CN113313785A

CN113313785A - 一种边框生成方法、装置、设备及存储介质

Info

Publication number: CN113313785A
Application number: CN202110878156.XA
Authority: CN
Inventors: 胡施宇; 范渊; 黄进
Original assignee: Hangzhou Dbappsecurity Technology Co Ltd
Current assignee: DBAPPSecurity Co Ltd; Hangzhou Dbappsecurity Technology Co Ltd
Priority date: 2021-08-02
Filing date: 2021-08-02
Publication date: 2021-08-27
Anticipated expiration: 2041-08-02
Also published as: CN113313785B

Abstract

本申请公开了一种边框生成方法、装置、设备及存储介质，包括：根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，并将二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与二维路径对应的一维路径；二维路径表征目标边框的形状轮廓；基于设计需求利用原子素材构建目标笔刷；原子素材为预先构建的细粒度色块，细粒度色块表征对目标边框进行填充的最小单元；按照预设规则通过纹理映射的方式将目标笔刷映射至与二维路径对应的一维路径中，并根据映射后的一维路径生成目标边框。本申请根据设计需求分别构建可拉伸二维路径和目标笔刷，通过纹理映射的方式生成目标边框，提高边框生成复用率及效率。

Description

一种边框生成方法、装置、设备及存储介质

技术领域

本发明涉及计算机技术领域，特别涉及一种边框生成方法、装置、设备及存储介质。

背景技术

当前，数字资产变得越来越重要，可视化产品作为直观理解数据的一个重要工具，变得与生产生活息息相关。其中，设计师在设计可视化产品时，往往会遇到边框设计的问题，一方面，可视化开发中边框在统一风格、区域界定和装饰方面起到了重要作用，另一方面，边框设计工作重复且低效。主要原因在于，一份设计好的边框图在实际使用中，往往会遇到容器尺寸要求和边框初始设计尺寸差别较大的情况。在这种情况下，设计资源拉伸会带来严重的走样问题，导致一次设计不具有普适性，无法多次使用。

现有技术中的一些方案解决了拉伸的问题，例如，分段拉伸图片或者以动态方式生成边框，但其效果均不理想。例如，动态伸缩方案具有一定的局限性，只有一些明显出现了部分方向上可伸缩特征的边框可以使用此方案。另外，它只是粗略解决了尺寸适配的问题，却无法解决复用问题，无法明显提高设计师的产出效率。2D画布类API的动态实现在某种程度上可以完美解决尺寸适配的问题，但是依旧无法提升开发效率。

因此，如何提供一种可复用且高效率的边框生成方法是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种边框生成方法、装置、设备及存储介质，能够提高边框生成复用率及效率。其具体方案如下：

本申请的第一方面提供了一种边框生成方法，包括：

根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，并将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径；其中，所述二维路径表征所述目标边框的形状轮廓；

基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷；其中，所述原子素材为预先构建的细粒度色块，所述细粒度色块表征对所述目标边框进行填充的最小单元；

按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，并根据映射后的所述一维路径生成所述目标边框。

可选的，所述将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径，包括：

从所述二维路径中确定出预设数量的关键二维坐标点，并将所述关键二维坐标点转换为相应的一维坐标点；

根据与所述关键二维坐标点对应的所述一维坐标点通过线性内插法确定所述二维路径中的与其他二维坐标点对应的所述一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径。

可选的，所述基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷，包括：

根据所述设计需求确定目标原子素材，并将所述目标原子素材进行组合，以得到相应的目标笔刷。

可选的，所述根据所述设计需求确定目标原子素材，并将所述目标原子素材进行组合，以得到相应的目标笔刷，包括：

根据所述设计需求确定目标原子素材，并对所述目标原子元素的属性值进行配置，以得到与所述设计需求对应的配置后的所述目标原子素材；

将配置后的所述目标原子素材进行组合，以得到相应的目标笔刷。

可选的，所述按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，包括：

按照笔刷重复规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含多个相同的所述目标笔刷的所述一维路径；

按照笔刷整体拉伸规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含一个将所述目标笔刷进行整体拉伸后得到的笔刷的所述一维路径；

按照笔刷边缘拉伸规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含一个将所述目标笔刷进行边缘拉伸后得到的笔刷的所述一维路径。

可选的，所述根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，包括：

如果目标边框的形状轮廓为矩形，则根据设计需求构建形状轮廓为矩形的二维路径；其中，形状轮廓为矩形的二维路径由可拉伸区域和不可拉伸区域组成，所述可拉伸区域在竖直方向或水平方向可进行拉伸操作；

如果目标边框的形状轮廓为正方形或圆形，则根据设计需求构建形状轮廓为正方形或圆形的二维路径；其中，形状轮廓为正方形或圆形的二维路径可进行等比例缩放。

可选的，所述原子素材为具有不同灰度值的灰度图像；

相应的，所述根据映射后的所述一维路径生成所述目标边框之后，还包括：在所述目标边框上叠加颜色层，以得到具有相应颜色的所述目标边框。

本申请的第二方面提供了一种边框生成装置，包括：

路径构建模块，用于根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，并将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径；其中，所述二维路径表征所述目标边框的形状轮廓；

笔刷构建模块，用于基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷；其中，所述原子素材为预先构建的细粒度色块，所述细粒度色块表征对所述目标边框进行填充的最小单元；

纹理映射模块，用于按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，并根据映射后的所述一维路径生成所述目标边框。

本申请的第三方面提供了一种电子设备，所述电子设备包括处理器和存储器；其中所述存储器用于存储计算机程序，所述计算机程序由所述处理器加载并执行以实现前述边框生成方法。

本申请的第四方面提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有计算机可执行指令，所述计算机可执行指令被处理器加载并执行时，实现前述边框生成方法。

本申请中，先根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，并将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径；其中，所述二维路径表征所述目标边框的形状轮廓。然后基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷；其中，所述原子素材为预先构建的细粒度色块，所述细粒度色块表征对所述目标边框进行填充的最小单元。最后按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，并根据映射后的所述一维路径生成所述目标边框。本申请根据设计需求分别构建可拉伸二维路径和目标笔刷，并将二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，得到对应的一维路径，然后通过纹理映射的方式将目标笔刷映射至与一维路径中，生成目标边框，提高边框生成复用率及效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请提供的一种边框生成方法流程图；

图2为本申请提供的一种现有的边框构建逻辑示意图；

图3为本申请提供的一种原子化边框构建逻辑示意图；

图4为本申请提供的一种矩形边框的拉伸区域示意图；

图5为本申请提供的一种路径的坐标点转换示意图；

图6为本申请提供的一种目标笔刷示意图；

图7为本申请提供的一种按照笔刷重复规则的映射示意图；

图8为本申请提供的一种按照笔刷整体拉伸规则的映射示意图；

图9为本申请提供的一种按照笔刷边缘拉伸规则的映射示意图；

图10为本申请提供的一种边框生成装置结构示意图；

图11为本申请提供的一种边框生成电子设备结构图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

现有技术中针对设计资源拉伸会带来严重的走样，导致一次设计不具有普适性，无法多次使用的问题，大多通过分段拉伸图片或者以动态方式生成边框，虽然在一定程度上解决了拉伸的问题，但其效果均不理想。针对上述技术缺陷，本申请提供一种边框生成方案，根据设计需求分别构建可拉伸二维路径和目标笔刷，并将二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，得到对应的一维路径，然后通过纹理映射的方式将目标笔刷映射至与一维路径中，生成目标边框，提高边框生成复用率及效率。

图1为本申请实施例提供的一种边框生成方法流程图。参见图1所示，该边框生成方法包括：

S11：根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，并将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径；其中，所述二维路径表征所述目标边框的形状轮廓。

本实施例中，首先根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径。其中，所述二维路径表征所述目标边框的形状轮廓。在构建风格化边框时，一般按照图2所示的逻辑构建，将绘制内容拆分成多个不同的部分单独绘制。图3为本申请实施例中将路径和笔刷进行组合的构建逻辑，二维路径分别为正六边形和圆形。

不难理解，如果路径本身是定高定宽的，结果必然是无法伸缩的，因此需要构建可拉伸的路径。本实施例通过动态伸缩方法实现，动态拉伸的原理为边框中的某些部分在某些方向上拉伸不会变形，对这些情况下的边框进行切分得到不可拉伸和可拉伸部分，在使用时将可拉伸部分设置成自适应，便可以某种程度上扩展边框设计图的使用范围。可以发现，当边框将绘制内容剥离掉，只剩下路径时，其可拉伸性几乎是无限的，此处仅针对常见的矩形边框和正多边形边框（包括圆形边框）对可拉伸路径的构建方法进行说明。一种情况下，如果目标边框的形状轮廓为矩形，则根据设计需求构建形状轮廓为矩形的二维路径，其中，形状轮廓为矩形的二维路径由可拉伸区域和不可拉伸区域组成，所述可拉伸区域在竖直方向或水平方向可进行拉伸操作。的矩形边框，对于矩形边框，其拉伸可以被认为是在水平和竖直两个方向上发生的，因此可以将矩形框分割成如图4所示的9个部分：四个角不随着拉伸变化，左右两侧跟随竖直方向拉伸，上下两侧跟随水平方向拉伸，中间没有内容。另一种情况下，如果目标边框的形状轮廓为正方形或圆形，则根据设计需求构建形状轮廓为正方形或圆形的二维路径，其中，形状轮廓为正方形或圆形的二维路径可进行等比例缩放。针对正多边形边框，如圆形，只能在x轴、y轴方向上执行等比例的缩放，相对来说，只要分辨率支持，不会出现太大偏差。

在此基础上，将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径。该过程也即对所述二维路径的一维展开。进一步的，先从所述二维路径中确定出预设数量的关键二维坐标点，并将所述关键二维坐标点转换为相应的一维坐标点，然后根据与所述关键二维坐标点对应的所述一维坐标点通过线性内插法确定所述二维路径中的与其他二维坐标点对应的所述一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径。具体来说，路径本身是二维的，对于二维的几何图形，可以通过设置一个起始点，之后根据某个二维点沿着路径到起始点的距离，将几个关键节点展开成一维。由节点相连的连线上的点，可以由这些关键点线性插值得到。如图5所示，对于一个正方形，它由点A（0，0）、B（1，0）、C（1，1）、D（0，1）组成，我们假定点A为起始点，那么点A沿着路径的距离为0，点B沿着路径的距离为1、C为2、D为3。假设现在点A和点B的中点为点E，那么可以由点A和点B的一维映射结果线性插值，得到点E为0.5。可以发现，展开前后的点在二维空间和一维轴上是一一对应的，一个二维中的点在一维上对应的坐标值是唯一的，反之亦如此，也即展开的过程是可逆的。

S12：基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷；其中，所述原子素材为预先构建的细粒度色块，所述细粒度色块表征对所述目标边框进行填充的最小单元。

本实施例中，路径构建后，基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷。在此之前需要将边框元素原子化，然后通过组合原子元素的方式，可复用地生成边框，从而提升生产效率。所述原子化的过程也即将边框元素拆分成一些可以组合的最基本元素的过程。本实施例将边框的设计开发工作的粒度更加细化，将其拆分成更加基础的组成部分，也即根据所述设计需求确定目标原子素材，并将所述目标原子素材进行组合，以得到相应的目标笔刷。开发者首先得到的是基本的原子元素，所述原子素材为预先构建的具有一定特征的细粒度色块，包括实色色块、渐变色块和图案色块，如图6左侧所示。一定意义上，所述细粒度色块表征对所述目标边框进行填充的最小单元。所述目标笔刷可以沿着绘制方向不断延伸。

为了得到不同类型的笔刷，本实施例首先可以根据所述设计需求确定目标原子素材，并对所述目标原子元素的属性值进行配置，以得到与所述设计需求对应的配置后的所述目标原子素材。然后将配置后的所述目标原子素材进行组合，以得到相应的目标笔刷。图6右侧所示即为利用实心色块的原子元素，通过修改色值和尺寸在指定宽高范围内描述的一个目标笔刷。对于一个笔刷而言，它具有宽和高，高度表示了这个笔刷的粗细，而宽度表示了这个笔刷作为一个单位重复时的单位长度。

为了构建更加多样化的边框，一般不会将笔刷作为颜色使用，而只会使用其灰度作为透明度使用。因此，本实施例中的所述原子素材为具有不同灰度值的灰度图像。在映射生成边框之后，在所述目标边框上叠加颜色层，以得到具有相应颜色的所述目标边框。也即，另外还会有一个专门的颜色层与透明度层叠加，这种方式将颜色层与边框分离，简化了边框后期修改颜色的工作，提高了边框的复用程度。假设笔刷绘制出的灰度值为gray（范围为0-1），颜色层的颜色为rgba（r，g，b，a），最终颜色应为rgba（r，g，b，a * gray）。

本实施例中的原子化素材组合笔刷以及颜色层分离的思路，使得边框设计工作变得可积累和易修改，无论是可伸缩边框的素材、笔刷还是颜色层都可以积累起来供下次使用。并且由于可分离性，修改颜色、笔刷等都会变得更加简单。从可积累和易修改的角度，提升了设计师的工作效率，同时也没有给开发侧增加重复性的额外工作。

S13：按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，并根据映射后的所述一维路径生成所述目标边框。

本实施例中，分别构建好路径和笔刷后，按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，并根据映射后的所述一维路径生成所述目标边框。上述过程从根本上提升整个工作流程的效率，开发端更容易接入，设计端设计效率更高。并且产出物是可修改的，可以适配更广的尺寸范围。其中，所述纹理映射（Texture Mapping）是将纹理空间中的纹理像素映射到屏幕空间中的像素的过程，本实施例对此不进行赘述。

一般情况下，笔刷的宽度会远小于路径的长度，势必会伸展或者重复笔刷以填满整个路径。另外，笔刷具有宽度，所以当路径长于笔刷宽度时，会存在填充模式的问题。本实施中重点描述三种模式，也即三种所述预设规则，分别为：图7所示的重复模式（repeat，不断重复笔刷来填充），按照笔刷重复规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含多个相同的所述目标笔刷的所述一维路径；图8所示的拉伸模式（stretch，将笔刷拉伸至路径长度），按照笔刷整体拉伸规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含一个将所述目标笔刷进行整体拉伸后得到的笔刷的所述一维路径；图9所示的边缘拉伸模式（edge，在两侧拉伸笔刷边缘而不会拉伸笔刷本体），按照笔刷边缘拉伸规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含一个将所述目标笔刷进行边缘拉伸后得到的笔刷的所述一维路径。

可见，本申请实施例先根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，并将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径；其中，所述二维路径表征所述目标边框的形状轮廓。然后基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷；其中，所述原子素材为预先构建的细粒度色块，所述细粒度色块表征对所述目标边框进行填充的最小单元。最后按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，并根据映射后的所述一维路径生成所述目标边框。本申请实施例根据设计需求分别构建可拉伸二维路径和目标笔刷，并将二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，得到对应的一维路径，然后通过纹理映射的方式将目标笔刷映射至与一维路径中，生成目标边框，提高边框生成复用率及效率。

参见图10所示，本申请实施例还相应公开了一种边框生成装置，包括：

路径构建模块11，用于根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，并将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径；其中，所述二维路径表征所述目标边框的形状轮廓；

笔刷构建模块12，用于基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷；其中，所述原子素材为预先构建的细粒度色块，所述细粒度色块表征对所述目标边框进行填充的最小单元；

纹理映射模块13，用于按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，并根据映射后的所述一维路径生成所述目标边框。

在一些具体实施例中，所述路径构建模块11，具体包括：

第一构建单元，用于如果目标边框的形状轮廓为矩形，则根据设计需求构建形状轮廓为矩形的二维路径；其中，形状轮廓为矩形的二维路径由可拉伸区域和不可拉伸区域组成，所述可拉伸区域在竖直方向或水平方向可进行拉伸操作；

第二构建单元，用于如果目标边框的形状轮廓为正方形或圆形，则根据设计需求构建形状轮廓为正方形或圆形的二维路径；其中，形状轮廓为正方形或圆形的二维路径可进行等比例缩放；

第一确定单元，用于从所述二维路径中确定出预设数量的关键二维坐标点，并将所述关键二维坐标点转换为相应的一维坐标点；

第二确定单元，用于根据与所述关键二维坐标点对应的所述一维坐标点通过线性内插法确定所述二维路径中的与其他二维坐标点对应的所述一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径。

在一些具体实施例中，所述笔刷构建模块12，具体包括：

素材确定单元，用于根据所述设计需求确定目标原子素材，并对所述目标原子元素的属性值进行配置，以得到与所述设计需求对应的配置后的所述目标原子素材；

素材组合单元，用于将配置后的所述目标原子素材进行组合，以得到相应的目标笔刷。

在一些具体实施例中，所述纹理映射模块13，具体包括：

第一映射单元，用于按照笔刷重复规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含多个相同的所述目标笔刷的所述一维路径；

第二映射单元，用于按照笔刷整体拉伸规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含一个将所述目标笔刷进行整体拉伸后得到的笔刷的所述一维路径；

第三映射单元，用于按照笔刷边缘拉伸规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，以得到包含一个将所述目标笔刷进行边缘拉伸后得到的笔刷的所述一维路径。

进一步的，本申请实施例还提供了一种电子设备。图11是根据一示例性实施例示出的电子设备20结构图，图中的内容不能认为是对本申请的使用范围的任何限制。

图11为本申请实施例提供的一种电子设备20的结构示意图。该电子设备20，具体可以包括：至少一个处理器21、至少一个存储器22、电源23、通信接口24、输入输出接口25和通信总线26。其中，所述存储器22用于存储计算机程序，所述计算机程序由所述处理器21加载并执行，以实现前述任一实施例公开的边框生成方法中的相关步骤。

本实施例中，电源23用于为电子设备20上的各硬件设备提供工作电压；通信接口24能够为电子设备20创建与外界设备之间的数据传输通道，其所遵循的通信协议是能够适用于本申请技术方案的任意通信协议，在此不对其进行具体限定；输入输出接口25，用于获取外界输入数据或向外界输出数据，其具体的接口类型可以根据具体应用需要进行选取，在此不进行具体限定。

另外，存储器22作为资源存储的载体，可以是只读存储器、随机存储器、磁盘或者光盘等，其上所存储的资源可以包括操作系统221、计算机程序222及数据223等，存储方式可以是短暂存储或者永久存储。

其中，操作系统221用于管理与控制电子设备20上的各硬件设备以及计算机程序222，以实现处理器21对存储器22中海量数据223的运算与处理，其可以是Windows Server、Netware、Unix、Linux等。计算机程序222除了包括能够用于完成前述任一实施例公开的由电子设备20执行的边框生成方法的计算机程序之外，还可以进一步包括能够用于完成其他特定工作的计算机程序。数据223可以包括电子设备20收集到的坐标点数据等。

进一步的，本申请实施例还公开了一种存储介质，所述存储介质中存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器加载并执行时，实现前述任一实施例公开的边框生成方法步骤。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个…”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上对本发明所提供的边框生成方法、装置、设备及存储介质进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims

1.一种边框生成方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的边框生成方法，其特征在于，所述将所述二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点，以得到与所述二维路径对应的一维路径，包括：

3.根据权利要求1所述的边框生成方法，其特征在于，所述基于所述设计需求利用原子素材构建目标笔刷，包括：

4.根据权利要求3所述的边框生成方法，其特征在于，所述根据所述设计需求确定目标原子素材，并将所述目标原子素材进行组合，以得到相应的目标笔刷，包括：

5.根据权利要求1所述的边框生成方法，其特征在于，所述按照预设规则通过纹理映射的方式将所述目标笔刷映射至与所述二维路径对应的所述一维路径中，包括：

6.根据权利要求1至5任一项所述的边框生成方法，其特征在于，所述根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径，包括：

7.根据权利要求1至5任一项所述的边框生成方法，其特征在于，所述原子素材为具有不同灰度值的灰度图像；

8.一种边框生成装置，其特征在于，包括：

9.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括处理器和存储器；其中所述存储器用于存储计算机程序，所述计算机程序由所述处理器加载并执行以实现如权利要求1至7任一项所述的边框生成方法。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，用于存储计算机可执行指令，所述计算机可执行指令被处理器加载并执行时，实现如权利要求1至7任一项所述的边框生成方法。