CN113292252A - 一种非导电可触摸魔镜用加工工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，具体步骤如下，S1：选片，选择厚度为0.5mm‑2mm的硼硅玻璃作为玻璃基板；S2:基板预处理；S3：一次镀膜处理；S4：金属蚀刻处理；S5：二次镀膜处理，利用热压法在蚀刻后的玻璃基板表面镀上一层热压绝缘膜，本发明通过在ITO膜和绝缘膜的基础上加贴了单向玻璃透视膜，使玻璃对可见光具有较高的反射比，同时在镀ITO膜完成后对玻璃进行低温退火处理，有效提高了ITO膜的导电率和透明度，通过对硼硅玻璃基板进行了热处理和热浸处理，大大提高了该触摸显示玻璃的强度，使其不易发生碎裂现象。
Description
技术领域
本发明涉及镜显玻璃制备领域，特别涉及一种非导电可触摸魔镜用加工工艺。
背景技术
玻璃是非晶无机非金属材料，一般是用多种无机矿物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸钡、石灰石、长石、纯碱等)为主要原料，另外加入少量辅助原料制成的。它的主要成分为二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化学组成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸盐复盐，是一种无规则结构的非晶态固体。广泛应用于建筑物，用来隔风透光，属于混合物。
非导电可触摸玻璃，因为高强的反射性和交互效果，被人们称为魔镜，而魔镜，又称镜面显示镜和镜面玻璃、镜面成像镜、镜面电视玻璃等，魔镜可根据需要将不同的显示设备变为镜面显示设备，魔镜本身具备高反射与强透过的特性，是一种镜面显示设备专门制作的光学镜片，其在显示设备关闭时可以完美隐藏显示系统，对外呈现镜面效果，当显示设备开启之后，其可以将显示设备的光源完美透过，进而可以显示画面。
而现有的非导电可触摸显示玻璃，由于要在玻璃表面镀膜(ITO导电膜和绝缘膜)，导致玻璃本身的透光率下降，对光的反射率也大大下降，同时现有的非导电可触摸显示玻璃结构强度较低，容易在长时间触碰下产生碎裂现象。
发明内容
本发明的目的在于提供一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，具体步骤如下：
S1：选片，选择厚度为0.5mm-2mm的硼硅玻璃作为玻璃基板；
S2:基板预处理，采用碱性清洗液对S1选用的玻璃基板进行超声清洗，清洗晾干后再使用直线磨边机对玻璃基板进行磨边，去除毛刺，提升基板质量；
S3：一次镀膜处理，先采用镀膜机处理好的玻璃基板表面镀上一层二氧化硅阻挡层，成型后再采用真空磁控溅射镀膜机，利用磁控溅射原理在镀层后的玻璃基板上一层氧化铟锡膜；
S4：金属蚀刻处理，选用ITO蚀刻液通过湿蚀刻法对S3镀膜后的玻璃基板进行蚀刻处理，在玻璃表面形成导电线路，蚀刻温度控制在80-120摄氏度，蚀刻时间控制在10-20分钟，待蚀刻图案成形后用碱性清洗液进行清洗；
S5：二次镀膜处理，利用热压法在蚀刻后的玻璃基板表面镀上一层热压绝缘膜，热压绝缘膜为AR材质制成，透光率可达95％，绝缘膜成形后加贴单向玻璃透视膜，使玻璃对可见光具有较高的反射比。
优选的，所述S3中的氧化铟锡膜：氧化铟透过率高，氧化锡导电性能强，其中铟和锡的比例为为1:9。
优选的，所述S4蚀刻前需对ITO蚀刻液进行浓度检测，蚀刻液浓度需保持在6.5±0.5Mol/L。
优选的，所述硼硅玻璃基板的原料选用二氧化硅,氧化硼,氧化铝,硝酸钠,氯化钠,氟硅酸铵和碎玻璃。
优选的，所述硼硅玻璃基板的制备工艺为原料粉碎→调配→熔制→热处理→成型→热浸处理。
优选的，所述硼硅玻璃基板经过热处理和热浸处理，可使玻璃分子结构发生改变，表面形成压应力，增强玻璃结构的强度。
优选的，所述硼硅玻璃基板的上表面和下表面均加贴防爆膜，防爆膜由防刮层、聚碳酸酯板、BOPP薄膜、离型材料层制得。
优选的，所述S3中磁控溅射应在常温下进行，通过低温退火工艺改善ITO的质量，镀完膜之后,在300摄氏度左右,大气氛围下退火60分钟,然后自然冷却,使氧化铟锡膜导电率和透明度都大大提高了。
本发明的技术效果和优点：一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，本发明通过在ITO膜和绝缘膜的基础上加贴了单向玻璃透视膜，使玻璃对可见光具有较高的反射比，同时在镀ITO膜完成后对玻璃进行低温退火处理，有效提高了ITO膜的导电率和透明度，通过对硼硅玻璃基板进行了热处理和热浸处理，大大提高了该触摸显示玻璃的强度，使其不易发生碎裂现象。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供了一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，具体步骤如下：
S1：选片，选择厚度为0.5mm-2mm的硼硅玻璃作为玻璃基板；
S2:基板预处理，采用碱性清洗液对S1选用的玻璃基板进行超声清洗，清洗晾干后再使用直线磨边机对玻璃基板进行磨边，去除毛刺，提升基板质量；
S3：一次镀膜处理，先采用镀膜机处理好的玻璃基板表面镀上一层二氧化硅阻挡层，成型后再采用真空磁控溅射镀膜机，利用磁控溅射原理在镀层后的玻璃基板上一层氧化铟锡膜；
S4：金属蚀刻处理，选用ITO蚀刻液通过湿蚀刻法对S3镀膜后的玻璃基板进行蚀刻处理，在玻璃表面形成导电线路，蚀刻温度控制在80-120摄氏度，蚀刻时间控制在10-20分钟，待蚀刻图案成形后用碱性清洗液进行清洗；
S5：二次镀膜处理，利用热压法在蚀刻后的玻璃基板表面镀上一层热压绝缘膜，热压绝缘膜为AR材质制成，透光率可达95％，绝缘膜成形后加贴单向玻璃透视膜，使玻璃对可见光具有较高的反射比。
实施例一，S3中的氧化铟锡膜：氧化铟透过率高，氧化锡导电性能强，其中铟和锡的比例为为1:9，S4蚀刻前需对ITO蚀刻液进行浓度检测，蚀刻液浓度需保持在6.5±0.5Mol/L。
实施例二，硼硅玻璃基板的原料选用二氧化硅,氧化硼,氧化铝,硝酸钠,氯化钠,氟硅酸铵和碎玻璃，硼硅玻璃基板的制备工艺为原料粉碎→调配→熔制→热处理→成型→热浸处理，硼硅玻璃基板经过热处理和热浸处理，可使玻璃分子结构发生改变，表面形成压应力，增强玻璃结构的强度，硼硅玻璃基板的上表面和下表面均加贴防爆膜，防爆膜由防刮层、聚碳酸酯板、BOPP薄膜、离型材料层制得，S3中磁控溅射应在常温下进行，通过低温退火工艺改善ITO的质量，镀完膜之后,在300摄氏度左右,大气氛围下退火60分钟,然后自然冷却,使氧化铟锡膜导电率和透明度都大大提高了。
综上所述，本发明提供的一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，本发明通过在ITO膜和绝缘膜的基础上加贴了单向玻璃透视膜，使玻璃对可见光具有较高的反射比，同时在镀ITO膜完成后对玻璃进行低温退火处理，有效提高了ITO膜的导电率和透明度，通过对硼硅玻璃基板进行了热处理和热浸处理，大大提高了该触摸显示玻璃的强度，使其不易发生碎裂现象。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
本发明使用到的标准零件均可以从市场上购买，异形件根据说明书的记载均可以进行订制。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (8)
1.一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，其特征在于，具体步骤如下：
S1：选片，选择厚度为0.5mm-2mm的硼硅玻璃作为玻璃基板；
S2:基板预处理，采用碱性清洗液对S1选用的玻璃基板进行超声清洗，清洗晾干后再使用直线磨边机对玻璃基板进行磨边，去除毛刺，提升基板质量；
S3：一次镀膜处理，先采用镀膜机处理好的玻璃基板表面镀上一层二氧化硅阻挡层，成型后再采用真空磁控溅射镀膜机，利用磁控溅射原理在镀层后的玻璃基板上一层氧化铟锡膜；
S4：金属蚀刻处理，选用ITO蚀刻液通过湿蚀刻法对S3镀膜后的玻璃基板进行蚀刻处理，在玻璃表面形成导电线路，蚀刻温度控制在80-120摄氏度，蚀刻时间控制在10-20分钟，待蚀刻图案成形后用碱性清洗液进行清洗；
S5：二次镀膜处理，利用热压法在蚀刻后的玻璃基板表面镀上一层热压绝缘膜，热压绝缘膜为AR材质制成，透光率可达95％，绝缘膜成形后加贴单向玻璃透视膜，使玻璃对可见光具有较高的反射比。
2.根据权利要求1所述的一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，其特征在于，所述S3中的氧化铟锡膜：氧化铟透过率高，氧化锡导电性能强，其中铟和锡的比例为为1:9。
3.根据权利要求1所述的一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，其特征在于，所述S4蚀刻前需对ITO蚀刻液进行浓度检测，蚀刻液浓度需保持在6.5±0.5Mol/L。
4.根据权利要求1所述的一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，其特征在于，所述硼硅玻璃基板的原料选用二氧化硅,氧化硼,氧化铝,硝酸钠,氯化钠,氟硅酸铵和碎玻璃。
5.根据权利要求4所述的一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，其特征在于，所述硼硅玻璃基板的制备工艺为原料粉碎→调配→熔制→热处理→成型→热浸处理。
6.根据权利要求5所述的一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，其特征在于，所述硼硅玻璃基板经过热处理和热浸处理，可使玻璃分子结构发生改变，表面形成压应力，增强玻璃结构的强度。
7.根据权利要求1所述的一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，其特征在于，所述硼硅玻璃基板的上表面和下表面均加贴防爆膜，防爆膜由防刮层、聚碳酸酯板、BOPP薄膜、离型材料层制得。
8.根据权利要求1所述的一种非导电可触摸魔镜用加工工艺，其特征在于，所述S3中磁控溅射应在常温下进行，通过低温退火工艺改善ITO的质量，镀完膜之后,在300摄氏度左右,大气氛围下退火60分钟,然后自然冷却,使氧化铟锡膜导电率和透明度都大大提高了。
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