CN113284704B - 一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器 - Google Patents
一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113284704B CN113284704B CN202110536254.5A CN202110536254A CN113284704B CN 113284704 B CN113284704 B CN 113284704B CN 202110536254 A CN202110536254 A CN 202110536254A CN 113284704 B CN113284704 B CN 113284704B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- heat dissipation
- support
- assembly
- transmitter based
- dissipation structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F27/00—Details of transformers or inductances, in general
- H01F27/08—Cooling; Ventilating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S1/00—Masers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the microwave range
- H01S1/02—Masers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the microwave range solid
Abstract
本发明公开了一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器,包括发射器基底和散热组件,散热组件固定于发射器基底的励磁线圈侧,所述发射器基底包括第一支架、发射样片和快拆组件,快拆组件卡设于第一支架上,发射样片卡设于快拆组件中,第一支架的两侧缠绕设置励磁线圈,散热组件分别设置于励磁线圈的外侧,散热组件与第一支架一体成型;在励磁线圈附近设置散热组件,用于对励磁线圈所产生的焦耳热进行散热,以提高励磁线圈的工作寿命;多个散热片平行设置可以提高散热片的散热均匀性,多个散热片等间距设置,提高对励磁线圈的散热均匀性和稳定性,进而实现了对第一支架的散热作用。
Description
技术领域
本发明涉及太赫兹发射器技术领域,尤其涉及一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器。
背景技术
太赫兹频段位于红外和微波之间,是宏观电子学与微观光子学的过渡频段,兼具宽带性、低能性、高透性、唯一性等诸多优势特性,其在无损检测、卫星通信、医疗诊断、卫星通信等领域具有重大的科学价值和广阔的应用前景。自旋太赫兹源因其独特的太赫兹产生机理,具有低成本、高效率等优势,是未来太赫兹技术的重要发展方向。
现有技术中的自旋太赫兹系统需要永磁铁、斩波器等器件,体积庞大、系统复杂、成本昂贵。采用励磁线圈代替永磁铁、斩波器,可实现自旋太赫兹发射器的小型化。但励磁线圈通入脉冲电流时将产生焦耳热,影响自旋太赫兹的产生效率,甚至导致励磁线圈短路,导致自旋太赫兹发射器不能正常工作,降低自旋太赫兹发射器的使用寿命。
发明内容
基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器,通过散热组件对励磁线圈进行散热,提高了自旋太赫兹发射器的使用寿命。
本发明提出的一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器,包括发射器基底和散热组件,散热组件固定于发射器基底的励磁线圈侧。
进一步地,所述发射器基底包括第一支架、发射样片和快拆组件,快拆组件卡设于第一支架上,发射样片卡设于快拆组件中,第一支架的两侧缠绕设置励磁线圈。
进一步地,散热组件分别设置于励磁线圈的外侧,散热组件与第一支架一体成型。
进一步地,散热组件包括多个散热片,多个散热片平行固定于第一支架上。
进一步地,多个散热片等间距设置。
进一步地,多个散热片表面设置多个连续折弯面。
进一步地,多个散热片表面光面设置。
进一步地,所述发射器基底还包括硅透镜和用于固定硅透镜的固定组件,硅透镜贴附发射样片的发射侧设置,固定组件与快拆组件固定连接。
进一步地,所述固定组件包括安装螺丝和用于硅透镜的固定支架,安装螺丝的一端依次穿过固定支架、快拆组件固定设置。
本发明提供的一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器的优点在于:本发明结构中提供的一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器,在励磁线圈附近设置散热组件,用于对励磁线圈所产生的焦耳热进行散热,以提高励磁线圈的工作寿命;多个散热片平行设置可以提高散热片的散热均匀性,多个散热片等间距设置,提高对励磁线圈的散热均匀性和稳定性,进进而实现了对第一支架的散热作用;快拆组件卡设于第一支架上的设置,便于发射器基底的拆装。通过调控通入励磁线圈的脉冲电流大小、方向,以及占空比对产生的自旋太赫兹波调制,并通过锁相放大器等仪器实现自旋太赫兹波的探测。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为图1的俯视图;
图3为第一支架的正视图;
图4为图3的俯视图。;
图5为拆组件的正视图;
图6为18片散热片自旋太赫兹发射器工作时第一支架温度分布情况;
图7为10片散热片自旋太赫兹发射器工作时第一支架温度分布情况;
图8为不带散热片自旋太赫兹发射器工作时第一支架温度分布情况;
其中,1-发射器基底,2-散热组件,3-固定组件,101-第一支架,102-快拆组件,103-励磁线圈,108-发射样片,109-硅透镜,201-散热片,301-安装螺丝,302-固定支架,101-1-U型架,101-2-T型架,101-3-固定座,101-4-快拆组件固定螺丝安装孔,101-5-快拆组件安装槽,102-1通光孔,102-2发射样品安装卡槽,103-3硅透镜安装架固定螺丝安装螺孔。
具体实施方式
下面,通过具体实施例对本发明的技术方案进行详细说明,在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其他方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
如图1至8所示,本发明提出的一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器,包括发射器基底1和散热组件2,散热组件2固定于发射器基底1的励磁线圈103侧。
由焦耳定律,当发射器基底1的励磁线圈103通入脉冲电流时将产生焦耳热,会产影响自旋太赫兹的产生效率,甚至导致励磁线圈103短路,导致系统不能正常工作,因而在励磁线圈103附近设置散热组件2,用于对励磁线圈103所产生的焦耳热进行散热,以提高励磁线圈103的工作寿命。
在本实施例中,所述发射器基底1的框架结构为第一支架101,励磁线圈103缠绕在第一支架101上设置,励磁线圈103的缠绕位置和缠绕数量可以根据实际需要进行确定,例如本附图中,将第一支架101设置成两个对称的工型架,每个工型架上均缠绕设置励磁线圈103,因而适应性设置两个散热组件2,两个散热组件2与第一支架101采用一体成型,例如可以采用3D打印制作;其中散热组件2多个散热片201,多个散热片201可以平行固定于第一支架101,也可以不平行设置,平行设置是较佳的方案,因为平行设置可以提高散热片201的散热均匀性。
需要说明的是,散热片201可以等间距设置,但是不排除不等间距设置的可能性,因为等间距设置是一种较佳方案,使得每个散热片201的散热是均匀的,进而提高对励磁线圈103的散热均匀性和稳定性。
应理解的是,对于散热片201的表面结构,可以为光面结构,也可以为连续折弯面机构,折弯面可以增加散热片201的散热面。
在本实施例中,所述发射器基底1还包括发射样片108、快拆组件102、硅透镜109和用于固定硅透镜109的固定组件3,快拆组件102卡设于第一支架101上,发射样片108卡设于快拆组件102中,硅透镜109贴附发射样片108的发射侧设置,固定组件3与快拆组件102固定连接。所述固定组件3包括安装螺丝301和用于硅透镜109的固定支架302,安装螺丝301的一端依次穿过固定支架、快拆组件102固定设置。
具体而言,第一支架101包括U型架101-1、固定座101-3、快拆组件固定螺丝安装孔101-4、快拆组件安装槽101-5以及两个对称分布的T型架101-2;快拆组件102插入快拆组件安装槽101-5设置,快拆组件102包括通光孔102-1、发射样品安装卡槽102-2、硅透镜安装架固定螺丝安装螺孔102-3;励磁线圈103缠绕在固定支架的两个T型架101-2上,当励磁线圈103通入脉冲电流时,将在发射样片108处产生一平行于发射样片108的脉冲磁场;散热组件2固定于T型架101-2上、并向外延伸;固定支架302通过硅透镜安装架固定螺丝穿过安装架固定螺丝安装螺孔102-3安装于快拆组件102上,快拆组件102中间有一用于固定安装硅透镜109的安装孔。
当励磁线圈103通入脉冲电流时,将在发射样片108处产生一脉冲磁场,实现发射样片108的磁化。当超快激光从第一支架101背部通过通光孔102-1照射到发射样片108上,在超快激光热效应作用下引起发射样片108产生超快自旋流。由于自旋逆霍尔效应,该超快自旋流将转换为超快电荷流。由麦克斯韦电磁理论,该超快电荷流将产生太赫兹辐射,产生的自旋太赫兹波通过硅透镜109准直,平行出射。通过调控通入励磁线圈103的脉冲电流大小、方向,以及占空比对产生的自旋太赫兹波调制,并通过锁相放大器等仪器实现自旋太赫兹波的探测。
通过有限元软件仿真,具体说明发射器基底1上设置散热片201的优点:如图6所示,设置散热片201共18片,均匀分布于固定支架的第一支架101的两侧,每片散热片长度、宽度分别为3cm、2cm。当励磁线圈103产生的热功率为10W时,第一支架101生成一定的温度分布,如图6所示,由图6可以看出励磁线圈103所处温度为33℃,温度不高,散热片201的散热起到重要的散热作用。图7为10片散热片201,均匀分布于固定支架的第一支架101的两侧,散热片的规格与18片散热片一致,发射器基底1的规格材质同18片散热片的发射器基底1完全相同;当励磁线圈103产生的热功率为10W时,第一支架101生成一定的温度分布,如图7所示,由图7可以看出第一支架101所处温度约为50℃,第一支架101的温度相对于设置18片散热片201要高一些,进一步验证了散热片201对第一支架101的重要散热作用。图8为不带散热片201的发射器基底1结构,当励磁线圈103产生的热功率为10W时,第一支架101的温度分布,发射器基底1的规格材质同18片散热片的发射器基底1完全相同,得到第一支架101生成一定的温度分布,由图8可以看出第一支架101所处温度约为116℃,第一支架101的温度相对于设置18片以及10片散热片201要高很多,再次对比验证了散热片201对第一支架101的重要散热作用。对比图6、图7、图8可以看出,通过优化散热片104的数目、分布可以有效减小焦耳热对励磁线圈103的温度影响,降低励磁线圈103的短路风险,增加系统可靠性,提高自旋太赫兹发射器的使用寿命。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器,包括发射器基底(1)和散热组件(2),散热组件(2)固定于发射器基底(1)的励磁线圈(103)侧;
所述发射器基底(1)包括第一支架(101)、发射样片(108)和快拆组件(102),快拆组件(102)卡设于第一支架(101)上,发射样片(108)卡设于快拆组件(102)中,第一支架(101)的两侧缠绕设置励磁线圈(103);
散热组件(2)分别设置于励磁线圈(103)的外侧,散热组件(2)与第一支架(101)一体成型。
2.根据权利要求1所述的基于散热结构的自旋太赫兹发射器,其特征在于,散热组件(2)包括多个散热片(201),多个散热片(201)平行固定于第一支架(101)上。
3.根据权利要求2所述的基于散热结构的自旋太赫兹发射器,其特征在于,多个散热片(201)等间距设置。
4.根据权利要求2所述的基于散热结构的自旋太赫兹发射器,其特征在于,多个散热片(201)表面设置多个连续折弯面。
5.根据权利要求2所述的基于散热结构的自旋太赫兹发射器,其特征在于,多个散热片(201)表面光面设置。
6.根据权利要求1所述的基于散热结构的自旋太赫兹发射器,其特征在于,所述发射器基底(1)还包括硅透镜(109)和用于固定硅透镜(109)的固定组件(3),硅透镜(109)贴附发射样片(108)的发射侧设置,固定组件(3)与快拆组件(102)固定连接。
7.根据权利要求6所述的基于散热结构的自旋太赫兹发射器,其特征在于,所述固定组件(3)包括安装螺丝(301)和用于硅透镜(109)的固定支架(302),安装螺丝(301)的一端依次穿过固定支架、快拆组件(102)固定设置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110536254.5A CN113284704B (zh) | 2021-05-17 | 2021-05-17 | 一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110536254.5A CN113284704B (zh) | 2021-05-17 | 2021-05-17 | 一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113284704A CN113284704A (zh) | 2021-08-20 |
CN113284704B true CN113284704B (zh) | 2022-07-19 |
Family
ID=77279493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110536254.5A Active CN113284704B (zh) | 2021-05-17 | 2021-05-17 | 一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113284704B (zh) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8767780B2 (en) * | 2011-04-19 | 2014-07-01 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Laser device for emitting waves in the terahertz range |
CN104599805A (zh) * | 2015-01-30 | 2015-05-06 | 中国科学院电工研究所 | 一种太赫兹源的强磁聚焦磁体系统 |
CN105004420A (zh) * | 2015-07-23 | 2015-10-28 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种太赫兹宽谱的生成方法 |
CN105742943A (zh) * | 2016-01-22 | 2016-07-06 | 中国科学技术大学 | 一种基于自由电子激光的可调谐窄带紧凑型太赫兹辐射源 |
CN106647224A (zh) * | 2016-12-14 | 2017-05-10 | 北京无线电计量测试研究所 | 无极汞灯 |
CN110131915A (zh) * | 2019-04-10 | 2019-08-16 | 博微太赫兹信息科技有限公司 | 一种高精度温度控制系统及方法 |
CN112103756A (zh) * | 2020-10-12 | 2020-12-18 | 北京航空航天大学合肥创新研究院 | 一种偏振方向可控的自旋太赫兹发射器 |
-
2021
- 2021-05-17 CN CN202110536254.5A patent/CN113284704B/zh active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8767780B2 (en) * | 2011-04-19 | 2014-07-01 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Laser device for emitting waves in the terahertz range |
CN104599805A (zh) * | 2015-01-30 | 2015-05-06 | 中国科学院电工研究所 | 一种太赫兹源的强磁聚焦磁体系统 |
CN105004420A (zh) * | 2015-07-23 | 2015-10-28 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种太赫兹宽谱的生成方法 |
CN105742943A (zh) * | 2016-01-22 | 2016-07-06 | 中国科学技术大学 | 一种基于自由电子激光的可调谐窄带紧凑型太赫兹辐射源 |
CN106647224A (zh) * | 2016-12-14 | 2017-05-10 | 北京无线电计量测试研究所 | 无极汞灯 |
CN110131915A (zh) * | 2019-04-10 | 2019-08-16 | 博微太赫兹信息科技有限公司 | 一种高精度温度控制系统及方法 |
CN112103756A (zh) * | 2020-10-12 | 2020-12-18 | 北京航空航天大学合肥创新研究院 | 一种偏振方向可控的自旋太赫兹发射器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113284704A (zh) | 2021-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101521312B1 (ko) | 상향변환 루미노포릭 매체를 포함하는 광 전자 디바이스 | |
US20100271834A1 (en) | Led lighting system | |
KR102297802B1 (ko) | 광원장치 | |
CN113284704B (zh) | 一种基于散热结构的自旋太赫兹发射器 | |
KR20100138836A (ko) | 조명장치 | |
JP2017152671A (ja) | Rf増幅システム及びその放熱装置 | |
CN116390454A (zh) | 一种高集成度卫通相控阵用户终端的散热方法及系统 | |
CN207851491U (zh) | 一种用于荧光轮器件的散热装置 | |
JP2006319262A (ja) | 熱電変換モジュール | |
US10251319B2 (en) | Heat radiation apparatus using modular cooling apparatus | |
EP1355340A2 (en) | Magnetron | |
WO2010044374A1 (ja) | 放熱構造体 | |
US20140063855A1 (en) | Backplate, backlight module and display device | |
CN108513237B (zh) | 一种具有热电转换装置的扬声器系统 | |
JP2015520951A (ja) | グラフェン照明器、並びにグラフェン照明器を用いた放熱装置及び光学伝送ネットワークノード | |
JP2014182232A (ja) | 液晶表示装置 | |
CN218514383U (zh) | 光模块装置以及终端设备 | |
US10971899B2 (en) | Laser light source unit | |
CN220378368U (zh) | 散热装置及发电设备 | |
CN216794235U (zh) | 一种新型巴条类半导体激光器 | |
CN218386184U (zh) | 一种精密温度控制型的光纤耦合激光器 | |
CN219459330U (zh) | 一种微波发生装置以及加热设备 | |
CN208226284U (zh) | 激光器及其散热组件 | |
CN220511116U (zh) | 一种光有源器件检测实验装置 | |
CN113406468B (zh) | 基于tec的光电子器件测试平台 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20220617 Address after: 230013 No.999 Wenzhong Road, Xinzhan high tech Zone, Hefei City, Anhui Province Applicant after: Hefei Institute of innovation Beijing University of Aeronautics and Astronautics Address before: No. 999, Wenzhong Road, Xinzhan District, Hefei City, Anhui Province, 230013 Applicant before: Hefei Institute of innovation Beijing University of Aeronautics and Astronautics Applicant before: Hefei Zhizhen light source technology Co.,Ltd. |
|
TA01 | Transfer of patent application right | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |