CN113225889A - 一种用于表面涂层去除的等离子体源结构 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，包括：等离子体发生器和导向刀片，所述等离子体发生器产生等离子体束流，所述等离子体束流与基底材料呈左高右低的夹角状设置，所述等离子体发生器上部具有上薄层气体发生器，所述上薄层气体发生器产生上薄层反应气体，所述上薄层反应气体与基底材料所在平面呈左高右低的夹角状设置，所述导向刀片位于等离子体发生器下方，所述导向刀片产生下薄层反应气体，所述下薄层反应气体与基底材料所在平面呈左高右低的夹角状设置，所述上薄层反应气体、等离子体束流和下薄层反应气体相交处作用于基底材料与涂层的结合处，造成破坏涂层与基底材料结合，达到将涂层从基底材料表面去除的效果。

Description

一种用于表面涂层去除的等离子体源结构

技术领域

本发明属于材料表面涂层清除领域，尤其涉及一种用于表面涂层去除的等离子体源结构。

背景技术

涂层是一种能牢固覆盖在物体表面，起保护、装饰、标志和其他特殊用途的化学混合物涂料。针对不同的适用环境和目的，油漆或涂层在社会上、乃至军事上均有广泛的应用。但涂层材料长期服役在空气中或是复杂工况环境中（如腐蚀性极强的空气环境、高温环境等），在经一定的服役时间之后，会引起才涂层的脱落和失效，必须更换才能确保其性能。当前的除涂层方法主要有喷砂、研磨、塑料介质喷砂，激光烧蚀，紫外线快速烧蚀、水射流、冷冻的CO2颗粒等。这些方法要么对环境造成污染，无法满足绿色环保的需要，要么在去除的过程中，无法确保基底材料不受损害，均存在一定的不足，在不同去除涂层领域的应用上，日渐凸显了相应的局限性。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，解决上述现有技术中表面涂层去除过程造成环境污染以及易造成基材损坏的技术问题。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，包括：等离子体发生器和导向刀片，所述等离子体发生器产生等离子体束流，所述等离子体束流与基底材料呈左高右低的夹角状设置，所述等离子体发生器上部具有上薄层气体发生器，所述上薄层气体发生器产生上薄层反应气体，所述上薄层反应气体与基底材料所在平面呈左高右低的夹角状设置，所述导向刀片位于等离子体发生器下方，所述导向刀片产生下薄层反应气体，所述下薄层反应气体与基底材料所在平面呈左高右低的夹角状设置，所述上薄层反应气体、等离子体束流和下薄层反应气体相交处作用于基底材料与涂层的结合处，造成破坏涂层与基底材料结合，达到将涂层从基底材料表面去除的效果。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述等离子体发生器具有主壳体，所述主壳体呈水平放置的中空筒状结构，所述主壳体左端具有同轴线缆，所述同轴线缆通过锁紧帽与主壳体连接，所述同轴线缆具有高压极和接地极，所述高压极和接地极通过绝缘层隔离，所述高压极的右端设置有电极，所述主壳体右端具有放电室，所述电极伸入放电室中，所述主壳体外侧具有进气管，所述进气管将反应气体引入放电室中与电极发生反应产生等离子体束流，所述主壳体外侧具有接地保护线安装座，所述接地保护线安装座内设置有接地锁紧螺钉。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述主壳体与电极之间设置有旋流套，所述旋流套呈中空的筒状结构，所述旋流套轴线处具有供电极安装的电极安装孔，所述旋流套外圆柱面具有3组螺旋结构的导流槽，所述导流槽右端与放电室连通，所述导流槽左端具有分配槽，所述分配槽与进气管连通，所述主壳体右端面具有喷嘴连接孔，所述喷嘴连接孔处连接有喷嘴。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述放电室外侧的主壳体上部设置有散热片，所述放电室外侧的主壳体下部具有若干散热槽。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述上薄层气体发生器包括：进气盒主体，所述进气盒主体中部具有储气室，所述储气室一端具有气体入口，所述气体入口与上进气管连通，所述储气室另一端与上喷口连通，所述上喷口供上薄层反应气体喷出。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述进气盒主体右端面具有遮挡板，所述遮挡板通过遮挡板连接螺钉与进气盒主体连接，所述遮挡板下方延伸至等离子体发生器的出口前方。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述导向刀片长度方向中部具有气体通道，所述气体通道供下薄层反应气体通过，所述气体通道通过下气体入口与下进气管连通，所述导向刀片末端底部具有刀片底部，所述刀片底部所在平面与气体通道呈夹角状结构，所述导向刀片末端具有刀片端口，所述刀片底部所在平面与基底材料表面贴合，所述导向刀片末端具有下薄层反应气体喷出的下喷口，所述下喷口与气体通道连通，所述刀片端口靠近基底材料与涂层的结合处。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述导向刀片右端顶部具有铰链，所述铰链处具有转轴连接孔，所述等离子体发生器与转轴连接孔位置对应处具有铰接安装座，所述转轴连接孔和铰接安装座配合后通过铰接轴实现铰接，所述导向刀片左端顶部具有锁紧支架，所述等离子体发生器与锁紧支架位置对应处具有调节杆安装座，所述调节杆安装座处通过固定轴连接有锁紧杆，所述锁紧杆上套装有两个锁紧螺母，所述锁紧螺母用于锁紧并调节锁紧支架的相对位置，达到调节导向刀片与等离子体发生器之间的安装夹角。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述上薄层气体发生器左侧面具有滑槽，所述滑槽内装配有导轨，所述导轨使若干等离子体发生器实现串联形成工作组，所述导轨上穿设有若干导轨锁紧螺钉，所述导轨锁紧螺钉使导轨与上薄层气体发生器锁紧。

本发明的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，所述等离子体发生器底部具有连接杆安装座，所述等离子体发生器形成工作组时连接杆安装座内穿设有连接杆，所述连接杆两端设置有连接杆锁紧螺钉，所述连接杆锁紧螺钉锁紧等离子体发生器形成的工作组。

本发明产生的有益效果是：

1、通过上薄层反应气体、等离子体束流和下薄层反应气体的协同增强腐蚀效应，增强涂层和基底材料的等离子体腐蚀作用，加速破裂结合层，从而实现快速去除表面涂层，节约处理时间。

2、调整导向刀片的角度，可以引导等离子体束流寻找到最佳作用角度，以适应不同涂层与基底材料的结合性质，更好的引导等离子体束流作用于结合处，加速破裂结合层。

3、采用阵列组合，能满足不同场合、不同类型，如平面或曲面的表面涂层去除，适应性更强。

4、可以根据不同的处理场合，针对不同的涂层性质、不同的基底材料以及不同的基底材料表面要求，选择替换更适合、不破坏基底材料表面的金属、非金属或复合材料作为导向刀片材料。能有效去除涂层的同时而不破坏基底材料表面。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：

图1是本发明实施例的示意图；

图2是本发明实施例的工作组示意图；

图3是本发明实施例的剖面图；

图4是本发明实施例的等离子体发生器剖面图；

图5是本发明实施例的导向刀片剖面图；

图6是本发明实施例的旋流套局部示图；

图7是图3中A处局部放大图；

图8是图4中B处局部放大图；

图9是本发明实施例的散热片处局部示图；

图10是图5中C处局部放大图；

图11是本发明实施例的上薄层气体发生器剖面图；

图12是本发明实施例的上喷口局部示图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1-12所示，一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，包括：等离子体发生器2和导向刀片9，所述等离子体发生器2产生等离子体束流8，所述等离子体束流8与基底材料6呈左高右低的夹角状设置，所述等离子体发生器2上部具有上薄层气体发生器，所述上薄层气体发生器产生上薄层反应气体11，所述上薄层反应气体11与基底材料6所在平面呈左高右低的夹角状设置，所述导向刀片9位于等离子体发生器2下方，所述导向刀片9产生下薄层反应气体12，所述下薄层反应气体12与基底材料6所在平面呈左高右低的夹角状设置，所述上薄层反应气体11、等离子体束流8和下薄层反应气体12相交处作用于基底材料6与涂层5的结合处7，造成破坏涂层5与基底材料6结合，达到将涂层5从基底材料6表面去除的效果。

本发明的优选实施例中，所述等离子体发生器2具有主壳体，所述主壳体呈水平放置的中空筒状结构，所述主壳体左端具有同轴线缆210，所述同轴线缆210通过锁紧帽221与主壳体连接，所述同轴线缆210具有高压极213和接地极211，所述高压极213和接地极211通过绝缘层212隔离，所述高压极213的右端设置有电极260，所述主壳体右端具有放电室227，所述电极260伸入放电室227中，所述主壳体外侧具有进气管222，所述进气管222将反应气体引入放电室227中与电极260发生反应产生等离子体束流8，所述主壳体外侧具有接地保护线安装座235，所述接地保护线安装座235内设置有接地锁紧螺钉270。

本发明的优选实施例中，所述主壳体与电极260之间设置有旋流套240，所述旋流套240呈中空的筒状结构，所述旋流套240轴线处具有供电极260安装的电极安装孔243，所述旋流套240外圆柱面具有3组螺旋结构的导流槽242，所述导流槽242右端与放电室227连通，所述导流槽242左端具有分配槽241，所述分配槽241与进气管222连通，所述主壳体右端面具有喷嘴连接孔239，所述喷嘴连接孔239处连接有喷嘴250。

本发明的优选实施例中，所述放电室227外侧的主壳体上部设置有散热片231，所述放电室227外侧的主壳体下部具有若干散热槽232。

本发明的优选实施例中，所述上薄层气体发生器包括：进气盒主体307，所述进气盒主体307中部具有储气室306，所述储气室306一端具有气体入口303，所述气体入口303与上进气管301连通，所述储气室306另一端与上喷口305连通，所述上喷口305供上薄层反应气体11喷出。

本发明的优选实施例中，所述进气盒主体307右端面具有遮挡板4，所述遮挡板4通过遮挡板连接螺钉与进气盒主体307连接，所述遮挡板4下方延伸至等离子体发生器2的出口前方。

本发明的优选实施例中，所述导向刀片9长度方向中部具有气体通道904，所述气体通道904供下薄层反应气体12通过，所述气体通道904通过下气体入口911与下进气管908连通，所述导向刀片9末端底部具有刀片底部909，所述刀片底部909所在平面与气体通道904呈夹角状结构，所述导向刀片9末端具有刀片端口901，所述刀片底部909所在平面与基底材料6表面贴合，所述导向刀片9末端具有下薄层反应气体12喷出的下喷口902，所述下喷口902与气体通道904连通，所述刀片端口901靠近基底材料6与涂层5的结合处7。

本发明的优选实施例中，所述导向刀片9右端顶部具有铰链905，所述铰链905处具有转轴连接孔910，所述等离子体发生器2与转轴连接孔910位置对应处具有铰接安装座233，所述转轴连接孔910和铰接安装座233配合后通过铰接轴实现铰接，所述导向刀片9左端顶部具有锁紧支架906，所述等离子体发生器2与锁紧支架906位置对应处具有调节杆安装座238，所述调节杆安装座238处通过固定轴17连接有锁紧杆236，所述锁紧杆236上套装有两个锁紧螺母237，所述锁紧螺母237用于锁紧并调节锁紧支架906的相对位置，达到调节导向刀片9与等离子体发生器2之间的安装夹角。

本发明的优选实施例中，所述上薄层气体发生器左侧面具有滑槽，所述滑槽内装配有导轨1，所述导轨1使若干等离子体发生器2实现串联形成工作组，所述导轨1上穿设有若干导轨锁紧螺钉309，所述导轨锁紧螺钉309使导轨1与上薄层气体发生器锁紧。

本发明的优选实施例中，所述等离子体发生器2底部具有连接杆安装座234，所述等离子体发生器2形成工作组时连接杆安装座234内穿设有连接杆10，所述连接杆10两端设置有连接杆锁紧螺钉15，所述连接杆锁紧螺钉15锁紧等离子体发生器2形成的工作组。

其中：等离子体发生器2的反应气体来自外部储气罐，并通过进气管222连接至进气接头224，进气接头224将反应气体导入气路转接块226，最后通过进气口230输送至旋流套240，旋流套240既可以固定电极260，又能通过外圆柱面设置的

分配槽241将反应气体分配至旋流套240外圆柱面的3组螺旋结构导流槽242中，使得反应气体进入放电室227时可产生涡流。电极260放电时将反应气体离化转化成等离子体，等离子体沿喷嘴250喷出，形成等离子体束流8，喷嘴250与主体采用螺纹结构连接，在长期使用过程中，喷嘴250会受到等离子体的不断刻蚀，而影响等离子体的稳定性，这样便于喷嘴250的更换。同时在涡流的作用下降低了放电室227边界层等离子体的复合机会，提高了等离子的密度及稳定性。同轴线揽揽210的绝缘层212固定于支撑套225内，有助于高压极213更好的嵌入电极260中，可实现电极260与外部等离子体电源之间的连通，同轴线揽210的接地极211安装于安装间隙223中，并通过压紧弹片280压紧，压紧弹片280采用蝶形弹簧，数量为2至4件。锁紧帽221通过压紧套290将力传至压紧弹片280，压紧弹片280受预紧力后，会产生形变，产生反向弹力，能将接地极211可靠压紧，保证良好的电接触，同时也能将旋流套240和电极260等可靠锁紧，该结构连接可靠，且易于更换。同轴线揽210通过电缆接头220固定于锁紧帽221上，电缆接头220可将同轴线揽210牢牢锁紧，避免了在使用过程中发生意外脱落，而造成操作人员触电事故。

等离子体发生器2前端上部设置有散热片231，散热片231由5片组成，与等离子体发生器2一体加工而成，并密封在进气盒3内， 进气盒3内通入反应气体时，可冷却散热片231；等离子体发生器2前端下部设置有散热槽232，与环境空气自然对流散热。散热片231和散热槽232相结合能有效带走电极260放电时放电室227内的热量，可防止放电室227发生过热现象而烧蚀电极260，提高了放电稳定性及其使用寿命。

等离子体发生器2下部分别设置有铰链安装座233、连接杆安装座234、接地保护线安装座235和调节杆安装座238。

铰链安装座233通过转轴16与导向刀片9的铰链 905连接，铰链 905在转轴16上可灵活转动；调节杆安装座238通过固定轴17与调节杆236连接，调节杆236在固定轴17上可灵活转动；铰链905和锁紧支架906与等离子体发生器2配合，并由锁紧螺母237锁紧并固定角度，可实现角度±5°范围内连续可调，可以引导等离子体束流8寻找到最佳作用角度，能更好的引导等离子体束流8作用于涂层5与基底材料6的结合处7，加速破裂结合层。

等离子体发生器2可通过锁紧螺钉309固定在导轨1，导轨1再通过导轨连接螺钉14将等离子体源整体安装于表面涂层去除装置上；连接杆10通过连接杆安装座234与等离子体发生器2连接，起辅助连接、增加连接强度作用。导轨1和连接杆10可实现等等离子体源2-5个阵列组合，处理宽度达30-75mm，单个等离子体源处理宽度为15mm，能满足不同场合、不同类型平面、曲面的表面涂层去除。

导向刀片9的反应气体来自外部储气罐，并通过下进气管908连接至下进气接头907，下进气接头907将反应气体导入下气体入口911，沿内部设置的反应气体通道904，将反应气体输送至下储气室903，再由下储气室903分配至形状为矩形的下喷口902。

导向刀片9底部909可紧贴基底材料6表面，起辅助支撑作用及等离子体处理后的清除残余涂层5。导向刀片9可根据不同的处理场合，针对不同的涂层5性质、不同的基底材料6以及不同的基底材料6表面要求，选择替换更适合、不破坏基底材料6表面的金属、非金属或复合材料作为导向刀片9材料。

进气盒3的反应气体来自外部储气罐，并通过上进气管301下上进气管301下下上进气管301连接至上进气接头302，上进气接头302将反应气体沿气体入口303导入储气室306，再由储气室306分配至形状为矩形的上喷口305，该过程中反应气体可对散热片231进行冷却；进气盒3通过连接螺孔304将遮挡板4安装于前端。遮挡板4可阻挡处理后散落的涂层5对等离子体束流8造成影响。进气盒3后端设置有导轨1安装滑槽308。

导向刀片9设置有形状为矩形的下喷口902，进气盒3设置有形状为矩形的上喷口305，上、下喷口可喷出均匀的薄层反应气体11和12。同时结合调整导向刀片9的角度，可以引导等离子体束流8寻找到最佳作用角度，与等离子体束流8形成协同增强腐蚀效应，加速破裂结合层。

通过调整导向刀片9与等离子体束流8的之间的角度，可实现针对较厚的涂层5，采用等离子体破坏涂层5与基底材料6的结合，达到去除涂层的目的；针对较薄的涂层5，采用等离子体直接作用于涂层表面，达到去除涂层的目的。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

应当理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，而所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，包括：等离子体发生器（2）和导向刀片（9），所述等离子体发生器（2）产生等离子体束流（8），所述等离子体束流（8）与基底材料（6）呈左高右低的夹角状设置，所述等离子体发生器（2）上部具有上薄层气体发生器，所述上薄层气体发生器产生上薄层反应气体（11），所述上薄层反应气体（11）与基底材料（6）所在平面呈左高右低的夹角状设置，所述导向刀片（9）位于等离子体发生器（2）下方，所述导向刀片（9）产生下薄层反应气体（12），所述下薄层反应气体（12）与基底材料（6）所在平面呈左高右低的夹角状设置，所述上薄层反应气体（11）、等离子体束流（8）和下薄层反应气体（12）相交处作用于基底材料（6）与涂层（5）的结合处（7），造成破坏涂层（5）与基底材料（6）结合，达到将涂层（5）从基底材料（6）表面去除的效果。

2.根据权利要求1所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述等离子体发生器（2）具有主壳体，所述主壳体呈水平放置的中空筒状结构，所述主壳体左端具有同轴线缆（210），所述同轴线缆（210）通过锁紧帽（221）与主壳体连接，所述同轴线缆（210）具有高压极（213）和接地极（211），所述高压极（213）和接地极（211）通过绝缘层（212）隔离，所述高压极（213）的右端设置有电极（260），所述主壳体右端具有放电室（227），所述电极（260）伸入放电室（227）中，所述主壳体外侧具有进气管（222），所述进气管（222）将反应气体引入放电室（227）中与电极（260）发生反应产生等离子体束流（8），所述主壳体外侧具有接地保护线安装座（235），所述接地保护线安装座（235）内设置有接地锁紧螺钉（270）。

3.根据权利要求2所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述主壳体与电极（260）之间设置有旋流套（240），所述旋流套（240）呈中空的筒状结构，所述旋流套（240）轴线处具有供电极（260）安装的电极安装孔（243），所述旋流套（240）外圆柱面具有3组螺旋结构的导流槽（242），所述导流槽（242）右端与放电室（227）连通，所述导流槽（242）左端具有分配槽（241），所述分配槽（241）与进气管（222）连通，所述主壳体右端面具有喷嘴连接孔（239），所述喷嘴连接孔（239）处连接有喷嘴（250）。

4.根据权利要求3所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述放电室（227）外侧的主壳体上部设置有散热片（231），所述放电室（227）外侧的主壳体下部具有若干散热槽（232）。

5.根据权利要求1所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述上薄层气体发生器包括：进气盒主体（307），所述进气盒主体（307）中部具有储气室（306），所述储气室（306）一端具有气体入口（303），所述气体入口（303）与上进气管（301）连通，所述储气室（306）另一端与上喷口（305）连通，所述上喷口（305）供上薄层反应气体（11）喷出。

6.根据权利要求5所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述进气盒主体（307）右端面具有遮挡板（4），所述遮挡板（4）通过遮挡板连接螺钉与进气盒主体（307）连接，所述遮挡板（4）下方延伸至等离子体发生器（2）的出口前方。

7.根据权利要求1所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述导向刀片（9）长度方向中部具有气体通道（904），所述气体通道（904）供下薄层反应气体（12）通过，所述气体通道（904）通过下气体入口（911）与下进气管（908）连通，所述导向刀片（9）末端底部具有刀片底部（909），所述刀片底部（909）所在平面与气体通道（904）呈夹角状结构，所述导向刀片（9）末端具有刀片端口（901），所述刀片底部（909）所在平面与基底材料（6）表面贴合，所述导向刀片（9）末端具有下薄层反应气体（12）喷出的下喷口（902），所述下喷口（902）与气体通道（904）连通，所述刀片端口（901）靠近基底材料（6）与涂层（5）的结合处（7）。

8.根据权利要求7所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述导向刀片（9）右端顶部具有铰链（905），所述铰链（905）处具有转轴连接孔（910），所述等离子体发生器（2）与转轴连接孔（910）位置对应处具有铰接安装座（233），所述转轴连接孔（910）和铰接安装座（233）配合后通过铰接轴实现铰接，所述导向刀片（9）左端顶部具有锁紧支架（906），所述等离子体发生器（2）与锁紧支架（906）位置对应处具有调节杆安装座（238），所述调节杆安装座（238）处通过固定轴（17）连接有锁紧杆（236），所述锁紧杆（236）上套装有两个锁紧螺母（237），所述锁紧螺母（237）用于锁紧并调节锁紧支架（906）的相对位置，达到调节导向刀片（9）与等离子体发生器（2）之间的安装夹角。

9.根据权利要求1所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述上薄层气体发生器左侧面具有滑槽，所述滑槽内装配有导轨（1），所述导轨（1）使若干等离子体发生器（2）实现串联形成工作组，所述导轨（1）上穿设有若干导轨锁紧螺钉（309），所述导轨锁紧螺钉（309）使导轨（1）与上薄层气体发生器锁紧。

10.根据权利要求9所述的一种用于表面涂层去除的等离子体源结构，其特征在于，所述等离子体发生器（2）底部具有连接杆安装座（234），所述等离子体发生器（2）形成工作组时连接杆安装座（234）内穿设有连接杆（10），所述连接杆（10）两端设置有连接杆锁紧螺钉（15），所述连接杆锁紧螺钉（15）锁紧等离子体发生器（2）形成的工作组。

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