CN113251945A - 一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置 - Google Patents

一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置 Download PDF

Info

Publication number
CN113251945A
CN113251945A CN202110535064.1A CN202110535064A CN113251945A CN 113251945 A CN113251945 A CN 113251945A CN 202110535064 A CN202110535064 A CN 202110535064A CN 113251945 A CN113251945 A CN 113251945A
Authority
CN
China
Prior art keywords
spectrum
light
line profile
line
interference
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202110535064.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113251945B (zh
Inventor
王毅
施家正
彭思龙
汪雪林
顾庆毅
赵效楠
王一洁
郭晓锋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Zhongke Xingzhi Intelligent Technology Co ltd
Northeastern University Qinhuangdao Branch
Original Assignee
Suzhou Zhongke Xingzhi Intelligent Technology Co ltd
Northeastern University Qinhuangdao Branch
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzhou Zhongke Xingzhi Intelligent Technology Co ltd, Northeastern University Qinhuangdao Branch filed Critical Suzhou Zhongke Xingzhi Intelligent Technology Co ltd
Priority to CN202110535064.1A priority Critical patent/CN113251945B/zh
Publication of CN113251945A publication Critical patent/CN113251945A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113251945B publication Critical patent/CN113251945B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/2441—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02—Interferometers
    • G01B9/02041—Interferometers characterised by particular imaging or detection techniques
    • G01B9/02043—Imaging of the Fourier or pupil or back focal plane, i.e. angle resolved imaging
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02—Interferometers
    • G01B9/0209—Low-coherence interferometers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

本发明提供了一种线轮廓成像装置的解调方法，通过获取被测物品上的干涉光谱并计算幅度谱获取极大值点的横坐标序数，计算干涉光谱的分光谱的相位，进而计算线轮廓分布并进行修正，非卷绕范围较大，抗噪能力较强，容易判断去卷绕是否出错。本发明还提供了一种线轮廓成像装置，能够防止被测物品对成像造成遮挡，使用相对较窄的低相干光源产生线形光，实现毫米数量级的大范围、纳米级的高分辨率测量及成像，实施成本较低。

Description

一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置
技术领域
本发明涉及测量方法与装置领域，涉及光学干涉测量的仪器和方法，具体涉及一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置。
背景技术
在工业领域中，存在许多加工及制造过程需要使用三维(3D)成像技术进行检测，其中，线轮廓成像可以对一条线上的各点轮廓分布同时成像，可以实现高速的3D成像，适合于进行一维运动的被测物体的检测需求，尤其是在生产线上运动的物体的检测。
线结构光成像是目前较广泛的线轮廓成像技术，例如文献US8786836B2(Measuring instrument and method for determination of the properties of anitem and its surface)提供了一种基于色散和共焦技术的线轮廓成像技术，这种方法可用于玻璃等透明或半透明表面。但是，由于照明光和进入探测器的光之间存在夹角，对于较陡的结构的测量，容易出现遮挡现象；同时，这种方法受被测物品表面颜色影响，在成像前，需要进行参数调整，当被测物品颜色对比较大时，容易产生误差。
白光干涉利用相干长度较短的宽带光源，具有深度分辨能力。白光干涉可分为时域白光干涉和谱域白光干涉，其中，谱域白光干涉不需要进行深度扫描，可以实现高速检测及成像。文献《线照明并行谱域光学相干层析成像系统与缺陷检测应用研究》(物理学报，63(19))和《并行谱域光学相干层析成像技术的研究进展》(中国激光，45(2))介绍了并行谱域光学相干层析成像技术，可以实现线轮廓成像，使用傅里叶变换(FFT)进行信号解调，频率和深度成正比，成像深度为毫米数量级。FFT的理论分辨率由光谱仪带宽决定，等于2π/Δk，Δk为光谱仪所对应的波数宽度，因此需要超宽带低相干光源才能实现亚微米分辨率，无法实现纳米级分辨率检测。而且，超宽带低相干光源价格昂贵，限制了其在表面轮廓成像的应用。
利用相位信息进行成像，可以具有纳米级分辨率，如文献CN201811024739.0公开的一种光学相干层析相位解卷绕的方法及装置，其成像范围为2π/Δk，Δk为光谱仪所对应的波数宽度，一般为几微米到几十微米，但是这种方法需要进行多次迭代运算，速度较慢。在文献《High-sensitive and broad-dynamic-range quantitative phase imaging withspectral domain phase microscopy》(Vol.21,No.22，OPTICS EXPRESS)和《High-dynamic-range quantitative phase imaging with spectral domain phasemicroscopy》(Vol.34,No.21，OPTICS LETTERS)中，介绍了一种结合线性回归和相位去卷绕的方法，以扩大频域光相干断层扫描的测量范围。但是，线性回归只适合于高信噪比及低频信号，而当测量范围较大时，存在低信噪比及高频信号，因此，上述方法仅适合于细胞等成像范围较小的情况。此外，在上述文献所公开的去卷绕方法中，由于探测光的波长较短(微米及亚微米)，测量范围超过波长的二分之一，即产生相位卷绕。在毫米数量级的大范围测量中，由于较大噪声存在，噪声对去卷绕的影响较大，因此误差较大。
文献CN103148785B公开了一种光学干涉谱域相位对照B扫描仪及其测量方法，首先用傅里叶变换得到卷绕相位，再经过对卷绕相位的跳跃点加减整数倍的2π，进行解卷绕计算后，得到解卷绕相位差。这种方法只适合于比较平坦的表面成像，当相邻两点表面高度差超过半波长，则这种补偿方法就失效。
目前的基于白光干涉的线轮廓成像技术利用干涉光谱的频率可以实现较大测量范围(毫米量级)，但是精度较低(微米量级)；如果利用干涉光谱的相位可以实现较大测量精度(纳米量级)，但是范围较小(半波长)。目前的基于白光干涉的线轮廓成像技术存在较大测量范围(毫米量级)和较大精度(纳米量级)无法同时满足的矛盾。
发明内容
为了解决现有基于白光干涉的线轮廓成像技术存在较大测量范围(毫米量级)和较大精度(纳米量级)无法同时满足的矛盾，本发明提供了一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置。
为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案如下：
本发明提供了一种线轮廓成像装置的解调方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1：被测样品上线形光斑的各点坐标为y1，光谱仪获取干涉图像I(y；K)，所述干涉图像的横坐标表示波数，纵坐标为y，y和y1一一对应，所述干涉图像的一行即为所述被测样品上所述线形光斑一点的干涉光谱；对所述干涉图像I(y；K)每一行的所述干涉光谱单独处理；
S2：选取所述干涉图像I(y；K)某一行的所述干涉光谱作为待分析光谱，对所述待分析光谱依次进行滤波、消除直流分量、强度归一化、傅里叶变换，得到所述待分析光谱的幅度谱，获取所述幅度谱的极大值点横坐标序数M(y)；
S3：将所述待分析光谱均分为左右两个分光谱，计算两个所述分光谱的相位θ1(y)和θ2(y)；
S4：通过下式计算所述待分析光谱的线轮廓分布R(y)：
Figure BDA0003069484070000031
其中，Kc1、Kc2分别为两个所述分光谱的中心波数，
Figure BDA0003069484070000032
为对
Figure BDA0003069484070000033
进行四舍五入取整运算，A(y)通过下式计算：
Figure BDA0003069484070000034
S5：判断
Figure BDA0003069484070000035
是否出错，若是，则对R(y)进行修正；若否，则完成解调，得到所述待分析光谱对应的所述y1的轮廓分布。
优选地，所述S5中，通过如下方式判断
Figure BDA0003069484070000036
是否出错：当R(y)＞2π(M(y)+1)/Δk成立时，判断结果为是；当R(y)＞2π(M(y)+1)/Δk不成立时，判断结果为否。
进一步地，所述S5中，通过如下方式对R(y)进行修正：R(y)＝R(y)-2π/(Kc1-Kc2)。
一种线轮廓成像装置，用于实现上述线轮廓成像装置的解调方法，其特征在于：包括线形光发生装置、光接收装置、分光片、反射镜，信号处理装置，所述线形光发生装置产生的线形光为低相干光，所述分光片设置于所述线形光发生装置与所述反射镜之间，所述反射镜的反射面垂直于所述线形光发生装置的光轴，所述分光片能够使入射光部分反射、部分透射，所述光接收装置用于接收由所述线形光发生装置射出的光线；所述信号处理装置与所述光接收装置通信连接，所述信号处理装置通过所述解调方法对所述光接收装置的信号进行解调。
优选地，所述线形光发生装置包括低相干光源、准直透镜、柱状透镜，所述低相干光源、准直透镜、柱状透镜沿所述线形光发生装置的光轴依次排列。
优选地，所述光接收装置包括柱状透镜、光谱仪。优选地，所述信号处理装置根据所述光接收装置所采集的信息返回表面轮廓数据。
本发明具有以下有益效果：本发明所提出的线轮廓成像装置的解调方法，非卷绕范围为几十微米，远大于现有技术的微米及亚微米的非卷绕范围，因此抗噪能力较强；同时，FFT的频率分辨率为非卷绕范围2π/(Kc1-Kc2)的二分之一，容易判断去卷绕是否出错。本发明所提出的线轮廓成像装置，能够防止被测物品对成像造成遮挡；使用相对较窄的低相干光源产生线形光，实现毫米数量级的大范围、纳米级的高分辨率测量及成像，实施成本较低。
附图说明
图1为一种线轮廓成像装置的整体结构图。
图2为需要测量的线轮廓分布。
图3为线轮廓中一点的干涉光谱。
图4为线轮廓中一点的幅度谱。
图5为解调过程中部分变量的计算结果。
图6为计算得到的线轮廓分布。
图中：1为光线发生装置，101为低相干光源，102为准直透镜，103为柱状透镜，2为光接收装置，201为柱状透镜，202为光谱仪，3为分光片，4为反射镜，5为被测物品，6为信号处理装置。
具体实施方式
下面，结合附图具体实施方式，对本发明作进一步描述。
需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下所描述的各个实施例之间或各个技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
一种线轮廓成像装置的解调方法，包括以下步骤：
S1：被测样品上线形光斑的各点坐标为y1，光谱仪获取干涉图像I(y；K)，所述干涉图像的横坐标表示波数，纵坐标为y，y和y1一一对应，所述干涉图像的一行即为所述被测样品上所述线形光斑一点的干涉光谱；对所述干涉图像I(y；K)每一行的所述干涉光谱单独处理；
S2：选取所述干涉图像I(y；K)某一行的所述干涉光谱作为待分析光谱，对所述待分析光谱依次进行滤波、消除直流分量、强度归一化、傅里叶变换，得到所述待分析光谱的幅度谱，获取所述幅度谱的极大值点横坐标序数M(y)；
S3：将所述待分析光谱均分为左右两个分光谱，计算两个所述分光谱的相位θ1(y)和θ2(y)；
S4：通过下式计算所述待分析光谱的线轮廓分布R(y)：
Figure BDA0003069484070000041
其中，Kc1、Kc2分别为两个所述分光谱的中心波数，
Figure BDA0003069484070000042
为对
Figure BDA0003069484070000043
进行四舍五入取整运算，A(y)通过下式计算：
Figure BDA0003069484070000044
S5：判断
Figure BDA0003069484070000045
是否出错，若是，则对R(y)进行修正；若否，则完成解调，得到所述待分析光谱对应的所述y1的轮廓分布。
所述S5中，通过如下方式判断
Figure BDA0003069484070000051
是否出错：当R(y)＞2π(M(y)+1)/Δk成立时，判断结果为是；当R(y)＞2π(M(y)+1)/Δk不成立时，判断结果为否。
所述S5中，通过如下方式对R(y)进行修正：R(y)＝R(y)-2π/(Kc1-Kc2)。
下面，以分析图2的线轮廓分布为例，对方法进行说明。
图2为需要测量的线轮廓分布，其高度线性增加。通过光谱仪获取图2的线轮廓分布的干涉图像，干涉图像的一行表示被测物品上一点的干涉光谱。以被测物品上某一点的干涉光谱，即干涉图像的第y0行为例，进行轮廓计算的说明。
图3表示经过幅度归一化的干涉光谱。
对该干涉光谱进行傅里叶变换(FFT)后，获得的幅度谱如图4所示。求出图4中极大值点对应的横坐标，作为极大值点横坐标序数M(y0)。
随后，将该干涉光谱均分成左右两分光谱，对两分光谱分别进行傅里叶变化，得到两分光谱的相位θ1(y0)和θ2(y0)。
随后，获取两分光谱的中心波数分别为KC1和KC2，通过下式计算A(y0)：
Figure BDA0003069484070000052
对干涉光谱图像的各行进行同样的计算，得到各行的M(y)和A(y)，得到的A(y)如图5中最下侧折线所示。
A(y)的卷绕间隔为2π/(Kc1-Kc2)，FFT的频率分辨率为2π/Δk，Δk为光谱仪所对应的波数宽度，Δk等于2(Kc1-Kc2)，因而FFT的频率分辨率正好为A(y)卷绕间隔的一半。因此，当M(y)每增加2，则产生一次卷绕。
由M(y)确定A(y)的卷绕次数，通过下式得到表面轮廓分布R(y)：
Figure BDA0003069484070000053
得到的R(y)如图5中粗线所示。
随后对R(y)进行修正，当R(y)＞2π(M(y)+1)/Δk时，使R(y)＝R(y)-2π/(Kc1-Kc2)。经过修正后的R(y)如图6中圆圈线所示，实线表示待测量的线轮廓，可见两者吻合。
A(y)的卷绕间隔为2π/(Kc1-Kc2)，即非卷绕范围为2π/(Kc1-Kc2)，为几十微米，非卷绕范围远大于现有技术的亚微米的非卷绕范围，因此抗噪能力较强。同时，FFT的频率分辨率为非卷绕范围2π/(Kc1-Kc2)的二分之一，容易判断去卷绕是否出错。
假定光源中心波长为840nm，带宽为32纳米，现有的去卷绕方法的非卷绕范围为0.42微米。使用本发明提出的解调方法，A(y)的非卷绕范围为22微米。非卷绕范围大大提高。
下面对实现上述解调方法的线轮廓成像装置进行说明。
如图1所示，一种线轮廓成像装置，包括线形光发生装置1、光接收装置2、分光片3、反射镜4，信号处理装置6，所述线形光发生装置1产生的线形光为低相干光，所述分光片3设置于所述线形光发生装置1与所述反射镜4之间，所述反射镜4的反射面垂直于所述线形光发生装置1的光轴，所述分光片3能够使入射光部分反射、部分透射，所述光接收装置2用于接收由所述线形光发生装置1射出的光线；所述信号处理装置6与所述光接收装置2通信连接，所述信号处理装置6通过所述解调方法对所述光接收装置2的信号进行解调，返回表面轮廓数据。
线形光发生装置1产生线形光，线形光在分光片3的作用下部分透射为参考光、部分反射为样品光。参考光照射至反射镜4，参考光被反射镜4沿入射光路反射，并经分光片3的反射，入射至光接收装置2；样品光照射至被测物品5，在被测物品表面形成线形光斑，并被被测物品5反射，被测物品5反射的样品光经分光片3的透射，入射至光接收装置2，从而使得样品光和参考光在光接收装置上形成干涉图像，以便通过干涉图像进一步分析被测物品5的轮廓位置。由于样品光接近垂直照射到样品表面，因此可以防止被测物品局部凸起或凹陷对成像造成遮挡。
优选地，所述线形光发生装置1包括低相干光源101、准直透镜102、柱状透镜103，所述低相干光源101、准直透镜102、柱状透镜103沿所述线形光发生装置1的光轴依次排列。低相干光源101产生的光经准直透镜102转换为准直光线，准直光线进一步被柱状透镜103折射为线形光线。
优选地，所述光接收装置2包括柱状透镜201、光谱仪202。柱状透镜201将线形光变为平行光，样品光和参考光在光谱仪202上形成干涉光谱图像。
本发明所提出的线轮廓成像装置，由于样品光接近垂直照射到样品表面，能够防止被测物品局部凸起或凹陷对成像造成遮挡；使用相对较窄的低相干光源产生线形光，实现毫米级大范围、纳米级高分辨率测量及成像，实施成本较低。
以上技术特征构成了本发明的较佳实施例，其具有较强的适应性和实施效果，可根据实际需要增减非必要技术特征，来满足不同情况的需要。
最后应当说明的是，以上内容仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保护范围的限制，本领域的普通技术人员对本发明的技术方案进行的简单修改或者等同替换，均不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (7)

1.一种线轮廓成像装置的解调方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1：被测样品上线形光斑的各点坐标为y1，光谱仪获取干涉图像I(y；K)，所述干涉图像的横坐标表示波数，纵坐标为y，y和y1一一对应，所述干涉图像的一行即为所述被测样品上所述线形光斑一点的干涉光谱；对所述干涉图像I(y；K)每一行的所述干涉光谱单独处理；
S2：选取所述干涉图像I(y；K)某一行的所述干涉光谱作为待分析光谱，对所述待分析光谱依次进行滤波、消除直流分量、强度归一化、傅里叶变换，得到所述待分析光谱的幅度谱，获取所述幅度谱的极大值点横坐标序数M(y)；
S3：将所述待分析光谱均分为左右两个分光谱，计算两个所述分光谱的相位θ1(y)和θ2(y)；
S4：通过下式计算所述待分析光谱的线轮廓分布R(y)：
Figure FDA0003069484060000011
其中，Kc1、Kc2分别为两个所述分光谱的中心波数，
Figure FDA0003069484060000012
为对
Figure FDA0003069484060000013
进行四舍五入取整运算，A(y)通过下式计算：
Figure FDA0003069484060000014
S5：判断
Figure FDA0003069484060000015
是否出错，若是，则对R(y)进行修正；若否，则完成解调，得到所述待分析光谱对应的所述y1的轮廓分布。
2.如权利要求1所述的一种线轮廓成像装置的解调方法，其特征在于：所述S5中，通过如下方式判断
Figure FDA0003069484060000016
是否出错：当R(y)＞2π(M(y)+1)/Δk成立时，判断结果为是；当R(y)＞2π(M(y)+1)/Δk不成立时，判断结果为否。
3.如权利要求2所述的一种线轮廓成像装置的解调方法，其特征在于：所述S5中，通过如下方式对R(y)进行修正：R(y)＝R(y)-2π/(Kc1-Kc2)。
4.一种线轮廓成像装置，用于实现权利要求1所述的线轮廓成像装置的解调方法，其特征在于：包括线形光发生装置、光接收装置、分光片、反射镜，信号处理装置，所述线形光发生装置产生的线形光为低相干光，所述分光片设置于所述线形光发生装置与所述反射镜之间，所述反射镜的反射面垂直于所述线形光发生装置的光轴，所述分光片能够使入射光部分反射、部分透射，所述光接收装置用于接收由所述线形光发生装置射出的光线；所述信号处理装置与所述光接收装置通信连接，所述信号处理装置通过所述解调方法对所述光接收装置的信号进行解调。
5.如权利要求4所述的一种线轮廓成像装置，其特征在于：所述线形光发生装置包括低相干光源、准直透镜、柱状透镜，所述低相干光源、准直透镜、柱状透镜沿所述线形光发生装置的光轴依次排列。
6.如权利要求4所述的一种线轮廓成像装置，其特征在于：所述光接收装置包括柱状透镜、光谱仪。
7.如权利要求4所述的一种线轮廓成像装置，其特征在于：所述信号处理装置根据所述光接收装置所采集的信息返回表面轮廓数据。
CN202110535064.1A 2021-05-17 2021-05-17 一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置 Active CN113251945B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110535064.1A CN113251945B (zh) 2021-05-17 2021-05-17 一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110535064.1A CN113251945B (zh) 2021-05-17 2021-05-17 一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113251945A true CN113251945A (zh) 2021-08-13
CN113251945B CN113251945B (zh) 2022-07-12

Family

ID=77182263

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110535064.1A Active CN113251945B (zh) 2021-05-17 2021-05-17 一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113251945B (zh)

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4645349A (en) * 1984-09-21 1987-02-24 O R C Manufacturing Co., Ltd. Method of measuring film thickness
JPH10221032A (ja) * 1997-02-06 1998-08-21 Fuji Xerox Co Ltd 干渉計測方法および干渉計測装置
US6028670A (en) * 1998-01-19 2000-02-22 Zygo Corporation Interferometric methods and systems using low coherence illumination
CN103148785A (zh) * 2013-01-10 2013-06-12 广东工业大学 一种光学干涉谱域相位对照b扫描仪及其测量方法
WO2015129696A1 (ja) * 2014-02-26 2015-09-03 株式会社トプコン 干渉計の較正方法及びこの較正方法を用いた干渉計
WO2016016289A1 (fr) * 2014-07-30 2016-02-04 Fogale Nanotech Procede d'extraction de motifs non periodiques masques par des motifs periodiques, et dispositif mettant en oeuvre le procede
CN105675546A (zh) * 2016-03-15 2016-06-15 东北大学 折射率断层重建装置及其方法
CN105890538A (zh) * 2014-12-30 2016-08-24 广东工业大学 三表面干涉式高精度曲面轮廓测量系统及方法
CN108634928A (zh) * 2018-04-23 2018-10-12 东北大学秦皇岛分校 一种角膜测量方法及系统
CN109297595A (zh) * 2018-09-04 2019-02-01 东北大学秦皇岛分校 一种光学相干层析相位解卷绕的方法及装置
CN109297434A (zh) * 2018-12-03 2019-02-01 福州大学 基于光学相干层析的全深式曲面轮廓测量装置及控制方法
CN109520429A (zh) * 2018-11-26 2019-03-26 重庆大学 白光干涉型光纤法珀传感器的少光谱采样点高速测量系统及方法
CN110123297A (zh) * 2019-04-04 2019-08-16 平安科技（深圳）有限公司 心率测量方法、装置、计算机设备及存储介质
CN110361099A (zh) * 2019-07-17 2019-10-22 东北大学 一种谱域低相干光干涉光程差解调方法
CN112597947A (zh) * 2020-12-29 2021-04-02 电子科技大学 一种基于傅里叶域光学相干层析成像技术的色散补偿方法

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4645349A (en) * 1984-09-21 1987-02-24 O R C Manufacturing Co., Ltd. Method of measuring film thickness
JPH10221032A (ja) * 1997-02-06 1998-08-21 Fuji Xerox Co Ltd 干渉計測方法および干渉計測装置
US6028670A (en) * 1998-01-19 2000-02-22 Zygo Corporation Interferometric methods and systems using low coherence illumination
CN103148785A (zh) * 2013-01-10 2013-06-12 广东工业大学 一种光学干涉谱域相位对照b扫描仪及其测量方法
WO2015129696A1 (ja) * 2014-02-26 2015-09-03 株式会社トプコン 干渉計の較正方法及びこの較正方法を用いた干渉計
WO2016016289A1 (fr) * 2014-07-30 2016-02-04 Fogale Nanotech Procede d'extraction de motifs non periodiques masques par des motifs periodiques, et dispositif mettant en oeuvre le procede
CN105890538A (zh) * 2014-12-30 2016-08-24 广东工业大学 三表面干涉式高精度曲面轮廓测量系统及方法
CN105675546A (zh) * 2016-03-15 2016-06-15 东北大学 折射率断层重建装置及其方法
CN108634928A (zh) * 2018-04-23 2018-10-12 东北大学秦皇岛分校 一种角膜测量方法及系统
CN109297595A (zh) * 2018-09-04 2019-02-01 东北大学秦皇岛分校 一种光学相干层析相位解卷绕的方法及装置
CN109520429A (zh) * 2018-11-26 2019-03-26 重庆大学 白光干涉型光纤法珀传感器的少光谱采样点高速测量系统及方法
CN109297434A (zh) * 2018-12-03 2019-02-01 福州大学 基于光学相干层析的全深式曲面轮廓测量装置及控制方法
CN110123297A (zh) * 2019-04-04 2019-08-16 平安科技（深圳）有限公司 心率测量方法、装置、计算机设备及存储介质
CN110361099A (zh) * 2019-07-17 2019-10-22 东北大学 一种谱域低相干光干涉光程差解调方法
CN112597947A (zh) * 2020-12-29 2021-04-02 电子科技大学 一种基于傅里叶域光学相干层析成像技术的色散补偿方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LIDA ZHU等: "Spectral domain optical coherence tomography with sub-micrometer sensitivity for measurement of central corneal thickness", 《CHINESE OPTICS LETTERS》 *
ZHICHENG JIAO等: "Extensive-dynamic-range and high-resolution surface profiling with phase-sensitive spectral-domain white-light interferometry", 《APPLIED OPTICS》 *
冯亮: "基于低相干光干涉的视轴参数测量系统研制", 《中国优秀硕士学位论文全文数据库（工程科技II辑）》 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN113251945B (zh) 2022-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8565499B2 (en) Methods, systems, and computer readable media for synthetic wavelength-based phase unwrapping in optical coherence tomography and spectral domain phase microscopy
CN101509828B (zh) 差动共焦-低相干干涉组合折射率及厚度测量方法与装置
CN103115585B (zh) 基于受激辐射的荧光干涉显微测量方法与装置
CN106691394B (zh) 一种基于光程编码的高分辨长焦深oct成像系统和方法
CN110361099B (zh) 一种谱域低相干光干涉光程差解调方法
KR101001853B1 (ko) 병렬 3차원 공초점 표면형상 측정기 및 이를 이용한 표면형상 측정방법
CN104204775A (zh) 光学相干层析成像设备以及光学相干层析成像方法
Hart et al. Fast surface profiling by spectral analysis of white-light interferograms with Fourier transform spectroscopy
Pikálek et al. Detection techniques in low-coherence interferometry and their impact on overall measurement accuracy
CN113639661B (zh) 形貌检测系统及形貌检测方法
CN113251945B (zh) 一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置
Marbach et al. Wide-field parallel mapping of local spectral and topographic information with white light interference microscopy
CN109297595A (zh) 一种光学相干层析相位解卷绕的方法及装置
Depiereux et al. Fiber-optical sensor with miniaturized probe head and nanometer accuracy based on spatially modulated low-coherence interferogram analysis
CN112684462A (zh) 一种放大型面阵扫频测量装置和方法
CN104567676B (zh) 双边拟合差动共焦测量方法
Zhu et al. Single-shot two-dimensional surface measurement based on spectrally resolved white-light interferometry
KR102570084B1 (ko) 3차원 반사도 곡면을 이용한 두께 측정 방법
CN113654482A (zh) 一种基于色差和谱域干涉的光学3d成像装置及方法
CN115682961A (zh) 基于光学相干层析的自润滑轴承涂层厚度检测系统及方法
CN110243760B (zh) 线域频域光学相干层析系统及其纵向坐标标定方法
CN210294038U (zh) 线域频域光学相干层析检测及纵向坐标标定装置
CN112711029A (zh) 一种面阵扫频测量装置和方法
CN112711030A (zh) 一种显微镜面阵扫频测量装置和方法
Czajkowski et al. Sub-micron resolution high-speed spectral domain optical coherence tomography in quality inspection for printed electronics

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant