第二发光器件;至少一个第一发光器件位于所述面积增大部远离所述衬底的一侧表面;其中,所述第一发光器件在所述衬底上的正投影面积,小于第二发光器件在所述衬底上的正投影面积;所述第一发光器件的有效发光面积,大于所述第一发光器件在所述衬底上的正投影面积。
在一些实施例中,所述显示基板的制备方法还包括:在所述多个发光器件远离所述衬底的一侧形成第一无机薄膜;采用相移掩膜工艺,对所述第一无机薄膜进行图案化处理,得到第一无机层;所述第一无机层包括位于所述副显示区的至少一个光线调节部;其中,所述第一发光器件在所述衬底上的正投影,位于所述光线调节部在所述衬底上的投影范围内;所述光线调节部被配置为,调节所述发光器件发出的光线的传播方向,使得调节后的光线的传播方向与所述衬底之间的夹角大于调节前的光线的传播方向与所述衬底之间的夹角;在所述第一无机层远离所述衬底的一侧依次形成有机层和第二无机层,得到封装层。
本发明的一些实施例所提供的显示基板的制备方法,与上述一些实施例中所提供的显示基板所能实现的有益效果相同,此处不再赘述。
又一方面,提供一种显示装置。所述显示装置包括:如上述实施例所述的显示基板,以及,设置在所述显示基板的非出光侧的光学器件;所述光学器件位于所述显示基板的副显示区。
本发明的一些实施例所提供的显示装置所能实现的有益效果,与上述一些实施例中所提供的显示基板所能实现的有益效果相同,此处不再赘述。
附图说明
为了更清楚地说明本公开中的技术方案,下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图,对于本领域普通技术人员来讲,还可以根据这些附图获得其他的附图。此外,以下描述中的附图可以视作示意图,并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程等的限制。
图1为根据本发明一些实施例中的一种显示装置的结构图;
图2为根据本发明一些实施例中的另一种显示装置的结构图;
图3为根据本发明一些实施例中的一种显示基板的结构图;
图4为根据本发明一些实施例中的另一种显示基板的结构图;
图5为根据本发明一些实施例中的一种显示基板的局部结构图;
图6为图5所示结构沿C-C’向的一种剖视图;
图7为图5所示结构沿C-C’向的另一种剖视图;
图8为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图9为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图10为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图11为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图12为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图13为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图14为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图15为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图16为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图17为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图18为图5所示结构沿C-C’向的又一种剖视图;
图19为根据本发明一些实施例中的一种显示基板的制备方法的流程图;
图20为根据本发明一些实施例中的另一种显示基板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合附图,对本发明一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明所提供的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
除非上下文另有要求,否则,在整个说明书和权利要求书中,术语“包括”被解释为开放、包含的意思,即为“包含,但不限于”。在说明书的描述中,术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例性实施例”、“示例”或“一些示例”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外,所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
以下,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明实施例的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
“A和/或B”,包括以下三种组合:仅A,仅B,及A和B的组合。
本文中“适用于”或“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言,其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。
另外,“基于”的使用意味着开放和包容性,因为“基于”一个或多个所述条件或值的过程、步骤、计算或其他动作在实践中可以基于额外条件或超出所述的值。
如本文所使用的那样,“约”或“近似”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值,其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即,测量系统的局限性)所确定。
本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中,为了清楚,放大了层和区域的厚度。因此,可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此,示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状,而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如,示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此,附图中所示的区域本质上是示意性的,且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状,并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。
目前,全面屏显示装置的PPI(Pixels Per Inch,像素密度)比较高,以便于实现更好的显示效果。但是,这样会导致该全面屏显示装置中,任意相邻两个子像素之间的间距很小。在外界光线穿过相邻两个子像素之间的间距进入摄像头的过程中,该外界光线容易发生衍射,进而容易降低摄像头的拍照质量。
基于此,本发明的一些实施例提供了一种显示基板100及其制备方法、显示装置1000。下面对显示基板100及其制备方法、显示装置1000分别进行介绍。
本公开的一些实施例提供一种显示装置1000,如图1所示。该显示装置1000可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在一些示例中,上述显示装置1000包括框架、设置于框架内的显示基板100、电路板、显示驱动IC(Integrated Circuit,集成电路)以及其他电子配件等。
在一些示例中,如图3-图4所示,上述显示基板100具有显示区E,该显示区E包括主显示区E1和位于主显示区E1的至少一侧的副显示区E2。
其中,显示区E的形状包括多种,可以根据实际需要选择设置。
示例性的,显示区E的形状可以为矩形、近似矩形、圆形或椭圆形等。其中,近似矩形为非严格意义上的矩形,其四个内角例如可以为圆角,或者某条边例如不是直线。
示例性的,副显示区E2的形状也可以为矩形、近似矩形、圆形或椭圆形等。
此处,上述“至少一侧”例如可以是,主显示区E1的一侧、两侧或多侧等。基于此,如图3所示,副显示区E2例如可以位于主显示区E1的一侧;或者,如图4所示,副显示区E2例如可以被主显示区E1包围。
在一些示例中,如图2所示,上述显示装置1000还包括光学器件200。该光学器件200设置在显示基板100的非出光侧、且位于上述副显示区E2。
示例性的,光学器件200例如可以为摄像头或红外传感器等。
以光学器件200为摄像头为例。在光学器件200进行工作的过程中,外界光线可以穿过显示基板100位于副显示区E2的部分,射入至光学器件200,这样光学器件200便可以采集该光线,实现拍照的功能。
本发明的一些实施例提供的一种显示基板100,如图6-图7所示,可以包括:衬底10。
上述衬底10的类型包括多种,可以根据实际需要选择设置。
示例性的,衬底10可以为刚性衬底。该刚性衬底例如可以为玻璃衬底或PMMA(Polymethyl methacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)衬底等。
示例性的,衬底10可以为柔性衬底。该柔性衬底例如可以为PET(Polyethyleneterephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)衬底、PEN(Polyethylene naphthalate twoformic acid glycol ester,聚萘二甲酸乙二醇酯)衬底或PI(Polyimide,聚酰亚胺)衬底等。
在一些示例中,如图6所示,显示基板100还包括:设置在衬底10一侧的绝缘层20。该绝缘层20包括位于副显示区E2的至少一个面积增大部21。该绝缘层20位于主显示区E1的部分远离衬底10的一侧表面为平整的表面。
上述绝缘层20的类型包括多种,可以根据实际需要选择设置。
示例性的,上述绝缘层20也可以为平坦层或钝化层等。
上述面积增大部21的数量可以为一个,也可以为多个,具体可以根据实际需要选择设置。
在一些示例中,显示基板100还包括:设置在绝缘层20远离衬底10一侧的多个发光器件30。该多个发光器件30例如呈阵列状排布。
上述发光器件30的类型包括多种。示例性的,该发光器件30可以为OLED(OrganicLight Emitting Diode,有机发光二极管),也可以为QLED(Quantum Dot Light EmittingDiodes,量子点发光二极管)。下面,本发明以发光器件为OLED为例,进行说明。
示例性的,上述发光器件包括阳极层、阴极层以及设置在阳极层和阴极层之间的发光层。其中,发光器件例如为顶发光型的发光器件。
基于此,上述发光器件中,阳极可以为不透明电极,阴极可以为半透明电极。这样在阳极、阴极以及两者之间的空间可以形成光学谐振腔。发光层发出的光可以在该光学谐振腔内发生变化,使得经阴极出射的光的强度增大,从而使得发光器件的发光强度增大。
示例性的,如图5所示,上述多个发光器件30包括位于副显示区E2的多个第一发光器件31和位于主显示区E1的多个第二发光器件32。其中,任意相邻的两个第一发光器件31之间的间距大于任意相邻的两个第二发光器件32之间的间距;第一发光器件31在衬底10上的正投影面积,小于第二发光器件32在衬底10上的正投影面积。
也就是说,本发明通过减小第一发光器件31在衬底10上的正投影面积,来增大任意相邻的两个第一发光器件31之间的间距。这样可以在避免降低PPI的基础上,增大光线穿过显示基板100进入摄像头200的通道的尺寸,进而可以有效改善光线在任意相邻的两个第一发光器件31之间的衍射现象,同时增加了进入摄像头200的光线量,从而提高摄像头200的拍照质量。
示例性的,如图6所示,至少一个第一发光器件31位于面积增大部21远离衬底10的一侧表面。上述多个第二发光器件32可以位于绝缘层20位于主显示区E1的部分远离衬底10的一侧表面。
此处,如图8-图9所示,面积增大部21远离衬底10的一侧表面所设置的第一发光器件31的数量,和面积增大部21在衬底10上正投影的形状相关。
例如,如图5所示,面积增大部21在衬底10上的正投影呈条状。此时,面积增大部21远离衬底10的一侧表面上可以设置有至少一个第一发光器件31。也即,面积增大部21远离衬底10的一侧表面可以设置有一个或多个第一发光器件31。
在面积增大部21上设置有多个第一发光器件31的情况下,可以减小面积增大部21的数量,进而有利于简化面积增大部21及绝缘层20的制作工艺。
又如,面积增大部21在衬底10上的正投影呈块状。此时,面积增大部21远离衬底10的一侧表面上可以设置有一个第一发光器件31。也即,面积增大部21和第一发光器件31之间一一对应。
这样便于根据各第一发光器件31的所在位置,对相应的面积增大部21的结构进行调整,提高相应第一发光器件31出光效果。
示例性的,如图6所示,第一发光器件31的有效发光面积,大于第一发光器件31在衬底10上的正投影面积。
例如,第一发光器件31的有效发光面积为,第一发光器件31覆盖绝缘层20的实际面积,也即,第一发光器件31的发光层的出光面的面积。
也就是说,将第一发光器件31设置在面积增大部21远离衬底10的一侧表面后,可以使得第一发光器件31整体呈非平面状结构,例如可以使得呈第一发光器件31整体折线状或弧状。这样可以有效增大第一发光器件31及其所包括的发光层的有效发光面积,有利于增大第一发光器件31的显示寿命。
由此,本发明的一些实施例所提供的显示基板100,通过设置绝缘层20和发光器件30,并减小位于副显示区E2的第一发光器件31在衬底10上的正投影面积,增大任意相邻两个第一发光器件31之间的间距,可以在避免降低PPI的同时,改善甚至避免穿过该任意相邻两个第一发光器件31之间光线发生衍射的现象,进而在将显示基板100应用至上述显示装置1000的情况下,可以有效提高光学器件200的拍照质量(或成像效果)。
而且,本发明通过设置绝缘层20的结构,使得绝缘层20包括位于副显示区E2的面积增大部21,并将第一发光器件31设置在面积增大部21远离衬底10的一侧表面,以使得第一发光器件31的整体形状随面积增大部21远离衬底10的一侧表面的变化而变化,进而使得第一发光器件31的有效发光面积,大于第一发光器件31在衬底10上的正投影面积,从而增大了第一发光器件31中发光层的有效面积,提高了第一发光器件31及显示基板100的显示寿命。
上述面积增大部21的结构包括多种,可以根据实际需要选择设置。
在一些实施例中,如图7所示,面积增大部21朝向衬底10呈凹陷状。即面积增大部21远离衬底10的一侧表面和衬底10之间的垂直距离,小于绝缘层20除面积增大部21外的其他部分远离衬底10的一侧表面和衬底10之间的垂直距离。
在另一些实施例中,如图7所示,面积增大部21远离衬底10呈凸起状。即远离衬底10的一侧表面和衬底10之间的垂直距离,大于绝缘层20除面积增大部21外的其他部分远离衬底10的一侧表面和衬底10之间的垂直距离。
在一些实施例中,如图5所示,第一发光器件31在衬底10上的正投影的至少一部分,位于面积增大部21在衬底10上的正投影范围内。即第一发光器件31在衬底10上的正投影一部分位于面积增大部21在衬底10上的正投影范围内,或全部位于面积增大部在衬底上的正投影范围内。
这样一来,由于面积增大部21朝向衬底10呈凹陷状或凸起状,第一发光器件31与相应的面积增大部21远离衬底10的一侧表面接触的部分的形状,会随面积增大部21远离衬底10的一侧表面的变化而变化。例如,面积增大部朝向衬底10呈凹陷状,则相应的第一发光器件31朝向衬底10呈凹陷状。又如,面积增大部朝向衬底10呈凸起状,则相应的第一发光器件31朝向衬底10呈凸起状。
这样便能够使得第一发光器件31的的有效发光面积大于其在衬底10上的正投影面积,从而增大了第一发光器件31的有效发光面积,增大了发光层的有效面积,提高了显示基板的显示寿命。
上述面积增大部21的剖面形状多种,可以根据实际需要选择设置。
在一些示例中,如图7-图9所示,面积增大部21的剖面形状包括:三角形、梯形或弧形。
面积增大部21的剖面形状为图5中沿C-C’向剖开后的剖面形状。该C-C’向例如垂直于面积增大部21的延伸方向。
这样一来,第一发光器件31整体形状也会随着相应的面积增大部21的剖面形状而呈现为非平面状(例如呈折线状或弧形),使得第一发光器件31的发光层的有效面积得到增加,从而提高了显示基板100的显示寿命。
在面积增大部21数量为多个的情况下,其剖面形状可以相同,也可以不同。
例如,多个面积增大部21剖面形状均为三角形。或者,多个面积增大部21中有一定数量的面积增大部21的剖面形状为三角形,一定数量的面积增大部21为梯形,其余数量的面积增大部21为弧形。或者,多个面积增大部21中一定数量的面积增大部21的剖面形状为三角形,其余数量的面积增大部21的剖面形状为梯形等。
在一些实施例中,如图6或图7所示,在面积增大部21的剖面形状包括三角形或梯形的情况下,面积增大部21的侧面和衬底10之间的夹角为α1,其中,1°≤α1≤70°。
示例性的,面积增大部21的侧面指的是,与绝缘层除面积增大部21以外的其他部分远离衬底的一侧表面连接、且和衬底之间具有一定夹角的表面。
这样可以避免面积增大部21的剖面形状呈现为直角三角形或直角梯形的情况,进而可以避免因面积增大部21的侧面和衬底10之间的夹角α1过大,使得第一发光器件31和相应的面积增大部21之间的附着力过小,而导致第一发光器件31和相应的面积增大部21之间出现剥离的情况,有利于确保第一发光器件31和面积增大部21之间的结构稳定性,确保显示基板100具有较好的显示质量。
在另一些实施例中,如图9所示,在面积增大部21的剖面形状包括弧形的情况下,面积增大部21的剖面形状中,弧形的弧边的切线和衬底10之间的夹角为α2,其中,α2≤70°。
这样一来,可以使得上述弧形的弧边呈劣弧状,进而能够在增大第一发光器件31的有效发光面积的同时,避免因弧边的切线与衬底10之间的夹角过大,而造成第一发光器件31和相应的面积增大部21之间的附着力过小,使得第一发光器件31和相应的面积增大部21之间出现剥离的情况,有利于确保第一发光器件31和面积增大部21之间的结构稳定性,确保显示基板100具有较好的显示质量。
在一些实施例中,如图6所示,显示基板100还包括:设置在多个发光器件远离衬底10一侧的封装层40。
在一些示例中,如图6所示,封装层40包括依次层叠的第一无机层41、有机层42和第二无机层43。
示例性的,有机层42为聚甲基丙烯酸甲酯等材料。
示例性的,如图6所示,第一无机层41包括位于副显示区E2的至少一个光线调节部411。也即,第一无机层41可以包括一个或多个光线调节部411。
可选的,如图10所示,第一发光器件31在衬底10上的正投影,位于光线调节部411在衬底10上的投影范围内。
例如,第一发光器件31在衬底10上的正投影与光线调节部411在衬底10上的投影重合,两者的正投影面积相等。或者,第一发光器件31在衬底10上的正投影边界位于光线调节部411在衬底10上的正投影边界范围内,或两者边界部分重合;此时,第一发光器件31在衬底10上的正投影面积小于光线调节部411在衬底10上的正投影面积。
示例性的,如图11所示,光线调节部411被配置为,调节发光器件30发出的光线的传播方向,使得调节后的光线的传播方向与衬底10之间的夹角γ2大于调节前的光线的传播方向与衬底10之间的夹角γ1。
示例性的,调节后的光线的传播方向与衬底10之间的夹角γ2为接近于90°的锐角或为直角,调节前的光线的传播方向与衬底10之间的夹角γ1为小于调节后的光线的传播方向与衬底10之间的夹角γ2。这样一来,经过光线调节部411调节后的光线传播方向,沿接近于垂直衬底10方向或垂直衬底10的方向出射,从而提高副显示区的显示效果。
在一些实施例中,如图11-图13所示,光线调节部411远离衬底10呈凸起状;光线调节部411的剖面形状包括:三角形、梯形或弧形。
示例性的,光线调节部411的剖面形状为图5中沿CC’剖开后的剖面形状。
示例性的,光线调节部411与第一无机层50为一体结构。
在光线调节部411数量为多个的情况下,其剖面形状可以相同,也可以不同。例如,多个光线调节部4111的剖面形状可以均为三角形。或者,多个光线调节部411中一定数量的光线调节部411的剖面形状为三角形,一定数量的光线调节部411的剖面形状为一部分为弧形,其余数量的光线调节部411的剖面形状为梯形。或者,多个光线调节部411中一定数量的光线调节部411的剖面形状为三角形,其余数量的光线调节部411的剖面形状为梯形等。
在一些实施例中,光线调节部411剖面形状与相对应的面积增大部21的剖面形状可以对应相同,也可以不同。
例如,在面积增大部21的剖面形状为三角形的情况下,相对应的光线调节部411的剖面形状可以为梯形,或弧形。在面积增大部21的剖面形状为梯形的情况下,相对应的光线调节部411的剖面形状也可以为三角形,或弧形。在面积增大部21的剖面形状为弧形的情况下,相对应的光线调节部411的剖面形状也可以为三角形,或梯形。
又如,光线调节部411的剖面形状和相对应的面积增大部21的剖面形状相同,即均为弧形,或均为三角形,或均为梯形。
通过设置光线调节部411的剖面形状为三角形、梯形或弧形,可以使得第一发光器件31发出的光线,在经过光线调节部411非平面状的表面时,能够发生折射,使得光线在一定程度上发生聚拢,改变了光线的出射方向,进而调节了从第一发光器件31射出的光线传播方向,提高副显示区E2的显示效果。
在一些实施例中,在光线调节部411的剖面形状包括三角形的情况下,光线调节部411的侧面和衬底10之间的夹角为β1,其中,55°≤β1<90°。在光线调节部411的剖面形状包括梯形的情况下,光线调节部411的侧面和衬底10之间的夹角为β2,其中,55°≤β2≤125°。在光线调节部411的剖面形状包括弧形的情况下,光线调节部411的剖面形状中,弧形的弧边的切线和衬底10之间的夹角为β3,β3≤90°。
示例性的,在β2>90°的情况下,光线调节部411的剖面形状为倒梯形。倒梯形即梯形上底的长度,大于梯形下底的长度。
通过将上述β1、β2、β3设置在以上角度范围内,既可以有效调节发光层发出的光线的传播方向,使得调节后的光线能够垂直或接近于垂直出射,又可以避免影响封装效果,避免影响发光器件30的发光寿命。
在一些实施例中,第一无机层40的折射率为n1,有机层50的折射率为n2,n1>n2。在1°≤α1≤70°且α2≤70°的情况下,n1sin(B-A)=n2sinB。其中,A为α1和α2中的一者,B为β1、β2和β3中的一者。
通过设置n1、n2、A和B之间的关系,可以使得第一发光器件31发出的光线能够沿垂直于衬底10的方向出射,提高显示基板100的显示效果。
下面结合图14,以A为α1且B为β1为例进行说明。
如图14所示,从第一发光器件31发出的光线,经过折射率为n1的第一无机层41和折射率为n2的有机层42的界面时,发生折射。此时,入射角为θ1,出射的折射角为θ2,符合折射定律n1sinθ1=n2sinθ2。当θ1=β1-α1,θ2=β1,即满足n1sin(β1-α1)=n2sinβ1的关系的情况下,光线则沿垂直于衬底10所在平面的方向出射。这样一来,第一发光器件31从副显示区E2出射的光线便能够沿垂直于衬底10所在平面的方向出射,有利于提高显示基板100位于副显示区E2的部分的显示质量,进而有利于实现主显示区E1和副显示区E2的显示画面的无区别显示,确保整个显示区E的显示效果。
示例性的,图16-17示出了当B为β2或β3的情形下,光线的传播情况。
示例性的,第一无机层41的折射率n1=1.91,有机层42的折射率n2=1.55。基于此,α1或α2为15.5°,β1、β2或β3为60°。
例如,第一无机层41可以采用氮化硅(SiNx)材料制作,有机层42可以采用聚酰亚胺材料。
在一些实施例中,如图18所示,显示基板100还具有位于显示区E0至少一侧的边框区F。
上述“至少一侧”例如可以是,显示区E的一侧、两侧或多侧等。基于此,边框区F例如可以位于显示区E的一侧;或者,边框区F例如可以位于显示区E多侧。
在一些示例中,如图18所示,显示基板还包括:位于衬底10和绝缘层20之间的多个像素驱动电路70。
上述像素驱动电路70的结构包括多种,可以根据实际需要选择设置。例如,像素驱动电路70的结构可以包括“2T1C”、“6T1C”、“7T1C”、“6T2C”或“7T2C”等结构。此处,“T”表示为薄膜晶体管,位于“T”前面的数字表示为薄膜晶体管的数量,“C”表示为存储电容器,位于“C”前面的数字表示为存储电容器的数量。其中,像素驱动电路70所包括的多个薄膜晶体管中,包括一个驱动晶体管和一个开关晶体管。
在一些示例中,上述多个像素驱动电路80包括位于主显示区的多个第二像素驱动电路72,第二发光器件32穿过绝缘层20与一个第二像素驱动电路71电连接。
上述多个像素驱动电路70还包括多个第一像素驱动电路71,第一发光器件31穿过绝缘层20与一个第一像素驱动电路71电连接;其中,第一像素驱动电路71位于主显示区E1或边框区F。
即多个第一像素驱动电路71全部位于主显示区E1。或者,多个第一像素驱动电路71全部位于边框区F。或者,所有第一像素驱动电路81中,有一定数量的第一像素驱动电路71位于主显示区E1,其余数量的第一像素驱动电路71位于边框区F。
这样一来,在显示基板100应用于显示装置1000的情况下,在光线穿过显示基板100位于副显示区E2的部分,进入位于显示基板100的非出光侧的光学器件200的过程中,避免了第一像素驱动电路35的存在,对光线形成的阻挡,减弱甚至避免该光线在穿过显示基板100的过程中发生衍射的现象,同时增加了光线的进入量。
本发明的一些实施例提供了一种显示基板的制备方法,显示基板100具有显示区E,显示区E包括主显示区E1和位于主显示区E1的至少一侧的副显示区E2。如图19所示,该制备方法包括S100~S400。
S100,提供衬底10。
示例性的,衬底10的结构可以参照上述一些示例中的示意性说明,此处不再赘述。
S200,在衬底10的一侧形成绝缘薄膜。
示例性的,上述绝缘薄膜的材料为有机树脂材料,该有机树脂材料例如为亚克力材料。本发明例如可以采用涂覆工艺形成绝缘薄膜。
S300,采用相移掩膜工艺,对上述绝缘薄膜进行图案化处理,得到绝缘层20。绝缘层20包括位于副显示区E2的至少一个面积增大部21。
示例性的,面积增大部21的结构可以参照上述一些示例中的示意性说明,此处不再赘述。
示例性的,在上述S300中,采用相移掩膜工艺,对上述绝缘薄膜进行图案化处理,得到绝缘层20的步骤,包括:S310~S340。
S310,在绝缘薄膜上涂覆光刻胶,形成第一光刻胶层。
S320,在第一光刻胶层远离衬底10的一侧设置相移掩膜板,通过该相移掩膜板对第一光刻胶层进行曝光。该相移掩膜板具有透光区和非透光区。相移掩膜板的非透光区和待形成的面积增大部21相对应。
S330,对经曝光的第一光刻胶层进行显影。
S340,以显影后的第一光刻胶层为掩膜,对绝缘薄膜进行图案化(例如为刻蚀),形成绝缘层20。该绝缘层20包括位于副显示区E2的至少一个面积增大部21。
S400,在绝缘层20远离衬底10的一侧形成多个发光器件30。多个发光器件30包括位于副显示区E2的多个第一发光器件31和位于主显示区E1的多个第二发光器件32。至少一个第一发光器件31位于面积增大部21远离衬底10的一侧表面。其中,第一发光器件31在衬底10上的正投影面积,小于第二发光器件32在衬底10上的正投影面积;第一发光器件31的有效发光面积,大于第一发光器件31在衬底10上的正投影面积。
示例性的,形成第一发光器件31的步骤可以包括:在面积增大部21远离衬底10的一侧表面依次形成第一发光器件31的阳极、发光层和阴极。
例如,可以采用沉积工艺形成第一发光器件31的阳极。该阳极的形状和面积增大部21远离衬底10的一侧表面的形状基本相同。
例如,可以采用蒸镀工艺形成第一发光器件31的发光层。该发光层的形状和面积增大部21远离衬底10的一侧表面的形状基本相同。该发光层的有效发光面积大于其在衬底10上的正投影面积。
本发明的一些实施例所提供的显示基板的制备方法所能实现的有益效果,与上述一些实施例中所提供的显示基板100所能实现的有益效果相同,此处不再赘述。
在一些实施例中,如图20所示,显示基板的制备方法还包括S500~S700。
S500,在多个发光器件30远离衬底10的一侧形成第一无机薄膜。
示例性的,上述第一无机薄膜的材料为无机材料,例如氮化硅(SiNx)等。本发明例如可以采用气相沉积工艺形成第一无机薄膜。
S600,采用相移掩膜工艺,对第一无机薄膜进行图案化处理,得到第一无机层41。第一无机层41包括位于副显示区E2的至少一个光线调节部411;其中,第一发光器件31在衬底10上的正投影,位于光线调节部411在衬底10上的投影范围内。其中,光线调节部411被配置为,调节发光器件30发出的光线的传播方向,使得调节后的光线的传播方向与衬底10之间的夹角大于调节前的光线的传播方向与衬底10之间的夹角。
示例性的,光线调节部411的结构可以参照上述一些示例中的示意性说明,此处不再赘述。
示例性的,在上述S600中,采用相移掩膜工艺,对上述第一无机薄膜进行图案化处理,得到第一无机层41的步骤,包括:S610~S650。
S610,在绝缘薄膜上涂覆光刻胶,形成第二光刻胶。
S620,在第二光刻胶层远离衬底10的一侧设置相移掩膜板,通过该相移掩膜板对第二光刻胶层进行曝光。该相移掩膜板具有透光区和非透光区。相移掩膜板的非透光区和待形成的光线调节部411相对应。
S630,对经曝光的第二光刻胶层进行显影。
S640,以显影后的第二光刻胶层为掩膜,对第一无机薄膜进行图案化(例如为刻蚀),形成第一无机层41。该第一无机层41包括位于副显示区E2的至少一个光线调节部411。
S700,在第一无机层41远离衬底10的一侧依次形成有机层42和第二无机层43,得到封装层。
示例性的,上述有机层42的材料为有机树脂材料,例如聚酰亚胺等。本发明例如可以采用喷墨打印工艺形成有机层42。
示例性的,上述第二无机层43的材料为无机材料,例如SiNx等。本发明例如可以采用气相沉积工艺形成第二无机层43。
以上,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (13)
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板具有显示区,所述显示区包括主显示区和位于所述主显示区的至少一侧的副显示区;
所述显示基板包括:
衬底;
设置在所述衬底一侧的绝缘层;所述绝缘层包括位于所述副显示区的至少一个面积增大部;以及,
设置在所述绝缘层远离所述衬底一侧的多个发光器件;所述多个发光器件包括位于所述副显示区的多个第一发光器件和位于所述主显示区的多个第二发光器件;至少一个第一发光器件位于所述面积增大部远离所述衬底的一侧表面;
其中,任意相邻的两个第一发光器件之间的间距大于任意相邻的两个第二发光器件之间的间距;
所述第一发光器件在所述衬底上的正投影面积,小于第二发光器件在所述衬底上的正投影面积;所述第一发光器件的有效发光面积,大于所述第一发光器件在所述衬底上的正投影面积。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述面积增大部朝向所述衬底呈凹陷状,或者,所述面积增大部远离所述衬底呈凸起状;
和/或;
所述面积增大部的剖面形状包括:三角形、梯形或弧形。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述第一发光器件在所述衬底上的正投影的至少一部分,位于所述面积增大部在所述衬底上的正投影范围内。
4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,在所述面积增大部的剖面形状包括三角形或梯形的情况下,所述面积增大部的侧面和所述衬底之间的夹角为α1,其中,1°≤α1≤70°;
在所述面积增大部的剖面形状包括弧形的情况下,所述面积增大部的剖面形状中,弧形的弧边的切线和所述衬底之间的夹角为α2,其中,α2≤70°。
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述面积增大部在所述衬底上的正投影呈条状,所述面积增大部远离所述衬底的一侧表面上设置有至少一个所述发光器件;
或者,所述面积增大部在所述衬底上的正投影呈块状,所述面积增大部远离所述衬底的一侧表面上设置有一个所述发光器件。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:设置在所述多个发光器件远离所述衬底一侧的封装层;所述封装层包括依次层叠的第一无机层、有机层和第二无机层;
所述第一无机层包括位于所述副显示区的至少一个光线调节部;
其中,所述第一发光器件在所述衬底上的正投影,位于所述光线调节部在所述衬底上的投影范围内;
所述光线调节部被配置为,调节所述发光器件发出的光线的传播方向,使得调节后的光线的传播方向与所述衬底之间的夹角大于调节前的光线的传播方向与所述衬底之间的夹角。
7.根据权利要求6所述的显示基板,其特征在于,所述光线调节部远离所述衬底呈凸起状;
所述光线调节部的剖面形状包括:三角形、梯形或弧形。
8.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,在所述光线调节部的剖面形状包括三角形的情况下,所述光线调节部的侧面和所述衬底之间的夹角为β1,其中,55°≤β1<90°;
在所述光线调节部的剖面形状包括梯形的情况下,所述光线调节部的侧面和所述衬底之间的夹角为β2,其中,55°≤β2≤125°;
在所述光线调节部的剖面形状包括弧形的情况下,所述光线调节部的剖面形状中,弧形的弧边的切线和所述衬底之间的夹角为β3,其中,β3≤90°。
9.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述第一无机层的折射率为n1,所述有机层的折射率为n2,n1>n2;
在1°≤α1≤70°且α2≤70°的情况下,n1sin(B-A)=n2sinB;其中,A为α1和α2中的一者,B为β1、β2和β3中的一者。
10.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还具有位于所述显示区至少一侧的边框区;
所述显示基板还包括:位于所述衬底和所述绝缘层之间的多个像素驱动电路;所述多个像素驱动电路包括多个第一像素驱动电路和多个第二像素驱动电路;
所述第一发光器件穿过所述绝缘层与一个第一像素驱动电路电连接;所述第一像素驱动电路位于所述边框区或所述主显示区;
所述第二发光器件穿过所述绝缘层与一个第二像素驱动电路电连接;所述第二像素驱动电路位于所述主显示区。
11.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述显示基板具有显示区,所述显示区包括主显示区和位于所述主显示区的至少一侧的副显示区;
所述显示基板的制备方法包括:
提供衬底;
在所述衬底的一侧形成绝缘薄膜;
采用相移掩膜工艺,对所述绝缘薄膜进行图案化处理,得到绝缘层;所述绝缘层包括位于所述副显示区的至少一个面积增大部;
在所述绝缘层远离所述衬底的一侧形成多个发光器件;所述多个发光器件包括位于所述副显示区的多个第一发光器件和位于所述主显示区的多个第二发光器件;至少一个第一发光器件位于所述面积增大部远离所述衬底的一侧表面;
其中,所述第一发光器件在所述衬底上的正投影面积,小于第二发光器件在所述衬底上的正投影面积;所述第一发光器件的有效发光面积,大于所述第一发光器件在所述衬底上的正投影面积。
12.根据权利要求11所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述显示基板的制备方法还包括:
在所述多个发光器件远离所述衬底的一侧形成第一无机薄膜;
采用相移掩膜工艺,对所述第一无机薄膜进行图案化处理,得到第一无机层;所述第一无机层包括位于所述副显示区的至少一个光线调节部;其中,所述第一发光器件在所述衬底上的正投影,位于所述光线调节部在所述衬底上的投影范围内;所述光线调节部被配置为,调节所述发光器件发出的光线的传播方向,使得调节后的光线的传播方向与所述衬底之间的夹角大于调节前的光线的传播方向与所述衬底之间的夹角;
在所述第一无机层远离所述衬底的一侧依次形成有机层和第二无机层,得到封装层。
13.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括:如权利要求1~10中任一项所述的显示基板;以及,
设置在所述显示基板的非出光侧的光学器件;所述光学器件位于所述显示基板的副显示区。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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