CN113221499A - 掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及存储介质 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及存储介质，涉及显示技术领域。其中，掩膜版图生成方法，包括：获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息，获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数，根据生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息，根据基板信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，根据特征信息和玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元，根据基本构成单元生成目标掩膜版图。本发明实施例自动实现生成掩膜版图，提高掩膜版图的生成效率，提高设计掩膜版图的效率。

Description

掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及存储介质

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质。

背景技术

在显示技术领域，原理图的绘制、版图的绘制、技术评估，以及设计规则检查(DRC，Design Rule Check)等是显示面板设计必不可少的步骤。其中，在显示面板设计过程中，都会涉及到掩膜(mask)版图设计。

目前的掩膜版图设计需要人工来进行设计。由于显示面板的产品规格多，每个产品所涉及的掩膜较复杂，且存在差异，人工设计掩膜版图的方式需要耗费大量的人力物力，且很容易出错，导致掩膜版图设计的效率非常低。

发明内容

本发明实施例提供一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质，可自动生成掩膜版图，提高设计掩膜版图的效率。

本发明实施例提供了一种掩膜版图生成方法，包括：

获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；

获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；

根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；

根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；

根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；

根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。

本发明实施例还提供了一种柔性OLED显示面板，包括：

获取模块，用于获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；以及获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；

所述获取模块，还用于根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；

建立模块，用于根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；

确定模块，用于根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；

生成模块，用于根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。

本发明实施例还提供了一种计算机设备，所述计算机设备包括：

一个或多个处理器；存储器；以及一个或多个计算机程序，其中所述处理器和所述存储器相连接，所述一个或多个计算机程序被存储于所述存储器中，并配置为由所述处理器执行以实现上述任一项所述的掩膜版图生成方法。

本发明实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器进行加载，以执行上述任一项所述的掩膜版图生成方法。

本发明实施例提供了一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质，其中，掩膜版图生成方法，包括：获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；根据生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；根据基板信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；根据特征信息和玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。本发明实施例根据基板信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，根据待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息和所建立的玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元，再根据基本构成单元生成目标掩膜版图，如此，自动实现生成掩膜版图，提高掩膜版图的生成效率，提高设计掩膜版图的效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的掩膜版图生成方法的流程示意图；

图2是本发明实施例提供的目标掩膜版图的示意图；

图3是本发明实施例提供的掩膜版图生成方法的另一流程示意图；

图4是本发明实施例提供的掩膜版图生成方法的又一流程示意图；

图5是本发明实施例提供的目标产品的示意图；

图6是本发明实施例提供的掩膜版图生成装置的示意性框图；

图7是本发明实施例提供的计算机设备的示意性框图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。另外，“第一”、“第二”这些术语用来将多个元素彼此区分开。例如，在不脱离本发明范围的前提下，第一排布方式可以被称为第二排布方式，并且类似地，第二排布方式可以被称为第一排布方式。第一排布方式和第二排布方式均为排布方式，但它们并非同一排布方式。

在本发明中，“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本发明中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本发明，给出了以下描述。在以下描述中，为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本发明。在其它实例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本发明的描述变得晦涩。因此，本发明并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本发明所公开的原理和特征的最广范围相一致。

本发明实施例提供一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质。该掩膜版图生成方法运行于计算机设备中，该计算机设备可以服务器，也可以是终端，如手机、Pad、台式电脑等设备。以下分别对掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质进行详细说明。

图1是本发明实施例提供的一种掩膜版图生成方法的流程示意图。如图1所示，该方法包括的具体流程如下。

步骤S101，获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息。

产品包括各类显示面板、或者包括各类显示面板的产品，例如电视的显示面板、手机/Pad的显示面板、智能穿戴设备的显示面板等。本发明实施例以产品为显示面板为例进行说明。

其中，产品的特征信息包括产品的尺寸信息、以及轮廓信息(outline)或者轮廓线条信息等。如产品为电视的显示面板，则产品的特征信息对应的是电视的显示面板所对应的尺寸信息、轮廓信息或者轮廓线条信息等。需要注意的是，产品的特征信息还可以包括产品的更多信息。

在一实施例中，获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息的步骤，包括：获取待设计的目标掩膜所对应的产品的产品品牌信息、产品型号信息和/或产品版本信息；根据所述产品品牌信息、产品型号信息和/或产品版本信息获取产品的特征信息。

产品品牌信息包括显示面板的品牌信息，例如，三星、友达、索尼、群创、精工等。产品型号信息包括显示面板的型号信息，例如，0WB097，表示群创液晶玻璃面板的一个型号。产品版本信息包括显示面板的版本信息。

产品的产品品牌信息、产品型号信息或产品版本信息等可分别通过对应的产品品牌标识/产品品牌名称、产品型号标识/产品型号名称、产品版本标识/产品版本名称等来表示。产品品牌信息、以及产品型号信息和/或产品版本信息可唯一的确定一个显示面板。在其他实施例中，也可以根据其他信息来获取显示面板的特征信息，只要其他信息可唯一的确定一个显示面板就可以。

获取待设计的目标掩膜所对应的产品的产品品牌信息、产品型号信息或产品版本信息可通过多种方式进行获取。例如，在输入界面上，接收并获取用户选择/输入的产品的产品品牌信息、产品型号信息或产品版本信息；或者通过语音的方式来选择/输入产品的产品品牌信息、产品型号信息或产品版本信息，并获取对应的产品品牌信息、产品型号信息或产品版本信息；或者通过其他可行的方式来获取产品的产品品牌信息、产品型号信息或产品版本信息。

在一实施例中，在计算机设备中存在产品库，在该产品库中保存有各类显示面板的产品品牌信息、产品型号信息或产品版本信息等各种信息。用户选择/输入产品品牌信息后，可自动显示该产品品牌下对应的产品型号信息和产品版本信息等，以供用户进一步地选择/输入。

当获取到用户选择/输入的产品品牌信息、产品信号信息或者产品版本信息时，根据产品品牌信息、产品信号信息或者产品版本信息唯一地确定一种显示面板，再从产品数据库中调取该种显示面板的特征信息。

在一实施例中，将产品的产品品牌信息、产品型号信息和/或产品版本信息也作为产品特征信息的一部分，本申请实施例以该种情况为例进行说明。其中，将产品的产品品牌信息、产品型号信息和/或产品版本信息作为第一特征信息，将产品的尺寸信息、以及轮廓信息(outline)或者轮廓线条信息作为第二特征信息。

步骤S102，获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数。

生产线可用生产线标识信息和/或生产线名称等来表示。需要注意的是，该处的生产线指的是与现实生产线对应的虚拟生产线。该处的虚拟生产线可理解为模拟现实生产线，并确定该现实生产线所对应的目标掩膜版图。不同生产线所对应的生产线信息会存在不同，如生产线上的玻璃基板存在不同。具体地，如玻璃基板的尺寸大小不同等。

初始掩膜信息中包括初始掩膜模板信息，该初始掩膜模板信息中的初始掩膜模板可用初始掩膜模板标识和/或初始掩膜模板名称等来表示。初始掩膜模板中不包括图案信息，或者仅包括少量的共用的图案信息。初始掩膜模板信息还包括初始掩膜模板的模板大小尺寸(模板尺寸)等信息，还可以包括更多的其他信息。

掩膜生成参数，包括目标掩膜所对应的膜层，即该目标掩膜用于制作显示面板的哪个膜层。掩膜生成参数还可以包括其他的更多信息。如在一实施例中，掩膜生成参数还包括掩膜生成规范，该掩膜生成规范用于表示如何生成一个目标掩膜的目标图案信息。例如，假设该目标掩膜是用于制作像素定义层，则掩膜生成规范包括不同子像素所对应的开口大小、开口形状、各个开口的相对坐标、开口的倾斜度等参数。

需要注意的是，根据所生成的显示面板的膜层的不同，掩膜生成参数会存在不同，不同显示面板相同膜层所对应的掩膜生成参数也会不同。

其中，获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数可通过多种方式进行获取。例如，在输入界面上，接收用户所选择/输入的生产线信息、初始掩膜模板信息以及掩膜生成参数，并接收所选择/输入的生产线信息、初始掩膜模板信息以及掩膜生成参数。

可以理解地，在计算机设备中存在所保存的所有生产线信息、所有初始掩膜模板信息等。可根据生产线标识信息和/或生产线名称等来获取对应的生产线的具体信息，根据初始掩膜模板标识和/或初始掩膜模板名称等来获取对应的初始掩膜模板的具体信息。

步骤S103，根据生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息。

根据生产线标识和/或生产线名称，唯一地确定一条生产线。根据生产线标识和/或生产线名称获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息。其中，基板信息包括玻璃基板的尺寸大小等信息。

步骤S104，根据基板信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系。

玻璃基板坐标系可以玻璃基板的左上角为原点，向右为x轴正方向，向下为y轴正方向来确定，掩膜坐标系以初始掩膜模板的左上角为原点，向右为x轴正方向，向下为y轴正方向来确定。还可以按照其他的方式来确定。

在一实施例中，步骤S104，包括：根据初始掩膜模板信息和掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息；根据基板信息和确定了目标图案信息的初始掩膜模板信息，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，该关系包括玻璃基板与目标图案信息之间的关系。

可以理解地，初始掩膜模板中包括目标图案信息，初始掩膜模板与玻璃基板存在对应的关系，根据目标图案信息在初始掩膜模板中的信息(如坐标信息、尺寸信息等)来确定目标图案信息在玻璃基板上的坐标信息等，如此，目标图案信息也与玻璃基板存在一定的关系。

在一实施例中，掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层，对应地，上述根据初始掩膜模板信息和掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤，包括：从图案模板库中获取与膜层和特征信息匹配的目标图案模板；根据初始掩膜模板信息和目标图案模板，确定初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。

在该实施例中，产品的特征信息包括第一特征信息，即产品品牌信息、产品型号信息和/或产品版本信息；另外计算机设备中保存有图案模板库，该图案模板库中包括多种不同掩膜的图案模板。具体地，包括每个不同品牌的不同型号和/或不同版本的显示面板所对应的每个膜层的掩膜的图案模板。因此，当确定了产品的特征信息和膜层信息时，即可从图案模板库中确定一个与产品的特征信息和膜层信息匹配的图案模板，将该图案模板作为目标图案模板。

其中，具体的膜层的信息可在输入界面上进行选择/输入，可选择/输入对应的膜层标识和/或膜层名称等，获取所选择/输入的膜层标识和/或膜层名称。从图案模板库中获取与膜层标识和/或膜层名称、以及特征信息匹配的目标图案模板。其中，具体地膜层的信息还可以通过其他方式进行获取。

确定了目标图案模板后，根据目标图案模板和初始掩膜模板信息，确定初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。

该实施例中，根据计算机设备中的图案模板库和目标掩膜所对应的膜层确定目标图案模板，再根据目标图案模板确定初始掩膜模板上待生成的目标图案信息，直接根据图案模板库来确定待生成的目标图案信息，可提高所确定的目标图案信息的准确性和效率。

在一实施例中，掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层和该膜层所对应的掩膜生成规范，对应地，上述根据初始掩膜模板信息和掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤，包括：根据膜层和该膜层所对应的掩膜生成规范，生成掩膜图案信息；将掩膜图案信息确定为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。

其中，掩膜生成规范根据每个不同品牌的不同型号和/或不同版本的显示面板的每个膜层的不同而不同。例如上文中所提及的膜层为像素定义层，即该目标掩膜用于制作显示面板的像素定义层，掩膜生成规范包括不同子像素所对应的开口大小、开口形状、各个开口的相对坐标、开口的倾斜度等参数；若所述膜层为栅极层，即该目标掩膜用于制作显示面板的栅极层，掩膜生成规范包括数据线所对应的开孔大小、开孔形状、各个开孔的相对坐标等参数。在此不一一举例说明。

其中，具体的膜层的信息可在输入界面上进行选择/输入，可选择/输入对应的膜层标识和/或膜层名称等，获取所选择/输入的膜层标识和/或膜层名称，如此以得到对应的膜层。掩膜生成规范也可以在输入界面上进行选择/输入，或者也可以在输入界面上导入已经写好的掩膜生成规范，并获取所选择/输入/导入的掩膜生成规范。其中，具体的膜层的信息、掩膜生成规范等信息还可以通过其他的方式进行获取。

按照膜层所对应的掩膜生成规范，生成一个掩膜图案信息，将该掩膜图案信息确定为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。

该实施例根据掩膜和掩膜生成规范，自动生成目标图案信息。其中，可根据用户的需求确定掩膜生成规范，使得生成的目标图案信息满足用户的各种需求，尤其是实时性需求，提高生成目标掩膜版图的效率。

在一实施例中，可结合上述所述的图案模板库和掩膜生成规范两个方案来生成目标图案信息。例如，可从图案模板库中获取与膜层和特征信息匹配的目标图案模板，根据初始掩膜模板信息和目标图案模板，确定初始掩膜模板上待生成的第一目标图案信息；再根据膜层和掩膜生成规范，生成掩膜图案信息，将该掩膜图案信息确定为初始掩膜模板上待生成的第二目标图案信息；将第一目标图案信息和第二目标图案信息进行比对，以得到比对结果；当所述比对结果不相同时，将第一目标图案信息作为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息，或者将第二目标图案信息作为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。

其中，将第一目标图案信息作为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息，可理解为以图案模板库中的相匹配的目标图案模板为准，以避免根据掩膜生成规范自动生成掩膜图案信息可能会导致的误差。将第二目标图案信息作为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息，可理解为以用户当前输入/选择/导入的掩膜生成规范为准，用户当前输入/选择/导入的掩膜生成规范意味着当前最新的需求，如此可快速满足用户的需求。

在一实施例中，可在比对结果相同时，将第一目标图案信息或者第二目标图案信息作为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。可理解为只有当比对结果相同时，才认为所确定的目标图案信息是准确的或者是有意义的。

步骤S105，根据特征信息和玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元。

根据上文中所述，玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，包括玻璃基板与目标图案信息之间的关系。

在一实施例中，步骤S105，包括：识别目标图案信息中的最小重复单元，将最小重复单元作为基本构成图案；根据产品的特征信息和初始掩膜模板信息确定基本构成图案的构成尺寸；将对应构成尺寸的基本构成图案确定为待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元。

该处的特征信息包括第二特征信息，如产品的尺寸信息等。初始掩膜模板信息包括模板大小尺寸等信息。

基本构成单元指的是生成目标掩膜版图中可以重复的最小的构成单元。如对于像素定义层，基本构成单元包括一行/一列红色子像素所对应的掩膜、一行/一列绿色子像素所对应的掩膜和一行/一列蓝色子像素所对应的掩膜等。对于显示面板的其他膜层，基本构成单元所对应的具体内容不一样，但都是该目标掩膜版图中可以重复的最小的构成单元。

通过识别目标图案信息中的最小重复单元，将最小重复单元所对应的图案确定为基本构成单元中的基本构成图案。

根据产品的特征信息(包括尺寸信息)和初始掩膜模板信息确定基本构成图案的构成尺寸。在一实施例中，若初始掩膜模板信息中的模板尺寸信息不小于产品的尺寸信息，则将初始掩膜模板信息中最小重复单元所对应的尺寸信息作为基本构成图案的构成尺寸；若初始掩膜模板信息中的模板尺寸信息小于产品的尺寸信息，则将沿着最小重复单元的长度方向或者宽度方向所对应产品的尺寸信息作为构成尺寸的一个尺寸信息，将最小重复单元的另一方向(宽度方向或者长度方向)所对应的尺寸信息作为构成尺寸的另一尺寸信息，即构成尺寸由产品的尺寸信息、最小重复单元的另一方向所对应的尺寸信息组成。

确定了基本构成图案和基本构成图像所对应的构成尺寸后，将对应构成尺寸的基本构成图案确定为待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元。

需要说明的是，还可以按照其他方式来确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元。

在一实施例中，确定了基本构成单元之后，所述掩膜版图生成方法，还包括：对基本构成单元进行参数检查以得到参数检查结果，所述参数检查包括构成尺寸的检查、基本构成单元的基本构成图案的检查等等；当所述参数检查结果不符合对应的参数条件时，接收对所述基本构成单元的参数的修改，将修改后的基本构成单元作为最终的基本构成单元。

其中，对应的参数条件可预先获取，构成尺寸对应的参数条件和基本构成图案对应的参数条件不同，具体地参数条件根据具体产品的具体膜层来确定。参数检查结果不符合对应的参数条件包括构成尺寸对应的参数检查结果不符合构成尺寸对应的参数条件，和/或，基本构成图案对应的参数检查结果不符合基本构成图案对应的参数条件。当参数检查结果不符合对应的参数条件时，接收对基本构成单元的参数的修改。其中，修改包括构成尺寸的修改、基本构成图案的修改等，例如，基本构成图案的修改包括：将基本构成图案的开孔变大、增加基本构成图案的开孔等。最后将修改后的基本构成单元作为最终的基本构成单元。

该实施例可以对基本构成单元的构成尺寸和基本构成图案进行修改，以提高所对应的基本构成单元的准确性，提高最后生成的目标掩膜版图的准确性。另一方面，对基本构成单元进行修改，相对修改整个的目标图案信息，所对应的速度更快、也避免出现多次修改导致的不正确的情况产生。

步骤S106，根据基本构成单元生成目标掩膜版图。

其中，该目标掩膜版图为一个目标产品的对应膜层的掩膜版图。目标产品指的是根据目标掩膜版图所生成的目标产品，该目标产品为虚拟产品。上文中提及的产品是指现实生活中已经存在/未来可存在的真实产品。

在一实施例中，步骤S106，包括：根据构成尺寸和产品的尺寸信息确定基本构成单元对应的第一数量；根据产品的尺寸信息，确定基本构成单元的第一排布方式；在初始掩膜模板上按照第一排布方式生成第一数量的基本构成单元，以生成目标掩膜版图。

可以理解地，第一排布方式指的是基本构成单元的重复方式。一般情况下，第一排布方式为阵列排布。其中，可根据产品的尺寸信息和目标图案信息来确定基本构成单元的第一排布方式。确定了基本构成单元的重复的第一数量和第一排布方式后，在初始掩膜模板上按照第一排布方式生成第一数量的基本构成单元，以生成目标掩膜版图。

该目标掩膜版图是一个目标产品所对应的掩膜版图。如图2所示，在玻璃基板11上，对应有一个目标产品12，该目标产品所对应的目标掩膜版图13为目标产品12所对应的掩膜版图。需要注意的是，该目标掩膜版图仅仅是一个示意图，还存在各种类型的目标掩膜版图。

图3为本申请实施例提供的掩膜版图生成方法的另一流程示意图，图4为本申请实施例提供的掩膜版图生成方法的又一流程示意图。请结合图4的流程示意图参看图3所示的实施例的掩膜版图生成方法的流程。请参阅图3，该掩膜版图生成方法包括如下步骤。

步骤S201，获取待设计的目标掩膜所对应的产品的第一特征信息。

该第一特征信息包括产品品牌信息、产品型号信息和/或产品版本信息。

步骤S202，获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数。

步骤S203，根据产品的第一特征信息获取产品的第二特征信息。

该第二特征信息包括产品的尺寸信息、以及轮廓信息或者轮廓线条信息。

步骤S204，根据生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息。

步骤S205，根据基板信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系。

步骤S206，根据第二特征信息和玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元。

步骤S207，根据基本构成单元生成目标掩膜版图。

其中，上述步骤S201-S207请参看上文中对应的步骤描述，在此不再赘述。

步骤S208，在玻璃基板上生成与目标掩膜版图对应的目标产品的产品图案。

该实施例中根据目标掩膜版图在玻璃基板上生成对应的目标产品的产品图案，以模拟在对应的生产线的玻璃基板上形成与目标掩膜版图对应的目标产品的产品图案。

在一实施例中，第二特征信息包括产品的尺寸信息。对应地，步骤S208，包括：根据产品的尺寸信息和玻璃基板的基板信息，确定在玻璃基板上能形成的目标掩膜版图对应的目标产品的第二数量，以及目标产品的第二排布方式；根据所生成的目标掩膜版图，在玻璃基板上按照第二排布方式形成第二数量的目标产品的产品图案。

基板信息包括玻璃基板的尺寸大小等信息。根据产品的尺寸信息和玻璃基板的基板信息，确定能形成的目标产品的第二数量和第二排布方式。其中，第二数量可以为9个，第二排布方式为3*3的阵列排布方式。如此，按照3*3的阵列排布方式形成9个目标产品的产品图案。该目标产品的产品图案为根据目标掩膜版图进行光照之后得到的产品图案。需要注意的是，图中目标产品的产品图案并没有画出来。

如图5所示，为本申请实施例提供的在玻璃基板上形成的目标产品的示意图。在玻璃基板11上，对应有9个目标产品12，该9个目标产品12以3*3的阵列排布方式进行排布。需要注意的是，目标产品12中对应有产品图案，在图5中并未示出。

上述方法实施例根据基板信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，根据待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息和所建立的玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元，再根据基本构成单元生成目标掩膜版图。自动实现生成掩膜版图，提高掩膜版图的生成效率，提高设计掩膜版图的效率。最后根据目标掩膜版在图玻璃基板上生成与目标掩膜版图对应的目标产品的产品图案，自动生成目标产品的产品图案，提高产品图案生成的效率和速度。

本申请实施例还提供了一种掩膜版图，该掩膜版图包括利用上述掩膜版图生成方法的任一实施例生成的目标掩膜版图。其中，具体内容请参看上述实施例的描述，在此不再赘述。

为了更好实施本申请实施例中的掩膜版图生成方法，在掩膜版图生成方法的基础之上，本申请实施例中还提供一种掩膜版图生成装置，如图6所示，该掩膜版图生成装置包括：获取模块301、建立模块302、确定模块303以及生成模块304。

获取模块301，用于获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；以及获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；所述获取模块，还用于根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息。

其中，获取模块301在执行获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息的步骤时，具体执行：获取待设计的目标掩膜所对应的产品的产品品牌信息、产品型号信息和/或产品版本信息；根据所述产品品牌信息、产品型号信息和/或产品版本信息获取产品的特征信息。

建立模块302，用于根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系。

其中，建立模块302，具体用于根据初始掩膜模板信息和掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息；根据基板信息和确定了目标图案信息的初始掩膜模板信息，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，该关系包括玻璃基板与目标图案信息之间的关系。

在一实施例中，掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层，对应地，建立模块302，在执行根据初始掩膜模板信息和掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤时，具体执行：从图案模板库中获取与膜层和特征信息匹配的目标图案模板；根据初始掩膜模板信息和目标图案模板，确定初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。

在一实施例中，掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层和该膜层所对应的掩膜生成规范，对应地，建立模块302，在执行根据初始掩膜模板信息和掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤时，具体执行：根据膜层和该膜层所对应的掩膜生成规范，生成掩膜图案信息；将掩膜图案信息确定为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。

在一实施例中，掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层和该膜层所对应的掩膜生成规范，对应地，建立模块302，在执行根据初始掩膜模板信息和掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤时，具体执行：从图案模板库中获取与膜层和特征信息匹配的目标图案模板，根据初始掩膜模板信息和目标图案模板，确定初始掩膜模板上待生成的第一目标图案信息；再根据膜层和掩膜生成规范，生成掩膜图案信息，将该掩膜图案信息确定为初始掩膜模板上待生成的第二目标图案信息；将第一目标图案信息和第二目标图案信息进行比对，以得到比对结果；当所述比对结果不相同时，将第一目标图案信息作为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息，或者将第二目标图案信息作为初始掩膜模板上待生成的目标图案信息。

确定模块303，用于根据特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元。

其中，确定模块303，具体用于识别目标图案信息中的最小重复单元，将最小重复单元作为基本构成图案；根据产品的特征信息和初始掩膜模板信息确定基本构成图案的构成尺寸；将对应构成尺寸的基本构成图案确定为待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元。

在一实施例中，确定模块303，在确定了基板构成单元之后，还用于对基本构成单元进行参数检查以得到参数检查结果，所述参数检查包括构成尺寸的检查、基本构成单元的基本构成图案的检查等等；当所述参数检查结果不符合对应的参数条件时，接收对所述基本构成单元的参数的修改，将修改后的基本构成单元作为最终的基本构成单元。

生成模块304，用于根据基本构成单元生成目标掩膜版图。

其中，生成模块304，具体用于根据构成尺寸和产品的尺寸信息确定基本构成单元对应的第一数量；根据产品的尺寸信息，确定基本构成单元的第一排布方式；在初始掩膜模板上按照第一排布方式生成第一数量的基本构成单元，以生成目标掩膜版图。

在一实施例中，生成模块304，还用于在玻璃基板上生成与目标掩膜版图对应的目标产品的产品图案。

对应地，生成模块304，在执行在玻璃基板上生成与目标掩膜版图对应的目标产品的产品图案的步骤时，具体执行：根据产品的尺寸信息和玻璃基板的基板信息，确定在玻璃基板上能形成的目标掩膜版图对应的目标产品的第二数量，以及目标产品的第二排布方式；根据所生成的目标掩膜版图，在玻璃基板上按照第二排布方式形成第二数量的目标产品的产品图案。

该掩膜版图生成装置的具体内容和达到的有益效果请参看上文中的掩膜版图生成方法的对应描述和达到的有益效果，在此不再赘述。

本申请实施例还提供一种计算机设备，其集成了本申请实施例所提供的任一种掩膜版图生成方法，所述计算机设备包括：

一个或多个处理器；

存储器；以及

一个或多个计算机程序，其中所述一个或多个计算机程序被存储于所述存储器中，并配置为由所述处理器执行上述任一实施例中所述的掩膜版图生成方法中的步骤。

本申请实施例还提供一种计算机设备，其集成了本申请实施例所提供的任一种层级数据处理装置。如图7所示，其示出了本申请实施例所涉及的计算机设备的结构示意图，具体来讲：

该计算机设备可以包括一个或者一个以上处理核心的处理器401、一个或一个以上计算机可读存储介质的存储器402、电源403和输入单元404等部件。本领域技术人员可以理解，图中示出的计算机设备结构并不构成对计算机设备的限定，可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件布置。其中：

处理器401是该计算机设备的控制中心，利用各种接口和线路连接整个计算机设备的各个部分，通过运行或执行存储在存储器402内的软件程序(计算机程序)和/或模块，以及调用存储在存储器402内的数据，执行计算机设备的各种功能和处理数据，从而对计算机设备进行整体监控。可选的，处理器401可包括一个或多个处理核心；优选的，处理器401可集成应用处理器和调制解调处理器，其中，应用处理器主要处理操作系统、用户界面和应用程序等，调制解调处理器主要处理无线通信。可以理解的是，上述调制解调处理器也可以不集成到处理器401中。

存储器402可用于存储软件程序以及模块，处理器401通过运行存储在存储器402的软件程序以及模块，从而执行各种功能应用以及数据处理。存储器402可主要包括存储程序区和存储数据区，其中，存储程序区可存储操作系统、至少一个功能所需的应用程序(比如声音播放功能、图像播放功能等)等；存储数据区可存储根据计算机设备的使用所创建的数据等。此外，存储器402可以包括高速随机存取存储器，还可以包括非易失性存储器，例如至少一个磁盘存储器件、闪存器件、或其他易失性固态存储器件。相应地，存储器402还可以包括存储器控制器，以提供处理器401对存储器402的访问。

计算机设备还包括给各个部件供电的电源403，优选的，电源403可以通过电源管理系统与处理器401逻辑相连，从而通过电源管理系统实现管理充电、放电、以及功耗管理等功能。电源403还可以包括一个或一个以上的直流或交流电源、再充电系统、电源故障检测电路、电源转换器或者逆变器、电源状态指示器等任意组件。

该计算机设备还可包括输入单元404，该输入单元404可用于接收输入的数字或字符信息，以及产生与用户设置以及功能控制有关的键盘、鼠标、操作杆、光学或者轨迹球信号输入。

尽管未示出，计算机设备还可以包括显示单元等，在此不再赘述。具体在本实施例中，计算机设备中的处理器401会按照如下的指令，将一个或一个以上的应用程序的进程对应的可执行文件加载到存储器402中，并由处理器401来运行存储在存储器402中的应用程序，从而实现各种功能，如下：

获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。

本领域普通技术人员可以理解，上述实施例的各种方法中的全部或部分步骤可以通过指令来完成，或通过指令控制相关的硬件来完成，该指令可以存储于一计算机可读存储介质中，并由处理器进行加载和执行。

为此，本申请实施例提供一种计算机可读存储介质，该计算机存储介质可以包括：只读存储器(ROM，Read Only Memory)、随机存取记忆体(RAM，Random Access Memory)、磁盘或光盘等。其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器进行加载，以执行本申请实施例所提供的任一种掩膜版图生成方法中的步骤。例如，所述计算机程序被处理器进行加载可以执行如下步骤：

获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见上文针对其他实施例的详细描述，此处不再赘述。

具体实施时，以上各个单元或结构可以作为独立的实体来实现，也可以进行任意组合，作为同一或若干个实体来实现，以上各个单元或结构的具体实施可参见前面的方法实施例，在此不再赘述。

以上各个操作的具体实施可参见前面的实施例，在此不再赘述。

以上对本申请实施例所提供的一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及存储介质进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种掩膜版图生成方法，其特征在于，包括：

获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；

获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；

根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；

根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；

根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；

根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。

2.根据权利要求1所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述初始掩膜信息包括初始掩膜模板信息，所述根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系的步骤，包括：

根据所述初始掩膜模板信息和所述掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息；

根据所述基板信息和确定了目标图案信息的初始掩膜模板信息，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，所述关系包括所述玻璃基板与所述目标图案信息之间的关系。

3.根据权利要求2所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层，所述根据所述初始掩膜模板信息和所述掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤，包括：

从图案模板库中获取与所述膜层和所述特征信息匹配的目标图案模板；

根据所述初始掩膜模板信息和所述目标图案模板，确定所述初始掩膜模板上待生成的所述目标图案信息。

4.根据权利要求2所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层和所述膜层所对应的掩膜生成规范，所述根据所述初始掩膜模板信息和所述掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤，包括：

根据所述膜层和所述掩膜生成规范，生成掩膜图案信息；

将所述掩膜图案信息确定为所述初始掩膜模板上待生成的所述目标图案信息。

5.根据权利要求2所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述特征信息包括所述产品的尺寸信息，所述根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元的步骤，包括：

识别所述目标图案信息中的最小重复单元，将所述最小重复单元作为基本构成图案；

根据所述产品的尺寸信息和所述初始掩膜模板信息确定所述基本构成图案的构成尺寸；

将所述构成尺寸的所述基本构成图案确定为所述待设计的目标掩膜所对应的所述基本构成单元。

6.根据权利要求5所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图的步骤，包括：

根据所述构成尺寸和所述产品的尺寸信息确定所述基本构成单元对应的第一数量；

根据所述产品的尺寸信息，确定所述基本构成单元的第一排布方式；

在所述初始掩膜模板上按照所述第一排布方式生成所述第一数量的所述基本构成单元，以生成所述目标掩膜版图。

7.根据权利要求1所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述特征信息包括所述产品的尺寸信息，在生成目标掩膜版图的步骤之后，还包括：

根据所述产品的尺寸信息和所述玻璃基板的基板信息，确定在所述玻璃基板上能形成的所述目标掩膜版图对应的目标产品的第二数量，以及所述目标产品的第二排布方式；

根据所生成的所述目标掩膜版图，在所述玻璃基板上按照所述第二排布方式形成所述第二数量的所述目标产品的产品图案。

8.一种掩膜版图生成装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；以及获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；

所述获取模块，还用于根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；

建立模块，用于根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；

确定模块，用于根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；

生成模块，用于根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。

9.一种计算机设备，其特征在于，所述计算机设备包括：

一个或多个处理器；存储器；以及一个或多个计算机程序，其中所述处理器和所述存储器相连接，所述一个或多个计算机程序被存储于所述存储器中，并配置为由所述处理器执行以实现权利要求1至7中任一项所述的掩膜版图生成方法。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器进行加载，以执行权利要求1至7中任一项所述的掩膜版图生成方法。

Images