CN113296175A - 一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法 - Google Patents

一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113296175A
CN113296175A CN202110582346.7A CN202110582346A CN113296175A CN 113296175 A CN113296175 A CN 113296175A CN 202110582346 A CN202110582346 A CN 202110582346A CN 113296175 A CN113296175 A CN 113296175A
Authority
CN
China
Prior art keywords
bessel
processing
micro
sample
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202110582346.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113296175B (zh
Inventor
姜澜
刘洋
李晓炜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Institute of Technology BIT
Original Assignee
Beijing Institute of Technology BIT
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Institute of Technology BIT filed Critical Beijing Institute of Technology BIT
Priority to CN202110582346.7A priority Critical patent/CN113296175B/zh
Publication of CN113296175A publication Critical patent/CN113296175A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113296175B publication Critical patent/CN113296175B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0012Arrays characterised by the manufacturing method
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0012Optical design, e.g. procedures, algorithms, optimisation routines
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0012Arrays characterised by the manufacturing method
    • G02B3/0031Replication or moulding, e.g. hot embossing, UV-casting, injection moulding

Abstract

本发明涉及一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法,属于激光应用技术领域。本发明的目的是为了解决传统平面微透镜阵列只具备单一NA值,且加工方法效率低下、加工难度大的问题;该方法通过对高斯型飞秒激光空间整形得到多个贝塞尔光束,以此对玻璃样品进行改性,利用贝塞尔相位中不同锥底角产生的贝塞尔区域长度不同这一规律,在同一个样品上单次曝光即可实现不同的改性深度,之后利用氢氟酸对改性后的样品进行刻蚀,得到具有多个NA值、高表面质量的微透镜阵列。该方法兼顾高加工质量、高加工效率、高形貌可控性、加工后微透镜NA值调节范围大,满足微透镜阵列应用中对NA值的不同需求。

Description

一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法
技术领域
本发明涉及一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法,属于激光应用技术领域。
背景技术
微透镜阵列作为一种重要的微型化光学元件,由于其强大的成像和光场调节能力,在三维成像、蛋白质检测、光场均匀化、波前传感和微加工等方面得到了广泛的应用。然而传统的平面微透镜阵列中的微透镜只具备单一数值孔径(NA),NA值的大小与成像景深往往成反比关系,因此在加工微透镜阵列时的NA值选择对成像而言至关重要。低NA值微透镜具有较大的成像景深,因此可在多个深度都能获得较清晰的图像,但与此同时可能会影响对深度估计的准确性;高NA值微透镜具有较高的空间分辨率,但其成像景深小,无法在多个深度获得较清晰的图像。具有多个NA值的微透镜阵列通过将不同的NA值微透镜结合在一起,有效解决了空间分辨率和大成像景深无法兼容的问题。
微透镜阵列的传统加工方法有机械磨削加工、热回流、喷墨打印、模型复刻、飞秒激光法等。机械磨削每个加工周期只能加工单个微透镜,对于加工微透镜阵列而言加工效率极低;热回流只能加工具有单一NA值的微透镜阵列,无法一次性满足多个NA值的需求;喷墨打印和模型复刻一般只针对聚合物微透镜进行加工,而聚合物在苛刻的条件(如高温、高压)下容易变形,极大地限制了实际应用。目前利用飞秒激光加工微透镜阵列的方法主要有两种,一种是采用飞秒激光直写加工出微透镜的轮廓,该方法能够加工任意形状、尺寸的微透镜阵列,但该方法的加工效率低,并不适用于阵列加工,且该方法加工的微透镜表面精度较低,严重限制了在实际中的应用;另一种是采用传统的飞秒激光辐照硬脆材料改性后湿法刻蚀形成微透镜,该方法的加工效率相比于第一种方法有了极大的提高,然而该方法无法一次性在同一个微透镜阵列中加工出多个NA值的微透镜。因此迫切需要一种加工效率高、加工表面质量好且具有多个NA值的微透镜阵列加工方法。
发明内容
本发明的目的是为了解决传统平面微透镜阵列只具备单一NA值,且加工方法效率低下、加工难度大的问题,提供一种空间整形飞秒激光辅助湿法刻蚀加工具有多个NA值的微透镜阵列的方法;该方法通过对高斯型飞秒激光空间整形得到多个贝塞尔光束,以此对玻璃样品进行改性,利用贝塞尔相位中不同锥底角产生的贝塞尔区域长度不同这一规律,在同一个样品上单次曝光即可实现不同的改性深度,之后利用氢氟酸对改性后的样品进行刻蚀,得到具有多个NA值、高表面质量的微透镜阵列。该方法兼顾高加工质量、高加工效率、高形貌可控性、加工后微透镜NA值调节范围大,满足微透镜阵列应用中对NA值的不同需求。
本发明的目的是通过下述技术方案实现的:
一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法,具体步骤如下:
步骤一:以石英玻璃作为基底材料,根据不同贝塞尔光束之间的贝塞尔区域长度差,设计贝塞尔相位图,计算公式如下:
β=arcsin(nsinα)-α (1)
Figure BDA0003083579860000021
其中β为出射角,α为相位图中的锥底角,n为相位图中锥透镜相位的折射率,这里取1.45进行计算,Zmax为进入缩束系统之前贝塞尔区域的长度,w0为入射高斯型激光的束腰半径。
步骤二:为了滤除0级光对加工光束的干扰,在贝塞尔光束相位图的基础上叠加棱镜相位,使从SLM出射的加工光束与干扰光分离;
步骤三:搭建由飞秒激光系统、衰减片、机械开关、空间光调制器(SLM)、缩束系统和六自由度平移台等组成的加工光路;
步骤四:将步骤二中得到的叠加后的相位图加载到SLM中,高斯型激光入射到SLM的液晶面板生成贝塞尔光束,并经过缩束系统生成微贝塞尔光束,其长度按照下式进行计算:
Figure BDA0003083579860000022
Figure BDA0003083579860000023
其中,Γ为缩束系统的缩放倍数,f1和f2分别为平凸透镜和聚焦物镜的焦距,Z'max为缩束后的微贝塞尔光束的长度;
步骤五:利用机械开关控制脉冲个数,利用衰减片调节入射激光能量,微调六自由度精密位移平台使样品的上表面与激光传播方向垂直,并使微贝塞尔光束末端接触样品的上表面对加工区域改性;
步骤六:将改性后的样品在室温条件下放入氢氟酸溶液中进行刻蚀,并加入超声振荡辅助使溶液与样品充分反应,通过控制刻蚀时间来控制微透镜的通光孔径大小;
一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的装置,包括飞秒激光系统、衰减片、机械开关、空间光调制器(SLM)、平凸透镜、分束镜、白光源、电荷耦合器件(CCD)、二向色镜、显微物镜、六自由度精密位移平台、计算机控制系统;
连接关系:飞秒激光系统、衰减片、机械开关、平凸透镜、分束镜、白光源、CCD、二向色镜、显微物镜同轴放置,SLM的液晶面板与光束成45°夹角,加工样品被放置在六自由度精密位移平台中心;
光路:飞秒激光系统产生高斯型飞秒激光后,经衰减片调整激光能量,利用计算机控制系统控制机械开关来调节辐照到样品表面的脉冲个数;调节后的激光光束经SLM调制生成贝塞尔光束,再通过缩束系统(平凸透镜+显微物镜)对光束缩束聚焦在位于六自由度精密位移平台中心的样品表面,其中二向色镜改变光束方向使其垂直入射到显微物镜中;在此过程中白光源产生的白光经过分束镜、二向色镜、显微物镜后照射在样品的加工区域,之后原路返回至分束镜,分束镜改变反射光传播方向入射到CCD中,以此实现对加工过程的实时监控。
有益效果
1.本发明通过对高斯型光束空间整形生成多个贝塞尔光束,其中调节贝塞尔相位中的锥底角可形成不同的贝塞尔区域长度,进而在样品上形成不同深度的改性区域,有效的控制刻蚀后微透镜形貌,得到具有多个NA值的微透镜阵列,加工方法灵活。
2.本发明采用空间整形的飞秒激光加工微透镜阵列的方法可以在石英玻璃、硼硅酸盐玻璃、微晶玻璃、康宁玻璃、K9玻璃等透明硬脆材料上制备,应用范围广。
3.本发明方法在贝塞尔光束加工过程中形成均匀的改性区,且在湿法刻蚀中辅助超声振荡,使得刻蚀后的微透镜表面粗糙度低,实现微透镜阵列的高质量加工。
4.本发明方法由于可一次性加工N*N个微透镜的阵列,因此平均单个微透镜加工时间相比现有方法缩短了N*N倍。
5.本发明方法加工的微透镜可以控制NA值可根据需要从0.26到0.58变化,满足对不同NA值微透镜的应用需求。
6.本发明可在一定范围内实现微透镜的通光孔径与NA值独立,使低NA值微透镜也能具有大的通光孔径,提升了成像质量。
附图说明
图1为本发明中贝塞尔相位图与棱镜相位图叠加示意简图,其中图1(a)为具有四个贝塞尔相位的相位图,图1(b)为水平方向偏转70°的棱镜相位图,图1(c)为图1(a)与图1(b)叠加后生成的四个贝塞尔相位图。
图2为本发明一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法的光路搭建示意简图。
图3为本发明在石英玻璃上改性后利用HF溶液刻蚀的示意简图。
图4(a)为样品改性后刻蚀前的扫描电子显微镜(SEM)表征结果;图4(b)为样品刻蚀后的激光共聚焦表征结果;图4(c)为微透镜阵列中每个微透镜的轮廓与相应的NA值。
图5(a)为石英玻璃刻蚀20小时后所得微透镜的通光孔径、高度与锥底角的关系;图5(b)为所得微透镜的焦距、NA值与锥底角的关系。
图6(a)为样品刻蚀后形成的相同通光孔径下具有多个NA值的微透镜阵列加工的激光共聚焦表征结果;图6(b)为微透镜阵列中每个微透镜的轮廓与相应的NA值。
其中,1-飞秒激光系统、2-衰减片、3-机械开关、4-SLM、5-平凸透镜、6-分束镜、7-白光源、8-CCD、9-二向色镜、10-显微物镜、11-样品、12-六自由度精密位移平台、13-计算机控制系统。
具体实施方式
下面结合附图与实例对本发明作进一步说明。
实施例1
实现一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法,包括如下步骤:
(1)如附图1所示,根据不同贝塞尔光束之间的贝塞尔区域长度差设计相位图,设计四个贝塞尔相位,如附图1(a)所示,锥底角分别定义αi=2.352°,αii=2.253°,αiii=2.176°,αiv=2.088°,每个贝塞尔相位的直径均为4.32mm。根据公式(1)和公式(2)计算得到每个贝塞尔区域的长度分别为116.80mm,121.94mm,126.27mm,131.60mm.为了滤除0级光和SLM 4液晶面板反射光对加工结果的影响,设计水平方向70°的棱镜相位,如附图1(b)所示,并将其与四个贝塞尔相位叠加,得到如附图1(c)所示的贝塞尔光束相位。
(2)搭建空间整形加工光路,如附图2所示,飞秒激光系统1产生波长为800nm,脉宽50fs,重频1kHz的高斯型激光,经过衰减片2调节激光入射到SLM 4液晶面板上的功率,通过计算机系统13控制机械开关3的通断。高斯型激光入射到SLM 4后得贝塞尔光束,贝塞尔光束垂直入射到由平凸透镜5(f1=150mm)和显微物镜10(20×,NA=0.45,f2=9mm)组成的缩束系统中,根据公式(3)可得缩放倍数为16.67。其中二向色镜9用于反射800nm激光改变光束传播方向同时透射白光源7发出的照明光,微调六自由度精密位移平台12,使样品石英玻璃11的上表面与激光传播方向垂直。在此过程中,通过白光源7发出的白光经过分束镜6、二向色镜9、显微物镜10照射在样品11的加工区域,并沿原路返回至分束镜6,分束镜6改变返回白光传播方向至CCD 8中来实时观测样品的加工情况。
(3)将(1)中得到的贝塞尔相位图加载到SLM 4中,高斯型飞秒激光入射到SLM 4的液晶面板上,经SLM 4相位调制后的出射光为四个贝塞尔光束,根据公式(4)计算,经过缩束系统在长度方向上缩束277.89倍,因此生成四个微贝塞尔光束的长度分别为420.31μm,438.81μm,454.39μm,473.57μm,
(4)移动六自由度精密位移平台12,使样品11上表面能够与微贝塞尔光束i的末端接触,固定此时平移台的Z值。
(5)通过衰减片2控制入射激光功率为3mW,通过控制机械开关3的通断,使每次曝光时间为0.5s,即每次加工沉积500个脉冲,将改性后的样品在室温条件下放入10%HF溶液中,并辅助超声振荡对改性后的样品刻蚀20小时,如附图3所示。刻蚀完成后将样品放入蒸馏水中超声振荡10min以清除表面残留的HF。
(6)使用SEM对刻蚀前的结果进行表征,结果如附图4(a)所示,使用激光共聚焦显微镜对刻蚀后的结果进行表征,结果如附图4(b)所示,刻蚀后的每个微透镜的轮廓如附图4(c)所示,利用公式(5)、公式(6)、公式(7)计算,四个微透镜的NA值分别为0.26,0.39,0.49,0.58.
R=(h2+r2)/2h (5)
|f|=Rsin(θ)/sin[(n-1)θ] (6)
sin(θ)=r/R (7)
NA=r/f (8)
其中,R为微透镜轮廓的曲率半径,h为微透镜顶点距表面的高度,r为通光孔径的一半,f为微透镜焦距,θ为微透镜轮廓的半中心角,n为石英玻璃的折射率,在此取1.45。
最终,一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法在石英玻璃上高效地制备出具有多个NA值、表面质量好的微透镜阵列结构。
实施例2
一种在相同通光孔径下具有多个数值孔径的微透镜阵列的制备方法同实施例1;本实例中设计具有四个通光孔径尺寸均为180μm(允许±1μm的误差),NA值分别为0.47、0.51、0.58、0.63的微透镜阵列,样品材料为石英玻璃。
根据公式(8)计算可得,四个微透镜的焦距f分别为191.5μm、176.5μm、155.2μm、142.9μm,如附图5(b)所示。联立公式(5)、公式(6)、公式(7)计算得到四个微透镜的高度h分别为53.5μm、59.8μm、72.5μm、83.4μm,根据以上数据,在附图5(a)中查找得到与此相对应的锥底角分别为2.30°、2.27°、2.19°、2.09°。最终经过20小时的刻蚀,形成的微透镜阵列如附图6(a)所示,其轮廓图如附图6(b)所示,根据激光共聚焦的测试结果,计算出四个微透镜的NA值分别为0.4661、0.5056、0.5751、0.6250,四舍五入保留两位小数后NA值分别为0.47、0.51、0.58、0.63。
最终,一种在相同通光孔径下具有多个数值孔径的微透镜阵列的制备方法在石英玻璃上成功制备出具有多个NA值的微透镜阵列结构。
以上所述的具体描述,对发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法,其特征在于:具体步骤如下:
步骤一:以石英玻璃作为基底材料,根据不同贝塞尔光束之间的贝塞尔区域长度差,设计贝塞尔相位图,计算公式如下:
β=arcsin(nsinα)-α (1)
Figure FDA0003083579850000011
其中β为出射角,α为相位图中的锥底角,n为相位图中锥透镜相位的折射率,这里取1.45进行计算,Zmax为进入缩束系统之前贝塞尔区域的长度,w0为入射高斯型激光的束腰半径;
步骤二:为了滤除0级光对加工光束的干扰,在贝塞尔光束相位图的基础上叠加棱镜相位,使从SLM出射的加工光束与干扰光分离;
步骤三:搭建由飞秒激光系统、衰减片、机械开关、空间光调制器(SLM)、缩束系统和六自由度平移台等组成的加工光路;
步骤四:将步骤二中得到的叠加后的相位图加载到SLM中,高斯型激光入射到SLM的液晶面板生成贝塞尔光束,并经过缩束系统生成微贝塞尔光束,其长度按照下式进行计算:
Figure FDA0003083579850000012
Figure FDA0003083579850000013
其中,Γ为缩束系统的缩放倍数,f1和f2分别为平凸透镜和聚焦物镜的焦距,Z'max为缩束后的微贝塞尔光束的长度;
步骤五:利用机械开关控制脉冲个数,利用衰减片调节入射激光能量,微调六自由度精密位移平台使样品的上表面与激光传播方向垂直,并使微贝塞尔光束末端接触样品的上表面对加工区域改性;
步骤六:将改性后的样品在室温条件下放入氢氟酸溶液中进行刻蚀,并加入超声振荡辅助使溶液与样品充分反应,通过控制刻蚀时间来控制微透镜的通光孔径大小。
2.一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的装置,其特征在于:包括飞秒激光系统、衰减片、机械开关、空间光调制器(SLM)、平凸透镜、分束镜、白光源、电荷耦合器件(CCD)、二向色镜、显微物镜、六自由度精密位移平台、计算机控制系统;
连接关系:飞秒激光系统、衰减片、机械开关、平凸透镜、分束镜、白光源、CCD、二向色镜、显微物镜同轴放置,SLM的液晶面板与光束成45°夹角,加工样品被放置在六自由度精密位移平台中心;
光路:飞秒激光系统产生高斯型飞秒激光后,经衰减片调整激光能量,利用计算机控制系统控制机械开关来调节辐照到样品表面的脉冲个数;调节后的激光光束经SLM调制生成贝塞尔光束,再通过缩束系统(平凸透镜+显微物镜)对光束缩束聚焦在位于六自由度精密位移平台中心的样品表面,其中二向色镜改变光束方向使其垂直入射到显微物镜中;在此过程中白光源产生的白光经过分束镜、二向色镜、显微物镜后照射在样品的加工区域,之后原路返回至分束镜,分束镜改变反射光传播方向入射到CCD中,以此实现对加工过程的实时监控。
CN202110582346.7A 2021-05-25 2021-05-25 一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法 Active CN113296175B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110582346.7A CN113296175B (zh) 2021-05-25 2021-05-25 一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110582346.7A CN113296175B (zh) 2021-05-25 2021-05-25 一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113296175A true CN113296175A (zh) 2021-08-24
CN113296175B CN113296175B (zh) 2022-02-25

Family

ID=77325405

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110582346.7A Active CN113296175B (zh) 2021-05-25 2021-05-25 一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113296175B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114888443A (zh) * 2022-03-30 2022-08-12 北京理工大学 一种飞秒激光在透明材料双面进行高尺寸精度刻型的方法
CN115113493A (zh) * 2022-08-25 2022-09-27 深圳市先地图像科技有限公司 一种带微透镜阵列的集成半导体激光直接成像装置
CN115113494A (zh) * 2022-08-25 2022-09-27 深圳市先地图像科技有限公司 可调焦的带微透镜阵列的集成半导体激光直接成像装置
CN115138997A (zh) * 2022-09-07 2022-10-04 武汉引领光学技术有限公司 一种多点贝塞尔光束玻璃打孔装置及方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007196277A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Seiko Epson Corp 微細構造体の製造方法、製造装置、及びデバイス
CN101551476A (zh) * 2009-05-07 2009-10-07 吉林大学 非球面微透镜的激光三维加工制备方法
CN101571603A (zh) * 2009-06-02 2009-11-04 中国科学院上海光学精密机械研究所 应用飞秒激光在石英玻璃基体上制备微光学元件的方法
CN103714516A (zh) * 2013-12-03 2014-04-09 西安交通大学 一种自适应光学成像中的点扩散函数估计方法
CN105449056A (zh) * 2015-12-30 2016-03-30 山东浪潮华光光电子股份有限公司 一种高光效可匀斑蓝宝石衬底led芯片及其制备方法
CN109570781A (zh) * 2017-09-28 2019-04-05 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种微孔阵列加工装置及方法
CN110238546A (zh) * 2019-04-15 2019-09-17 清华大学 一种基于空间光束整形的飞秒激光加工阵列微孔的系统
CN110967782A (zh) * 2020-01-03 2020-04-07 北京卓镭激光技术有限公司 一种高质量贝塞尔光束透镜
CN111679349A (zh) * 2020-06-19 2020-09-18 北京理工大学 空间整形激光辅助刻蚀加工数值孔径可变微透镜的方法
CN112192325A (zh) * 2020-10-09 2021-01-08 北京理工大学 飞秒激光在透明硬脆材料上加工微纳米尺度通孔的方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007196277A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Seiko Epson Corp 微細構造体の製造方法、製造装置、及びデバイス
CN101551476A (zh) * 2009-05-07 2009-10-07 吉林大学 非球面微透镜的激光三维加工制备方法
CN101571603A (zh) * 2009-06-02 2009-11-04 中国科学院上海光学精密机械研究所 应用飞秒激光在石英玻璃基体上制备微光学元件的方法
CN103714516A (zh) * 2013-12-03 2014-04-09 西安交通大学 一种自适应光学成像中的点扩散函数估计方法
CN105449056A (zh) * 2015-12-30 2016-03-30 山东浪潮华光光电子股份有限公司 一种高光效可匀斑蓝宝石衬底led芯片及其制备方法
CN109570781A (zh) * 2017-09-28 2019-04-05 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种微孔阵列加工装置及方法
CN110238546A (zh) * 2019-04-15 2019-09-17 清华大学 一种基于空间光束整形的飞秒激光加工阵列微孔的系统
CN110967782A (zh) * 2020-01-03 2020-04-07 北京卓镭激光技术有限公司 一种高质量贝塞尔光束透镜
CN111679349A (zh) * 2020-06-19 2020-09-18 北京理工大学 空间整形激光辅助刻蚀加工数值孔径可变微透镜的方法
CN112192325A (zh) * 2020-10-09 2021-01-08 北京理工大学 飞秒激光在透明硬脆材料上加工微纳米尺度通孔的方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114888443A (zh) * 2022-03-30 2022-08-12 北京理工大学 一种飞秒激光在透明材料双面进行高尺寸精度刻型的方法
CN115113493A (zh) * 2022-08-25 2022-09-27 深圳市先地图像科技有限公司 一种带微透镜阵列的集成半导体激光直接成像装置
CN115113494A (zh) * 2022-08-25 2022-09-27 深圳市先地图像科技有限公司 可调焦的带微透镜阵列的集成半导体激光直接成像装置
CN115138997A (zh) * 2022-09-07 2022-10-04 武汉引领光学技术有限公司 一种多点贝塞尔光束玻璃打孔装置及方法
CN115138997B (zh) * 2022-09-07 2022-12-06 武汉引领光学技术有限公司 一种多点贝塞尔光束玻璃打孔装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN113296175B (zh) 2022-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113296175B (zh) 一种加工具有多个数值孔径的微透镜阵列的方法
Hou et al. Fabrication, characterization, and applications of microlenses
US11370657B2 (en) Method and apparatus for manufacturing microfluidic chip with femtosecond plasma grating
CN111679349B (zh) 空间整形激光辅助刻蚀加工数值孔径可变微透镜的方法
Li et al. Fabrication of artificial compound eye with controllable field of view and improved imaging
JP3589486B2 (ja) マイクロレンズの製造方法
CN109079318B (zh) 一种硅光子晶体波导器件的飞秒激光制备系统及方法
CN110174769A (zh) 光照射装置及方法、具备光照射装置的光加工装置及方法
Hua et al. Convex silica microlens arrays via femtosecond laser writing
CN102785025A (zh) 利用飞秒激光增强化学刻蚀制备大规模微透镜阵列的方法
CN109702323B (zh) 一种深度连续可调的近4π立体角飞秒激光直写加工的方法及应用
CN109633796B (zh) 微透镜阵列加工系统与加工工艺
CN108845409B (zh) 一种基于多面体棱镜产生阵列多焦点的装置及方法
CN109732201B (zh) 利用三棱台棱镜进行近4π立体角飞秒激光直写加工的方法及其应用
CN103852972A (zh) 一种双焦点微透镜阵列的微米压印与激光诱导成形方法
Jin et al. Femtosecond laser fabrication of 3D templates for mass production of artificial compound eyes
Luo et al. Fabrication of parabolic cylindrical microlens array by shaped femtosecond laser
CN113042896A (zh) 一种高效的硬脆材料的三维微加工方法
CN114012272B (zh) 一种硫系玻璃微透镜阵列的制备方法
Chung et al. Micro-lens array fabrication by two photon polymerization technology
Li et al. Microlens arrays enable variable-focus imaging
Wang et al. Holographic laser fabrication of 3D artificial compound μ-eyes
CN103738915B (zh) 三维晶体光学回音壁微腔的制备方法
Dai et al. Multi-focused droplet lens array inspired by movable-type printing technology
Treffer et al. MEMS axicons for nondiffracting line shaping of ultrashort pulses

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant